镀膜方法、金属外壳及终端设备技术

本公开是关于一种镀膜方法、金属外壳及终端设备。该方法包括：在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，所述装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；在沉积所述装饰膜层的过程中，将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，所述预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。本公开提高了装饰膜层的透过率。

【技术实现步骤摘要】
镀膜方法、金属外壳及终端设备
本公开涉及金属加工
，尤其涉及一种镀膜方法、金属外壳及终端设备。
技术介绍
随着金属加工技术的提高和材料成本的降低，越来越多的终端采用金属作为外壳材料。相关技术中，通常需要在金属外壳上沉积装饰膜层。例如，可以采用物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)法沉积金属外壳的装饰膜层。并且，为了解决装饰膜层视觉上不清晰、不通透的问题。通常，采用在装饰膜层上覆盖光学干涉膜的方式获得清晰通透的装饰膜层。
技术实现思路
为克服相关技术中存在的问题，本公开提供一种镀膜方法、金属外壳及终端设备。根据本公开实施例的第一方面，提供一种镀膜方法，包括：在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层；其中，该装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；在沉积该装饰膜层的过程中，将预设物质沉积在该金属外壳表面；其中，该预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。可选的，该在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，包括：在第一时刻启动在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，在第二时刻结束沉积该装饰膜层；该在沉积该装饰膜层的过程中，将预设物质沉积在该金属外壳表面，包括：在该第一时刻启动将预设物质沉积在该金属外壳表面，在该第二时刻结束沉积预设物质；其中，该第一时刻早于该第二时刻。可选的，该预设物质为类金刚石DLC。可选的，该DLC中碳原子与其他原子形成共价键时，杂化类型SP3的体积含量大于或者等于第一阈值，并且小于或者等于第二阈值。可选的，该第一阈值为20％，该第二阈值为80％。可选的，该在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层之前，还包括：在该金属外壳表面沉积过渡金属层。根据本公开实施例的第二方面，提供一种金属外壳。其中，该金属外壳表面沉积有装饰膜层，该装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；该装饰膜层中沉积有预设物质，该预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。可选的，该预设物质均匀分布在该装饰膜层中。可选的，该预设物质为类金刚石DLC。可选的，该DLC中碳原子与其他原子形成共价键时，杂化类型SP3的体积含量大于或者等于第一阈值，并且小于或者等于第二阈值。可选的，该第一阈值为20％，该第二阈值为80％。可选的，该金属外壳表面与该装饰膜层之间沉积有过渡金属层。根据本公开实施例的第三方面，提供一种终端设备，包括：金属外壳。其中，该金属外壳表面沉积有装饰膜层，该装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；该装饰膜层中沉积有预设物质，该预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。可选的，该预设物质均匀分布在该装饰膜层中。可选的，该预设物质为类金刚石DLC。可选的，该DLC中碳原子与其他原子形成共价键时，杂化类型SP3的体积含量大于或者等于第一阈值，并且小于或者等于第二阈值。可选的，该第一阈值为20％，该第二阈值为80％。可选的，该金属外壳表面与该装饰膜层之间沉积有过渡金属层。本公开提供的镀膜方法、金属外壳及终端设备，通过在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，并在沉积该装饰膜层的过程中，将透过率大于或者等于预设透过率的预设物质沉积在该金属外壳表面，提高了装饰膜层的透过率，从而使得装饰膜层清晰、通透，同时避免了在装饰膜层上覆盖光学干涉膜的方式获得清晰通透的装饰膜层所带来的弧面存在彩虹纹等的问题。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。图1是根据一示例性实施例示出的一种镀膜方法的框图；图2是根据一示例性实施例示出的一种金属外壳的框图；图3是根据另一示例性实施例示出的一种镀膜方法的框图；图4是根据另一示例性实施例示出的一种金属外壳的框图；图5是根据又一示例性实施例示出的一种终端设备800的框图。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。图1是根据一示例性实施例示出的一种镀膜方法的框图。本实施例提供的镀膜方法的执行主体可以为镀膜设备。如图1所示，本实施例的方法可以包括以下步骤：在步骤101中，在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，该装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体。本步骤中，该金属外壳例如可以为不绣钢外壳。可选的，可以采用物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)法、化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition，CVD)法等在金属外壳表面沉积装饰膜层。以基于PVD法在金属外壳的表面沉积装饰膜层为例，可以基于表面颜色的不同而选择不同的靶材和/或气体制造装饰膜层。例如，可以用钛靶和CH4、C2H2、O2、N2等获得类金色、黑色、灰色、仿铜色等的钛化合物(TiOxCy、TiOxNy、TiNx等)；或者，可以用不锈钢靶(SUS)和CH4、C2H2、O2、N2等获得黑色、绿色、蓝色、紫色等的不锈钢化合物(SUSOxCy、SUSOxNy、SUSNx等)；或者，可以用铬靶(Cr)和CH4、C2H2、O2、N2等获得黑色、绿色、蓝色、紫色等的铬化合物(CrOxCy、CrOxNy、CrNx等)。需要说明的是，关于沉积装饰膜层的具体方式，本公开并不作限制。在步骤102中，在沉积该装饰膜层的过程中，将预设物质沉积在该金属外壳表面。本步骤中，该预设物质可以为高透过率的物质，具体可以为透过率大于或者等于预设透过率的物质。具体的，在一段时间内，可以同时沉积该装饰膜层和该预设物质。可选的，该段时间的时长具体可以为沉积装饰膜层的总时长，或者也可以小于该总时长。可选的，启动在金属外壳表面沉积装饰膜层和在金属外壳表面沉积预设物质的具体方式可以为下述中的任意一种：可以同时启动沉积装饰膜层和沉积预设物质；或者，也可以先启动沉积装饰膜层，再启动沉积预设物质；或者，也可以先启动沉积预设物质，再启动沉积装饰膜层。可选的，结束沉积该装饰膜层和该预设物质的具体方式可以为下述中的任意一种：具体可以同时结束沉积装饰膜层和沉积预设物质；或者，也可以先结束沉积装饰膜层，再结束沉积预设物质；或者，也可以先结束沉积预设物质，再结束沉积装饰膜层。需要说明的是，上述启动在金属外壳表面沉积装饰膜层和在金属外壳表面沉积预设物质的具体方式，与上述结束沉积该装饰膜层和该预设物质的具体方式，可以任意结合。例如，可以同时启动沉积装饰膜层和沉积预设物质，一段时长后，同时结束沉积装饰膜层和沉积预设物质。又例如，可以同时启动沉积装饰膜层和沉积预设物质，一段时长后，先结束沉积装饰膜层，再结束沉积预设物质。又例如，可以先启动沉积预设物质，再启动沉积装饰膜层，一段时长之后，同时结束沉积装饰膜层和沉积预设物质。右例如，可以先启动沉积预设物质，再启动沉积装饰膜层，一段时长之后，可以先结束沉积预设物质，再结束沉积装饰膜层。本实施例中，在金属外壳表面20沉积装饰膜层21的过程中，在该金属外壳表面20沉积预设物质22之后，金属外本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜方法，其特征在于，包括：在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，所述装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；在沉积所述装饰膜层的过程中，将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，所述预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜方法，其特征在于，包括：在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，所述装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；在沉积所述装饰膜层的过程中，将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，所述预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，包括：在第一时刻启动在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，在第二时刻结束沉积所述装饰膜层；所述在沉积所述装饰膜层的过程中，将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，包括：在所述第一时刻启动将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，在所述第二时刻结束沉积预设物质；其中，所述第一时刻早于所述第二时刻。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述预设物质为类金刚石DLC。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述DLC中碳原子与其他原子形成共价键时，杂化类型SP3的体积含量大于或者等于第一阈值，并且小于或者等于第二阈值。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一阈值为20％，所述第二阈值为80...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兵，
申请(专利权)人：北京小米移动软件有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11