一种供气可调的阴极平台制造技术

本发明专利技术公开了一种供气可调的阴极平台，包括底座、固定在底座上的供气装置和对称设置在供气装置两侧的两个阴极体；供气装置包括底架，中架，左、右侧板，通气板和顶架；中架的左侧面设有主过气凹槽，主过气凹槽经左侧板封闭形成主供气管路，中架的右侧面设有若干个独立的辅过气凹槽，辅过气凹槽经右侧板封闭形成若干个独立的辅供气管路，通气板内部设有若干个横截面呈Y字形的气道；所述Y字形气道的底部入口同时与主供气管路的出口以及辅供气管路的出口相连，所述主供气管路的入口与主进气管道相连，若干个辅供气管路的入口与若干个辅进气管道一一对应相连。该装置既可进行整体供气，又具有局部的供气可调功能。

【技术实现步骤摘要】
一种供气可调的阴极平台
本专利技术涉及真空镀膜生产线
，具体来说，是涉及一种真空镀膜生产线用阴极平台。
技术介绍
真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术，有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。在磁控溅射镀膜工艺中，对磁控溅射镀膜设备的质量要求很高，而在磁控溅射镀膜设备中，供气装置的设置及供气装置的优劣尤为重要，但目前的供气装置均是采用集中供气的方式或分开供气的形式进行阴极平台内部的供气。其中集中供气无法进行局部的供气调整，而现有的分开供气装置往往需要加装大量额外的零件来达成分开供气功能，会造成设备的臃肿。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决以上现有技术的不足，提供一种将主供气与辅供气结合的阴极平台。一种供气可调的阴极平台，包括底座、固定在底座上的供气装置和对称设置在供气装置两侧的两个阴极体；所述的供气装置包括固定在底座上的底架、与底架相连的中架、设置在中架两侧的左、右侧板和横截面呈工字形的顶架；所述中架的左侧面设有主过气凹槽，主过气凹槽经左侧板封闭形成主供气管路，中架的右侧面设有若干个独立的辅过气凹槽，辅过气凹槽经右侧板封闭形成若干个独立的辅供气管路；所述顶架与中架通过通气板相连，所述的通气板内部设有若干个横截面呈Y字形的气道；所述Y字形气道的底部入口同时与主供气管路的出口以及辅供气管路的出口相连，所述主供气管路的入口与主进气管道相连，若干个辅供气管路的入口与若干个辅进气管道一一对应相连。为了实现更均匀的供气，所述的每个辅供气管路均包括三个辅气支路出口，每个辅气支路出口都单独与一个Y字形气道的底部入口相连。优选的，所述的主供气管路设有九个主气支路出口，每个主气支路出口都单独与一个Y字形气道的底部入口相连。为了提升供气装置的结构稳定性，还包括固定于供气装置两侧的左、右挡板。优选的，所述通气板的横截面为箭头形。有益效果：1、设置两个阴极体，并把供气装置设置在两者之间，一方面可以最大程度的利用空间来加工更多的需镀膜工件，另一方面通过磁场的对称分布可以得到高的沉积速率。2、相对于传统的分开供气设计，该供气可调的阴极平台通过中架与通气板的组合完美的实现了将集中主供气与分别辅供气结合的一体化设计，将主供气管路与辅供气管路集中放置在中架上，主、辅供气管路又同时与Y字形气道的底部入口相连，使用时，无论是哪个供气管路进行供气，都会通过Y字形气道两侧的气体出口向两侧的阴极体进行供气操作。在操作时，我们希望主供气管路就可以完成稳定均匀供气的效果，但当某一段靶材的使用情况异常或某一段成膜效果不均匀时，此时可以通过辅供气管路对局部的供气情况进行微调，从而提高靶材的利用率及成膜的均匀性。附图说明图1是本专利技术的总体示意图；图2是本专利技术中阴极体的爆炸图；图3是本专利技术中供气装置的示意图；图4是本专利技术中通气板的剖视图；图5是本专利技术中中架的左视图；图6是本专利技术中中架的右视图；1.底座2.供气装置21.底架22.中架221.主过气凹槽222.辅过气凹槽23.左侧板24.右侧板25.顶架26.通气板27.左挡板28.右挡板3.阴极体31.底板32.绝缘支架33.磁靴34.液冷板35.铜背板36.第二压板37.第一压板38.环形不锈钢垫圈39.环形铝合金垫圈。具体实施方式为了加深对本专利技术的理解，下面将结合实施例和附图对本专利技术作进一步详述，该实施例仅用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术保护范围的限定。如图1-6所示，一种供气可调的阴极平台，包括底座1、固定在底座上的供气装置2和对称设置在供气装置两侧的两个阴极体3；参考图3，所述的供气装置包括固定在底座上的底架21、与底架相连的中架22、设置在中架两侧的左、右侧板和横截面呈工字形的顶架25；如图5所示，所述中架的左侧面设有主过气凹槽221，主过气凹槽经左侧板23封闭形成主供气管路，如图6所示，中架的右侧面设有若干个独立的辅过气凹槽222，辅过气凹槽经右侧板24封闭形成若干个独立的辅供气管路；所述顶架25与中架22通过通气板26相连，如图4所示，所述的通气板26内部设有若干个横截面呈Y字形的气道；所述Y字形气道的底部入口同时与主供气管路的出口以及辅供气管路的出口相连，所述主供气管路的入口与主进气管道相连，若干个辅供气管路的入口与若干个辅进气管道一一对应相连。所述的每个辅供气管路均包括三个辅气支路出口，每个辅气支路出口都单独与一个Y字形气道的底部入口相连。所述的主供气管路设有九个主气支路出口，每个主气支路出口都单独与一个Y字形气道的底部入口相连。还包括固定于供气装置两侧的左挡板27和右挡板28。所述通气板26的横截面为箭头形。在本实施例中，如图2所示，所述的阴极体包括带有环形凹槽的底板31和设置在底板下部的若干个绝缘支架32，所述的绝缘支架32固定于底座1上；所述的环形凹槽内装有磁靴33；所述的底板上由下至上依次设置有液冷板34、铜背板35、用于压紧铜背板的第二压板36、靶材(图中未显示)和用于压紧靶材的第一压板37；所述的液冷板34上表面与所述的环形凹槽相对应位置处设置有环形凸槽，所述的环形凸槽伸入环形凹槽内，且该环形凸槽的外形与环形凹槽内部的形状相匹配，所述的环形凸槽背面经铜背板35封闭形成冷却腔体；所述冷却腔体的底部设有冷却液的出、入口。所述的磁靴33的外表面与环形凹槽的内壁间还依次设有环形不锈钢垫圈38和环形铝合金垫圈39。本阴极平台先通过主过气凹槽221形成的主供气管路对长条状的阴极体进行集中供气，当供气效果接近预期值时，关闭主供气管路，此时打开辅过气凹槽222形成的辅供气管路对各段阴极体进行适当的供气操作，该供气可调的阴极平台可以根据操作者的需求，对阴极体的各段进行均匀供气或不均匀供气，可以获得各种各段膜厚可控的生产需求，并且也可以根据靶材的各段消耗情况，对加工进行适当的供气调整，最终达到节约靶材的效果。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种供气可调的阴极平台，其特征在于，包括底座、固定在底座上的供气装置和对称设置在供气装置两侧的两个阴极体；所述的供气装置包括固定在底座上的底架、与底架相连的中架、设置在中架两侧的左、右侧板和横截面呈工字形的顶架；所述中架的左侧面设有主过气凹槽，主过气凹槽经左侧板封闭形成主供气管路，中架的右侧面设有若干个独立的辅过气凹槽，辅过气凹槽经右侧板封闭形成若干个独立的辅供气管路；所述顶架与中架通过通气板相连，所述的通气板内部设有若干个横截面呈Y字形的气道；所述Y字形气道的底部入口同时与主供气管路的出口以及辅供气管路的出口相连，所述主供气管路的入口与主进气管道相连，若干个辅供气管路的入口与若干个辅进气管道一一对应相连。

【技术特征摘要】
1.一种供气可调的阴极平台，其特征在于，包括底座、固定在底座上的供气装置和对称设置在供气装置两侧的两个阴极体；所述的供气装置包括固定在底座上的底架、与底架相连的中架、设置在中架两侧的左、右侧板和横截面呈工字形的顶架；所述中架的左侧面设有主过气凹槽，主过气凹槽经左侧板封闭形成主供气管路，中架的右侧面设有若干个独立的辅过气凹槽，辅过气凹槽经右侧板封闭形成若干个独立的辅供气管路；所述顶架与中架通过通气板相连，所述的通气板内部设有若干个横截面呈Y字形的气道；所述Y字形气道的底部入口同时与主供气管路的出口以及辅供...

【专利技术属性】
技术研发人员：匡国庆，
申请(专利权)人：镇江市德利克真空设备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32