旋转波动喷嘴制造技术

一种旋转波动喷嘴，在自转式的旋转波动喷嘴中，避免变为超过必要地高的转速。在旋转波动喷嘴中，旋转筒体旋转自如地支承于在固定壳体的内部在轴向上相分离地设置的2个轴承。喷射喷嘴连接于旋转筒体，通过相对于圆板的面倾斜地喷射被供给到旋转筒体的中空部的压缩空气来使旋转筒体自转。环状构件设置于旋转筒体，在其外周部具有能够沿径向移动且被施力构件向径向内侧施力的可动吸引构件，在保护罩的内侧，以与可动吸引构件相向的方式沿周向设置有固定吸引构件。当旋转筒体的转速增加时，可动吸引构件接近固定吸引构件而相互的吸引力变高，旋转筒体被减速，从而不会高于规定的转速。

【技术实现步骤摘要】
旋转波动喷嘴
本专利技术涉及一种间歇性地向工件吹送流体的旋转波动喷嘴。
技术介绍
作为向工件吹送流体的装置，已知一种气枪，该气枪喷射压缩空气，将所喷射的压缩空气吹送到被湿清洗后的工件来吹走液滴，由此使工件干燥。在半导体芯片的出厂工序中也使用这种气枪。即，在半导体芯片的出厂工序中，例如，利用温水浴对输送并保护要出厂的半导体芯片的托盘进行清洗，通过气枪向润湿的托盘吹送压缩空气来吹飞液滴，将托盘放入干燥炉来使其干燥。在使用气枪的吹送干燥方法中，会出现液滴在托盘的表面爬行或绕到背面的现象。因此，在利用气枪进行的干燥中，无法充分去除残留在托盘的表面的液滴，因此无论如何，干燥炉中的干燥都需要长的时间。作为减少液滴在工件的表面爬行或绕到背面的现象的方法，已知如下一种技术：使喷出压缩空气的喷嘴旋转，间歇性地向工件吹送压缩空气(例如，参照专利文献1)。接着，说明该专利文献1所记载的旋转波动喷嘴。图11是表示以往的旋转波动喷嘴的例子的剖视图，图12是以往的旋转波动喷嘴的仰视图，图13是表示相对于旋转波动喷嘴的转速的干燥质量的变化的图。图11和图12所示的旋转波动喷嘴具有利用圆板102、103封住中空圆筒状的基体101的两端而成的转子104，在圆板102上安装有喷射喷嘴105，在圆板103上以与圆板103同轴的方式安装有由中空管形成的旋转轴106。旋转轴106旋转自如地被轴承107支承于固定管108，固定管108的一端安装有罩109，在旋转轴106与固定管108之间安装有用于防止空气泄漏的的密封件110。如图12所示，在以圆板102的旋转中心为中心呈点对称的位置处安装有2个喷射喷嘴105。另外，如图11所示，喷射喷嘴105安装成相对于圆板102的面倾斜的状态。在以上的结构的旋转波动喷嘴中，当向旋转轴106导入压缩空气时，该压缩空气经由旋转轴106被导至转子104，再从喷射喷嘴105向外部喷射。此时，旋转轴106旋转自如地被轴承107所支承，从喷射喷嘴105向相对于旋转中心的轴向倾斜的方向喷射压缩空气。即，在图12所示的旋转波动喷嘴中，设置于比转子104的旋转中心靠图的上方的位置的喷射喷嘴105向箭头111所示的左方向喷射压缩空气，设置于比转子104的旋转中心靠图的下方的位置的喷射喷嘴105向箭头112所示的右方向喷射压缩空气。由此，转子104以压缩空气的喷射为推力来向与喷射压缩空气的方向相反的方向(图12中箭头113所示的顺时针的方向)旋转。这样，该旋转波动喷嘴一边喷射压缩空气一边自转，因此当与圆板102对峙地放置工件(被清洗物)时，从喷射喷嘴105喷射的空气被吹送到该工件的圆周上。也就是说，若观察被吹送压缩空气的工件的圆周上的一点，则该点周期性地被吹送压缩空气，因此该旋转波动喷嘴向工件的圆周上呈波动状(周期性、间歇性)地喷射伴有旋转波动的压缩空气。旋转波动喷嘴喷射伴有旋转波动的压缩空气，因此与连续地喷射固定的压缩空气的气枪相比，液滴不会在工件的表面爬行或绕到背面而能够被吹飞，从而能够提高干燥性能。专利文献1：日本特开2008-36617号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，关于旋转波动喷嘴，旋转轴旋转自如地被轴承所支承，即使是低压的压缩空气也能够容易地旋转，因此具有转速容易上升的特性。于是存在在高转速下干燥质量变差的问题。即，在旋转波动喷嘴的转速与干燥质量之间存在如图13所示的关系，当转速超过其最佳值地上升时，难以高效地吹飞液滴。也就是说，在转速达到其最佳值之前，旋转波动喷嘴呈波动状(周期性、间歇性)地向工件吹送压缩空气，因此能够高效地吹飞液滴。但是，当转速超过其最佳值时，呈波动状地吹送的压缩空气的间隔逐渐变短，最后压缩空气不再产生波动。这与连续地喷射压缩空气等同，因此干燥质量会下降。另外，当旋转波动喷嘴的转速变高时，还存在轴承的寿命变短、噪音也变大的问题。本专利技术是鉴于这种情况而完成的，其目的在于提供一种避免变为超过必要地高的转速的旋转波动喷嘴。用于解决问题的方案在本专利技术中，为了解决上述问题，提供一种旋转波动喷嘴，该旋转波动喷嘴具备：中空圆筒状的固定壳体；旋转筒体，其旋转自如地支承于在固定壳体的内部在轴向上相分离地设置的2个轴承；以及喷射喷嘴，其一端连接于旋转筒体的封闭端部，另一端配置成以相对于圆板的面倾斜的状态贯通圆板，该圆板配置成在旋转筒体的轴向上与封闭端部相分离。特别是，该旋转波动喷嘴具备转速抑制单元，该转速抑制单元利用通过旋转筒体的转速的增加而增加的离心力来使旋转筒体的转速降低。专利技术的效果在上述结构的旋转波动喷嘴中，当旋转筒体变得高于规定的转速时，转速抑制单元以抑制转速的方式进行作用，因此上述结构的旋转波动喷嘴具有不会变为超过必要地高的转速的优点。另外，由于不变为超过必要地高的转速，因此能够延长支承旋转筒体的轴承的寿命，不存在因高速旋转引起的噪音，能够得到肃静的作业环境。并且，在应用于润湿的部件的干燥的情况下，能够实现高质量且高速的干燥。附图说明图1是表示第一实施方式所涉及的旋转波动喷嘴的剖视图。图2是从喷射喷嘴侧观察的旋转波动喷嘴的侧视图。图3是表示停止时的旋转波动喷嘴的图1的A-A向视剖视图。图4是表示动作时的旋转波动喷嘴的图1的A-A向视剖视图。图5是从喷射喷嘴侧观察第二实施方式所涉及的旋转波动喷嘴的侧视图。图6是第二实施方式所涉及的旋转波动喷嘴的图5的B-B向视剖视图。图7是表示停止时的第二实施方式所涉及的旋转波动喷嘴的图5的C-C向视剖视图。图8是表示停止时的第二实施方式所涉及的旋转波动喷嘴的图7的D-D向视剖视图。图9是表示动作时的第二实施方式所涉及的旋转波动喷嘴的图5的C-C向视剖视图。图10是表示动作时的第二实施方式所涉及的旋转波动喷嘴的图9的E-E向视剖视图。图11是表示以往的旋转波动喷嘴的例子的剖视图。图12是以往的旋转波动喷嘴的仰视图。图13是表示相对于旋转波动喷嘴的转速的干燥质量的变化的图。附图标记说明10、10a：旋转波动喷嘴；11：固定壳体；12：旋转筒体；13：轴承；14：封闭构件；15：管接头部；16：喷射喷嘴；17：圆板；18：间隔件；19：紧固构件；20：透孔；21：环状构件；22：凹部；23：可动吸引构件；24：保持件；25：施力构件；26：挡圈；27：移动量限制构件；28：保护罩；29：固定吸引构件；30：制动用喷射喷嘴；31：透孔；32：盖部；33：离心力工作阀；34：阀室；35：阀体；36：阀孔；37：施力构件；38：引导销。具体实施方式下面，以朝向被清洗体呈波动状地喷射压缩空气的旋转波动喷嘴为例，参照附图来详细说明本专利技术的实施方式。此外，能够将多个实施方式在没有矛盾的范围内部分地进行组合来实施各实施方式。[第一实施方式]图1是表示第一实施方式所涉及的旋转波动喷嘴的剖视图，图2是从喷射喷嘴侧观察的旋转波动喷嘴的侧视图，图3是表示停止时的旋转波动喷嘴的图1的A-A向视剖视图，图4是表示动作时的旋转波动喷嘴的图1的A-A向视剖视图。如图1所示，第一实施方式所涉及的旋转波动喷嘴10具有中空圆筒状的固定壳体11。在该固定壳体11中同心地配置有中空圆筒状的旋转筒体12，该旋转筒体12旋转自如地支承于在固定壳体11的内部在轴向上相分离的2个轴承13。旋转筒体12的一端开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旋转波动喷嘴，具备：中空圆筒状的固定壳体；旋转筒体，其旋转自如地支承于在所述固定壳体的内部在轴向上相分离地设置的2个轴承；喷射喷嘴，其一端连接于所述旋转筒体的封闭端部，另一端配置成以相对于圆板的面倾斜的状态贯通所述圆板，该圆板配置成在所述旋转筒体的轴向上与所述封闭端部相分离；以及转速抑制单元，其利用通过所述旋转筒体的转速的增加而增加的离心力来使所述旋转筒体的转速降低。

【技术特征摘要】
2017.04.28 JP 2017-0891751.一种旋转波动喷嘴，具备：中空圆筒状的固定壳体；旋转筒体，其旋转自如地支承于在所述固定壳体的内部在轴向上相分离地设置的2个轴承；喷射喷嘴，其一端连接于所述旋转筒体的封闭端部，另一端配置成以相对于圆板的面倾斜的状态贯通所述圆板，该圆板配置成在所述旋转筒体的轴向上与所述封闭端部相分离；以及转速抑制单元，其利用通过所述旋转筒体的转速的增加而增加的离心力来使所述旋转筒体的转速降低。2.根据权利要求1所述的旋转波动喷嘴，其中，所述转速抑制单元具有：可动吸引构件，其在环状构件的外周部处形成的凹部中沿所述旋转筒体的径向移动自如，该环状构件以与所述旋转筒体一体地旋转的方式固定于所述旋转筒体，所述可动吸引构件被施力构件向所述旋转筒体的径向内侧施力；以及多个固定吸引构件，所述多个固定吸引构件以与所述可动吸引构件相向的方式沿周向配置于保护罩的内壁，该保护罩以覆盖所述环状构件的方式固定于所述固定壳体。3.根据权利要求2所述的旋转波动喷嘴，其中，所述可动吸引构件和所述固定吸引构件是磁体。4.根据权利要求2所述的旋转波动喷嘴，其中，所述可动吸引构件和所述固定吸引构件中的一方是磁体，另一方是铁磁体。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：清水均，
申请(专利权)人：富士电机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP