基板清洗装置、显影机及基板清洗方法制造方法及图纸

本申请公开了一种基板清洗装置、显影机及基板清洗方法，该基板清洗装置包括清洗液的输出管道，且输出管道与待清洗基板相对的一面设置有多个出液喷头，基板清洗装置还包括一驱动装置，驱动装置与输出管道连接，用于驱动输出管道按照设定频率沿设定方向移动，通过此种方式增加玻璃基板表面水膜流动性及水膜厚度均一性，减少由于水膜不均一造成的品质不良。

【技术实现步骤摘要】
基板清洗装置、显影机及基板清洗方法
本申请涉及显示
，特别是涉及一种对基板进行清洗处理的基板清洗装置、显影机及基板清洗方法。
技术介绍
彩膜基板制作工艺中，需要先对玻璃基板进行清洗，然后在进行将光阻材料涂布至基板上，使用干燥系统将大部分溶剂抽除，进行预烘烤、曝光、显影及后烘烤等工艺。目前对玻璃基板的清洗主要是去除玻璃基板上的微尘颗粒、异物和有机物等脏污，主要通过滚轮、喷淋机等结构来实现。具体地，在玻璃基板在清洗过程中，由玻璃基板清洗装置的滚轮传送前进，同时通过玻璃基板清洗装置的喷淋机构喷洒水或药液、洗剂等，冲刷表面的微尘颗粒、异物和有机物等脏污并使之脱离。但是上述方式和结构容易出现水膜不均，产生水残留，色不均等品质不良的问题。
技术实现思路
本申请主要解决的技术问题是提供一种基板清洗装置，显影机及基板清洗方法，能够有效增加基板表面水膜流动性及水膜厚度均一性，减少水膜不均一造成的品质不良，提高产品良率。为解决上述技术问题，本申请采用的第一个技术方案是：提供一种基板清洗装置，该基板清洗装置包括清洗液的输出管道，且输出管道与待清洗基板相对的一面设置有多个出液喷头；基板清洗装置还包括一驱动装置，驱动装置与输出管道连接，用于驱动输出管道按照设定频率沿设定方向移动。为解决上述技术问题，本申请采用的第二个技术方案是：提供一种显影机，该显影机包括上述任一实施方式的基板清洗装置。为解决上述技术问题，本申请采用的第三个技术方案是：提供一种基板清洗方法，该基板清洗的方法包括：清洗液的输出管道在其出液喷头出液的同时，在驱动装置的驱动下，按照设定频率沿设定方向移动以对所述待清洗基板进行清洗；其中，出液喷头设置于输出管道与待清洗基板相对的一面。本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供的基板清洗装置包括清洗液的输出管道，且输出管道与待清洗基板相对的一面设置有多个出液喷头；基板清洗装置还包括一驱动装置，驱动装置与输出管道连接，用于驱动输出管道按照设定频率沿设定方向移动，通过此种方式增加玻璃基板表面水膜流动性及水膜厚度均一性，减少水膜不均一造成的品质不良，提高产品的良率。附图说明图1是本申请提供的基板清洗装置一实施例的结构示意图；图2是本申请提供的基板清洗装置另一实施例的结构示意图；图3是本申请提供的基板清洗方法一实施方式流程示意图；图4是本申请提供的基板清洗方法另一实施方式流程示意图。具体实施方式本申请提供一种基板清洗装置、显影机及基板清洗方法，为使本申请的目的、技术方案和技术效果更加明确、清楚，以下对本申请进一步详细说明，应当理解此处所描述的具体实施条例仅用于解释本申请，并不用于限定本申请。参阅图1，图1是本申请基板清洗装置一实施例结构示意图，该基板清洗装置包括清洗液的输出管道11，在输出管道11与待清洗基板14相对的一面设置有多个出液喷头12，本实施例中输出管道11的数量为一根，在其他实施方式中，也可根据实际需要设置多根，出液喷头12的数量可根据待清洗基板14的大小来确定，在一个具体的实施例中，待清洗基板14为G6玻璃，尺寸为1500*1850mm，此时出液喷头12的数量优选5个，出液喷头12喷出的伞形水幕的角度约为150度。本实施例中基板清洗装置还包括一驱动装置13，驱动装置13与输出管道11连接，用于驱动输出管道11按照设定频率沿设定X方向移动，在清洗过程中，待清洗基板14通过传送装置沿Y方向传送，在一个优选的实施方式中，设定频率为20次/分钟，在其他实施方中，设定频率也可以为25次/分钟或30次/分钟，可根据传送速度设定，在此不做限定。在本实施方式中，设定方向X与待清洗基板14的传送方向Y的夹角为90度，输出管道11移动的设定方向X为与输出管道延伸方向垂直的左右两侧，在其他实施方式中，该输出管道11移动的方向也可与该延伸方向成其他角度，如75度，只要能够使出液喷头12喷出的清洗液均匀清洗即可。通过上述方式，可使出液喷头12喷在待清洗基板14表面的水膜更均匀。为了进一步的使该多个出液喷头12喷出清洗液的压力尽可能的相同，在另一个实施方式中，将输出管道11的两端均设为入液口，当输出管道11的两端均为入液口时，则从两端的入液口同时注入清洗液，并使两端的入液压力相等。由于两端入口同时注入清洗液，一端相对于另一端对称的位置水压是相同的，即使随着距离的增大水压会相对减小，但是由于输出管道11的整体长度不会过长，在通过两端入液时，由于距离产生的压力差基本可以忽略，因此，基板清洗的水压也更均匀，因此，基板表面的水膜也会趋于均匀化。在一个可选的实施方式中，此处清洗液优选去离子水。在其他实施例中，也可只将输出管道11的一端设为入液口，或者在输出管道11的长度超出一定范围时，在中间或者其他部分额外增加1个或多个出液喷头12，在此不做限定。本实施例的基板清洗装置，包括一驱动装置，驱动装置与输出管道连接，用于驱动输出管道按照设定频率沿设定方向移动，通过移动输出管道使待清洗玻璃表面的水膜更均匀。从输出管道的两端同时进清洗液，保证了整个输出管道压力的均一性，基板清洗的水压也更均匀，基板表面的水膜也会更趋于均匀化。本实施例能够减少基板由于水膜不均一造成的品质不良，从而提高产品的良率。参阅图2，图2是本申请另一实施例结构示意图。本实施例的基板清洗装置包括依次通过待清洗基板25的传送装置26连通的第一腔体21、第二腔体22、第三腔体23以及第四腔体24，其中，第一腔体21为风刀腔，输出管道211和驱动装置(图中未示出)设置于第一腔体21内。第二腔体22为超高压二流体腔，第三腔体23为高压二流体狭缝腔，第四腔体24为水洗腔，待清洗基板25从第四腔体24沿着传送装置26传送方向依次经过第四腔体24、第三腔体23、第二腔体22进行相应清洗后，传送至第一腔体21进行清洗。第一腔体21包括清洗液的输出管道211，在输出管道211与待清洗基板25相对的一面设置有多个出液喷头212，本实施例中输出管道211的数量为一根，在其他实施方式中，也可根据实际需要设置多根，出液喷头212的数量可根据待清洗基板25的大小来确定，在一个具体的实施例中，待清洗基板25为G6玻璃，尺寸为1500*1850mm，此时出液喷头212的数量优选5个，出液喷头212喷出的伞形水幕的角度约为150度。第一腔体21内还包括一驱动装置(图中未示出)，驱动装置与输出管道211连接，用于驱动输出管道211按照设定频率沿设定X’方向移动，在清洗过程中，待清洗基板25通过传送装置26沿Y’方向传送，在一个优选的实施方式中，设定频率为20次/分钟，在其他实施方中，设定频率也可以为25次/分钟或30次/分钟，可根据传送速度设定，在此不做限定。在本实施方式中，设定方向X’与待清洗基板25的传送方向Y’的夹角为90度，输出管道211移动的X’方向为与输出管道211延伸方向垂直的左右两侧，在其他实施方式中，该输出管道211移动的方向X’也可与该延伸方向成其他角度，如75度，只要能够使出液喷头212喷出的清洗液均匀清洗即可。通过上述方式，可使出液喷头212喷在待清洗基板25表面的水膜更均匀。为了进一步的使该多个出液喷头212喷出清洗液的压力尽可能的相同，在另一个实施方式中，将输出管道211的两端本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，所述基板清洗装置包括清洗液的输出管道，且所述输出管道与待清洗基板相对的一面设置有多个出液喷头；所述基板清洗装置还包括一驱动装置，所述驱动装置与所述输出管道连接，用于驱动所述输出管道按照设定频率沿设定方向移动。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，所述基板清洗装置包括清洗液的输出管道，且所述输出管道与待清洗基板相对的一面设置有多个出液喷头；所述基板清洗装置还包括一驱动装置，所述驱动装置与所述输出管道连接，用于驱动所述输出管道按照设定频率沿设定方向移动。2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道的两侧端口均为入液口。3.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道的两侧端口的入液压力相等。4.根据权利要求1～3任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道的延伸方向与所述待清洗基板的传送方向的夹角成90度。5.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道移动的所述设定频率为20次/分钟；所述输出管道移动的所述设定方向为与所述输出管道延伸方向垂直的左右两侧。6.根据权利要求1～3任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道和所述驱动装置设置于第一腔体内，所述基板清洗装置还包括依次通过所述待清洗基板的传送装置连通的第二腔体、第三腔体以及第四腔体，其中所述第二腔体为超高压二流体腔，所述第三腔体为高压二流...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐毕龙，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42