掩模片、掩模板及其组装方法技术

一种掩模片、掩模板以及掩模板的组装方法。该掩模片包括至少一个掩模区域以及围绕所述掩模区域的周边区域；所述掩模片位于周边区域的至少一个边缘部包括厚度减薄部。由此，该掩模片提供一种新型的掩模片，使得使用该掩模片的掩模板无需设置覆盖条，从而可降低掩模板整体的焊接的节拍时间，提高掩模板的组装效率。

【技术实现步骤摘要】
掩模片、掩模板及其组装方法
本专利技术的实施例涉及一种掩模片、一种掩模板以及一种掩模板的组装方法。
技术介绍
随着显示技术的不断发展，通常的显示器包括液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)、有机电致发光显示器(OrganicLightEmittingDiode，OLED)、等离子显示器(PlasmaDisplayPanel，PDP)以及电子墨水(ElectronicInk)显示器等。因其具有功耗低、轻薄、高色域、显示亮度高、可视角度宽以及响应速度快等优点，有机电致发光显示器显示器越来越受到市场的欢迎。精细金属掩模板(FMMMask)是由框架(Frame)、覆盖条(Cover)、支撑条(Howling)以及精细金属掩模片(FineMetalMaskSheet，FMMSheet)焊接组合而成。精细金属掩模片是一种将沉积材料或蒸镀材料沉积或蒸镀到基板上并形成精细图案的掩模片。通常，精细金属掩模片(FMMSheet)包括多个允许沉积材料通过的开口，例如多个方形狭缝或多个条形狭缝，以将沉积材料或蒸镀材料沉积或蒸镀到基板上并形成精细图案的掩模。
技术实现思路
本专利技术至少一个实施例提供一种掩模片、一种掩模板以及一种掩模板的组装方法。该掩模片提供一种新型的掩模片，使得使用该掩模片的掩模板无需设置覆盖条，从而可降低掩模板整体的焊接的节拍时间，提高掩模板的组装效率。本专利技术至少一个实施例提供一种掩模片，其包括：至少一个掩模区域；以及围绕所述掩模区域的周边区域，所述掩模片位于所述周边区域的至少一个边缘部包括厚度减薄部。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模片中，所述掩模片具有一延伸方向，所述至少一个边缘部包括沿所述延伸方向延伸的第一边缘部和第二边缘部，所述第一边缘部和所述第二边缘部包括所述厚度减薄部。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模片中，所述厚度减薄部包括上厚度减薄部或下厚度减薄部，所述上厚度减薄部为从所述掩模片的上表面去除部分厚度得到的，所述下厚度减薄部为从所述掩模片的下表面去除部分厚度得到的。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模片中，所述厚度减薄部的横截面形状包括阶梯形或梯形。本专利技术至少一个实施例提供一种掩模板，其包括：第一掩模片，包括至少一个第一掩模区域以及围绕所述第一掩模区域的第一周边区域，所述第一掩模片位于所述第一周边区域的至少一个边缘部包括上厚度减薄部；以及第二掩模片，包括至少一个第二掩模区域以及围绕所述第二掩模区域的第二周边区域，所述第二掩模片位于所述第二周边区域的至少一个边缘部包括下厚度减薄部，所述第一掩模片和所述第二掩模片交替设置，且相邻的所述第一掩模片和所述第二掩模片的所述上厚度减薄部和所述下厚度减薄部至少部分交叠设置。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板中，所述第一掩模片具有第一延伸方向，所述第一掩模片包括位于所述第一周边区域且沿所述第一延伸方向延伸的第一边缘部和第二边缘部，所述第一边缘部和所述第二边缘部包括所述上厚度减薄部；所述第二掩模片具有第二延伸方向，所述第二掩模片包括位于第二周边区域且沿所述第二延伸方向延伸的第三边缘部和第四边缘部，所述第三边缘部和所述第四边缘部包括所述下厚度减薄部。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板中，所述第一周边区域和所述第二周边区域的厚度相同，交叠设置的所述上厚度减薄部与所述下厚度减薄部的整体厚度与所述第一周边区域和/或所述第二周边区域的厚度相同。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板中，所述上厚度减薄部和所述下厚度减薄部的横截面形状包括阶梯形或梯形。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板中，还包括：框架，包括一开口；多个支撑条，各所述支撑条的两端固定设置在所述框架上，所述第一掩模片和所述第二掩模片交替设置在所述支撑条上，并固定设置在所述框架上以将所述开口完全遮挡。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板中，所述支撑条在所述第一掩模片上的正投影落入所述第一掩模片的所述第一周边区域，所述支撑条在所述第二掩模片上的正投影落入所述第二掩模片的所述第二周边区域。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板中，所述框架包括支撑条安装面，各所述支撑条的两端固定设置在所述支撑条安装面上。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板中，所述第一延伸方向和所述第二延伸方向垂直于所述支撑条的第三延伸方向。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板中，所述掩模板不设置沿所述第一延伸方向并位于相邻的所述第一掩模片和所述第二掩模片之间的覆盖条。本专利技术至少一个实施例提供一种掩模板的组装方法，所述掩模板包括：第一掩模片，包括至少一个第一掩模区域以及围绕所述第一掩模区域的第一周边区域，所述第一掩模片位于所述第一周边区域的至少一个边缘部包括上厚度减薄部；以及第二掩模片，包括至少一个第二掩模区域以及围绕所述第二掩模区域的第二周边区域，所述第二掩模片位于所述第二周边区域的至少一个边缘部包括上厚度减薄部，所述组装方法包括：间隔安装所述第一掩模片；以及在所述第一掩模片的旁边安装所述第二掩模片，所述第二掩模片的所述下厚度减薄部至少部分覆盖所述第一掩模片的所述上厚度减薄部。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板的组装方法中，所述掩模板还包括框架和多个支撑条，所述框架包括一开口，所述组装方法还包括：将各所述支撑条的两端固定安装在所述框架上；以及将所述第一掩模片和所述第二掩模片交替安装在所述支撑条上，并固定在所述框架上以将所述开口完全遮挡。例如，在本专利技术一实施例提供的掩模板的组装方法中，所述框架还包括支撑条安装面，所述组装方法还包括：根据所述第一掩模片上的第一掩模区域的位置和所述第二掩模片上的第二掩模区域的位置安装所述支撑条以使所述支撑条在所述第一掩模片上的正投影落入所述第一周边区域，所述支撑条在所述第二掩模片上的正投影落入所述第二周边区域。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。图1为一种掩模板的平面示意图；图2为本专利技术一实施例提供的一种掩模片的平面示意图；图3为本专利技术一实施例提供的另一种掩模片的平面示意图；图4为本专利技术一实施例提供的另一种掩模片的平面示意图；图5为本专利技术一实施例提供的另一种掩模片的平面示意图；图6为本专利技术一实施例提供的一种厚度减薄部的横截面示意图；图7为本专利技术一实施例提供的另一种厚度减薄部的横截面示意图；图8为本专利技术一实施例提供的一种掩模板的局部平面示意图；图9为本专利技术一实施例提供的另一种掩模板的局部平面示意图；图10为本专利技术一实施例提供的一种掩模板的平面示意图；图11为本专利技术一实施例提供的一种支撑条安装面的示意图；以及图12为本专利技术一实施例提供的一种掩模板组装方法的流程图。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模片，包括：至少一个掩模区域；以及围绕所述掩模区域的周边区域，其中，所述掩模片位于所述周边区域的至少一个边缘部包括厚度减薄部。

【技术特征摘要】
1.一种掩模片，包括：至少一个掩模区域；以及围绕所述掩模区域的周边区域，其中，所述掩模片位于所述周边区域的至少一个边缘部包括厚度减薄部。2.根据权利要求1所述的掩模片，其中，所述掩模片具有一延伸方向，所述至少一个边缘部包括沿所述延伸方向延伸的第一边缘部和第二边缘部，所述第一边缘部和所述第二边缘部包括所述厚度减薄部。3.根据权利要求1或2所述的掩模片，其中，所述厚度减薄部包括上厚度减薄部或下厚度减薄部，所述上厚度减薄部为从所述掩模片的上表面去除部分厚度得到的，所述下厚度减薄部为从所述掩模片的下表面去除部分厚度得到的。4.根据权利要求1或2所述的掩模片，其中，所述厚度减薄部的横截面形状包括阶梯形或梯形。5.一种掩模板，包括：第一掩模片，包括至少一个第一掩模区域以及围绕所述第一掩模区域的第一周边区域，所述第一掩模片位于所述第一周边区域的至少一个边缘部包括上厚度减薄部；以及第二掩模片，包括至少一个第二掩模区域以及围绕所述第二掩模区域的第二周边区域，所述第二掩模片位于所述第二周边区域的至少一个边缘部包括下厚度减薄部，其中，所述第一掩模片和所述第二掩模片交替设置，且相邻的所述第一掩模片和所述第二掩模片的所述上厚度减薄部和所述下厚度减薄部至少部分交叠设置。6.根据权利要求5所述的掩模板，其中，所述第一掩模片具有第一延伸方向，所述第一掩模片包括位于所述第一周边区域且沿所述第一延伸方向延伸的第一边缘部和第二边缘部，所述第一边缘部和所述第二边缘部包括所述上厚度减薄部；所述第二掩模片具有第二延伸方向，所述第二掩模片包括位于所述第二周边区域且沿所述第二延伸方向延伸的第三边缘部和第四边缘部，所述第三边缘部和所述第四边缘部包括所述下厚度减薄部。7.根据权利要求5所述的掩模板，其中，所述第一周边区域和所述第二周边区域的厚度相同，交叠设置的所述上厚度减薄部与所述下厚度减薄部的整体厚度与所述第一周边区域和/或所述第二周边区域的厚度相同。8.根据权利要求5所述的掩模板，其中，所述上厚度减薄部和所述下厚度减薄部的横截面形状包括阶梯形、或梯形。9.根据权利要求5-8中任一项所述的掩模板，还包括：框架，包括一...

【专利技术属性】
技术研发人员：金龙，黄俊杰，唐富强，曹飞，吴文泽，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11