真空室装置制造方法及图纸

一种真空室装置(100)，其具有：真空室(102)，其具有第一供应通道(102v)；基板保持装置(104)，其具有用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)和用于向基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108)，其中供应壳体(108)具有第二供应通道(108v)；支承装置(106)，基板固定装置(104)借助于该支承装置被可移动地支撑在真空室(102)内；以及供应软管(112)，其将第一供应通道(102v)连通至第二供应通道(108v)。

【技术实现步骤摘要】
真空室装置
各种说明性实施例涉及真空室装置并且涉及真空处理装置或真空涂覆装置。
技术介绍
一般而言，许多不同的方法被用于处理基板。例如，玻璃板、塑料片、金属带、薄膜、晶圆、工件或类似物可用作基板。在常规实践中，例如可以借助于处理设备(例如真空处理设施、大气压力处理设施或超压处理设施)单独或一起处理基板。为了在真空室中处理相应的基板，例如可能需要将介质(例如电能、冷却水、处理气体、真空、扭矩等)输送到真空室中，可以通过相应的昂贵的设计以常规方式实现这一点。例如，它们可以借助于真空通道(也称为通道、馈通等)在任何所需的位置被引入到真空室中。然而，在大量介质以及这些介质可供使用的多个位置的情况下，这导致需要相应的大量真空通道，并且这可能在成本方面带来不利。
技术实现思路
根据各个实施例，提供了一种用于处理基板的真空室装置，例如用于同时处理多个基板，例如涡轮叶片，例如航空器涡轮叶片等。在这种情况下，以低成本并以有效方式在真空室中提供介质的相应路线。一般而言，借助于气相沉积(例如物理或化学气相沉积)，涡轮叶片或其它基板可以设置有一个或多个保护层，例如陶瓷保护层，以便例如改善其磨损行为。例如，涡轮叶片可以通过陶瓷涂层来涂覆，尤其是针对相对于热气体的绝热。根据各个实施例，为此目的使用的真空涂覆设施可具有至少一个加载室、加热室和涂覆室，或者可由这些构成。例如，借助于数量较少但例如具有多种功能(例如在共同处理室中加载和加热)的室，也可以提供用于相同用途的设施。根据各个实施例，可以实现以下中的至少一个，以例如提高生产率：1.用于每个基板传送单元的基板载体的双重布置。2.加载室和加热室的双重或四重布置，它们顺序地用于蒸气涂覆室的双向涂覆。3.串联设施，其中基板基于循环时间线性地移动通过真空涂覆设施。根据各个实施例，基板载体(例如在本文中称为基板保持器或基板接收器)可以固定在大气箱(例如在本文中称为供应壳体)上。例如，所有需要的驱动器和介质连接部均位于此箱中。此箱中的驱动器和介质连接部可以通过柔性(可弯曲和/或可延展)供应软管供应。例如，供应软管可将大气箱连通到其中布置有大气箱的真空室的室壁中的通孔，从而允许从真空室外部接近大气箱。根据各个实施例，本文描述的真空设施可用于借助于电子束蒸气涂覆来涂覆涡轮叶片。在这种情况下，基板传送单元(例如在本文中称为基板保持装置)可以布置为使得在真空设施中纵向地移动，并且可具有以下部件或由以下部件构成：带有运输辊子的底架、纵向驱动器(例如借助于螺钉或主轴和驱动器)以及热屏蔽件。大气箱可以布置在底架上。例如，可以在箱中布置以下中的至少一个：用于相互独立地倾斜一个或多个(例如两个)基板载体的驱动器、用于旋转基板的驱动器、用于冷却水的连接部、用于中间真空抽取的连接部、用于空气循环的连接部以及所有需要的电连接部。例如，两个基板载体可以借助于两个支撑臂可枢转地固定在箱上。例如，相应的基板载体可以借助于支撑臂可枢转地固定在箱上。例如，可以在位于加载室和加热室中的轨道上引导基板传送单元。例如，可以借助于位于加载室中的主轴纵向地移动基板传送单元。例如，基板传送单元可以在多个位置(例如三个位置)之间移动：1.加载/卸载；2.加热；3.蒸气涂覆。借助于一条或多条(例如两条)柔性管线(例如在本文中称为供应软管)将用于大气箱的所需介质运载到箱。例如，柔性介质管线通过其一端与加载室法兰连接，使得它们可以连接在大气侧上，而其另一端法兰连接到大气箱。例如，介质管线穿过加热室，而基板传送单元位于蒸气涂覆位置。在这种情况下，介质管线可以布置为使得它们在该位置通过热屏蔽件充分保护免受热辐射。附图说明在附图中示出并且在下面更详细地解释说明性实施例。附图中：图1A和图1B以示意图示出了根据各个实施例的真空室装置，其中基板保持装置安装在真空室中的各个位置；图2A和图2B以示意图示出了根据各个实施例的具有锁定室和处理室的真空室装置；图3A至图3C以示意图示出了根据各个实施例的具有锁定室和两个处理室的真空室装置；图4以示意图示出了根据各个实施例的真空室装置；图5以示意图示出了根据各个实施例的真空室装置；图6以示意图示出了根据各个实施例的基板保持器和供应壳体；图7以示意图示出了根据各个实施例的真空室装置；以及图8以示意图示出了根据各个实施例的布置在真空室中的供应壳体。具体实施方式在下面的详细描述中，将参照附图，附图是说明书的一部分，并且在附图中为了说明目的示出了可以实现本专利技术的具体实施例。在这方面，参照所描述附图的取向使用比如“顶部”、“底部”、“向前”、“向后”、“前”、“后”等的方向术语。由于实施例的各部件可以以多种不同的取向定位，因此方向术语用于说明目的而绝非是限制性的。不言而喻的是，可以使用其它实施例并且可以做出其它结构或逻辑改变，而不超出本专利技术的保护范围。不言而喻的是，除非另有具体说明，否则可以组合本文描述的各个说明性实施例的特征。因此，以下详细描述不应被限制性地解释，并且本专利技术的保护范围由所附权利要求限定。在本说明书的上下文中，术语“连通”、“连接”和“联接”用于描述直接和间接连通、直接或间接连接、以及直接或间接联接。在附图中，相同或相似元件在适宜情况下设有相同的附图标记。图1A和图1B以示意图示出了根据各个实施例的真空室装置100。例如，真空室装置100可具有真空室102。例如，真空室102可具有第一供应通道102v。例如，第一供应通道102v可以设置在真空室102的室壳体的室壁部102w中。例如，真空室装置100可具有基板保持装置104。基板保持装置104可具有用于保持和定位至少一个基板的基板保持器110。例如，可以定位成设置和/或改变基板相对于处理源的位置和/或对齐，其中处理源用于处理借助于基板保持器110保持的一个或多个基板。为此目的，真空室102可具有处理区域或处理室。此外，基板保持装置104可具有真空密封的供应壳体108，用于向基板保持器110供应至少一种供应介质，例如供应机械能或扭矩，供应冷却水等。例如，可以将供应结构108s布置在供应壳体108中，以向基板保持器110供应至少一种供应介质。例如，供应结构108s可具有或设有驱动器，该驱动器联接至基板保持器110以定位基板。此外，供应结构108s可具有或设有冷却剂管道，以冷却基板保持器110和/或冷却供应壳体108自身。根据各个实施例，供应壳体108可具有第二供应通道108v。例如，可以借助于第二供应通道108v将一种或多种介质(例如电能和/或冷却剂)供给到供应壳体108。此外，真空室装置100可具有支承装置106，例如，基板保持装置104借助于该支承装置106在真空室102内可移动地支撑106b。例如，真空室装置100还可具有(例如，真空密封的)供应软管112。例如，供应软管112可将真空室102的第一供应通道102v连通到供应壳体108的第二供应通道108v。根据各个实施例，供应软管112的周缘壁可以是真空密封的。图2A和图2B以示意图示出了根据各个实施例的真空室装置100。在这种情况下，真空室102具有锁定室202a和至少一个处理室202b。此外，阀装置202s(例如，瓣阀、滑动阀或一些其它合适的真空阀)可以用于将锁定室202a与至少一个处理室20本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空室装置(100)，包括：真空室(102)，其包括第一供应通道(102v)；基板保持装置(104)，其包括用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)以及用于向所述基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108)，其中，所述供应壳体(108)包括第二供应通道(108v)；支承装置(106)，所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置被可移动地支撑在所述真空室(102)内；以及供应软管(112)，其将所述第一供应通道(102v)连通到所述第二供应通道(108v)。

【技术特征摘要】
2017.04.26 DE 102017108962.4;2017.05.08 DE 10201711.一种真空室装置(100)，包括：真空室(102)，其包括第一供应通道(102v)；基板保持装置(104)，其包括用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)以及用于向所述基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108)，其中，所述供应壳体(108)包括第二供应通道(108v)；支承装置(106)，所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置被可移动地支撑在所述真空室(102)内；以及供应软管(112)，其将所述第一供应通道(102v)连通到所述第二供应通道(108v)。2.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述真空室(102)包括锁定室(202a)和至少一个处理室(202b)。3.根据权利要求2所述的真空室装置(100)，其中，所述第一供应通道(102v)布置在所述锁定室(202a)的室壁部(202w)中，并且其中，所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置(106)被支撑，使得至少所述基板保持装置(104)的基板保持器(110)能够从所述锁定室(202a)移出并进入到所述至少一个处理室(202b)中和/或从所述至少一个处理室(202b)移出并进入到所述锁定室(202a)中。4.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，供应结构(108s)布置在所述供应壳体(108)中，以便实现以下中的至少一个：操纵定位；冷却所述基板保持器(110)；和/或冷却所述供应壳体(108)。5.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述基板保持器(104)包括至少一个接头(602s、604r)，所述至少一个接头提供用于定位至少一个基板(606)的至少一个移动自由度。6.根据权利要求2所述的真空室装置(100)，其中，所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置(106)被支撑，使得所述基板保持装置能够在至少一个第一位置和一个第二位置之间移动(106b)，并且其中，所述基板保持器(110)在所述第一位置布置在所述锁定室(202a)内，并且其中，所述基板保持器(110)在所述第二位置布置在所述至少一个处理室(202b)内。7.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述基板保持器(110)包括至少一个可枢转支撑的支撑臂(602)。8.根据权利要求7所述的真空室装置(100)，其中，所述至少一个支撑臂(602)包括用于接收和定位至少一个基板(606)的至少一个可旋转支撑的基板接收器(604)。9.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述供应软管(112)是真空密封的并且构造为使得，所述基板保持装置(104)能够在所述真空室(102)内移动，而同时所述供应软管(112)将所述第一供应通道(102v)和所述第二供应通道(108v)彼此连通。10.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述供应软管(112)、所述供应壳体(108)以及所述第一供应通道(102v)和所述第二供应通道(108v)构造为使得，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢茨·戈特斯曼，格奥尔格·拉伊梅尔，延斯·梅尔歇尔，
申请(专利权)人：冯·阿登纳资产股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE