提高石墨烯肖特基结太阳电池性能的复合减反膜、太阳电池及制备制造技术

技术编号:19431714 阅读:44 留言:0更新日期:2018-11-14 11:55
本发明专利技术属于太阳电池的技术领域,公开了提高石墨烯肖特基结太阳电池性能的复合减反膜、太阳电池及制备。复合减反膜,包括依次叠加的三氧化钼层和氧化锆层,三氧化钼层设置于石墨烯肖特基结太阳电池的石墨烯层上方。石墨烯肖特基结太阳电池由下至上依次包括底电极、GaAs衬底、石墨烯层、顶电极、三氧化钼层、氧化锆层。本发明专利技术在石墨烯肖特基结太阳能电池中引入复合减反膜,提高了电池的开路电压,并且有效提高太阳电池的短路电流。本发明专利技术的方法简单有效,成本低,通过复合减反膜的引入使得电池的光电转换效率明显提高。

【技术实现步骤摘要】
提高石墨烯肖特基结太阳电池性能的复合减反膜、太阳电池及制备
本专利技术属于太阳能电池的
,具体涉及一种提高石墨烯肖特基结太阳电池性能的复合减反膜、石墨烯肖特基结太阳电池及其制备方法。
技术介绍
石墨烯是一种由碳原子形成的蜂窝状平面薄膜,具有高电导率,高透光度,功函数可调等特点,广泛应用在太阳能电池上。石墨烯具有类金属的性质,功函数大于GaAs,与GaAs接触可以形成肖特基接触,利用肖特基结可以制备太阳能电池。石墨烯-GaAs肖特基结太阳电池,相比主流的硅太阳能电池具有工艺简单、成本低廉等优点,具有很好的应用前景。但是,常规的石墨烯肖特基结太阳电池由于GaAs表面对太阳光的反射,降低了对太阳光的吸收效率,所以造成电池的短路电路密度不够高,因此研究如何提高太阳电池对太阳光谱的吸收效率对于提高太阳电池的短路电流密度进而提高电池的光电转换效率具有重要的实用价值。
技术实现思路
为了克服现有技术的缺点与不足,本专利技术的目的在于一种提高石墨烯肖特基结太阳电池性能的复合减反膜。本专利技术的复合减反膜,不仅工艺简单成本低,而且可以有效提高石墨烯肖特基结太阳电池的光电转换效率。本专利技术的另一目的在于提供一种包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池及其制备方法。本专利技术的目的通过以下技术方案实现:一种提高石墨烯肖特基结太阳电池性能的复合减反膜,包括依次叠加的三氧化钼层和氧化锆层,三氧化钼层设置于石墨烯肖特基结太阳电池的石墨烯层上方。一种包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,包括上述复合减反膜。所述包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,由下至上依次包括底电极、GaAs衬底、石墨烯层、顶电极、三氧化钼层、氧化锆层。所述顶电极裸露或被引出氧化锆层表面,即有顶电极未被三氧化钼层和氧化锆层覆盖。顶电极未完全覆盖石墨烯层。所述底电极为金电极或银电极,电极厚度为20~300纳米。所述顶电极为导电银胶。所述GaAs衬底为N型GaAs片,掺杂浓度为1×1017~4×1018cm-3。GaAs衬底的面积大小约为1-8英寸。所述石墨烯的层数为2~10层。三氧化钼层与氧化锆层组成为复合减反膜,其中三氧化钼层的厚度为2~20nm,优选为5nm,氧化锆的厚度为30~200nm,优选为50纳米。所述包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池的制备方法,包括以下步骤:(1)底电极的制备:在GaAs衬底的一表面蒸镀底电极;步骤(1)中蒸镀温度为10~80℃,蒸镀时间为10~60分钟,底电极厚度为20~300纳米;(2)石墨烯层的制备:将GaAs衬底中镀有底电极的一面称为下表面,另一面成为上表面;将石墨烯转移至GaAs衬底的上表面;(3)顶电极的制备:在石墨烯层上制备顶电极;(4)复合减反膜的制备:利用电子束蒸发法,在未被顶电极覆盖的石墨烯层上和顶电极上生长三氧化钼层,然后在三氧化钼层上生长氧化锆层,获得复合减反膜层,此时顶电极需被引出复合减反膜层表面;在未被顶电极覆盖的石墨烯层上或未被顶电极覆盖的石墨烯层和部分顶电极上生长三氧化钼层,然后在三氧化钼层上生长氧化锆层,获得复合减反膜层,此时顶电极裸露。步骤(1)中蒸镀有底电极的GaAs衬底可切割成所需形状;切割完后需进行清洗,去除表面的杂质。步骤(2)中所述石墨烯转移是指将石墨烯采用化学气相沉积法在铜箔衬底上生长,石墨烯的层数为2-10层,采用FeCl3溶液将铜箔腐蚀掉后将石墨烯转移到水中并使石墨烯漂浮在水中,利用水分子的范德华力,使石墨烯紧密贴合在GaAs衬底的上表面,自然晾干;石墨烯转移完后,需进行加热干燥,所述加热干燥的温度为70-200℃,加热干燥的时间为5-30分钟。步骤(4)中三氧化钼层生长的条件为生长温度为20-60℃,生长时间为4-40分钟,三氧化钼的厚度为2-20纳米;氧化锆的生长温度为30-100℃,生长时间为10-50分钟,氧化锆的厚度为30-200纳米。步骤(3)中顶电极为导电银胶,导电银胶的形状为环形,长条形,也可以为圆形或者点状。导电银胶的厚度为0.2-3微米。导电银胶需在20-100℃下烘烤4-20min充分固化。本专利技术在GaAs表面转移一层石墨烯形成肖特结,然后通过电子束蒸发在石墨烯表面沉积一层三氧化钼薄膜,在三氧化钼薄膜表面沉积一层氧化锆薄膜,三氧化钼一方面可以对石墨烯进行掺杂,通过改变石墨烯的功函数提高石墨烯与GaAs之间的肖特基势垒;同时三氧化钼/氧化锆复合减反膜可以有效提高对太阳光谱的吸收效率,从而有效提高石墨烯肖特基结太阳电池的光电转换效率。与现有技术相比,本专利技术具有以下优点和有益效果:(1)本专利技术通过在石墨烯肖特基结太阳能电池中引入复合减反膜,通过复合减反膜一方面可以实现对石墨烯的掺杂,提高石墨烯与GaAs之间的肖特基势垒,提高电池的开路电压;另一方面复合减反膜的引入可以有效提高对太阳光的吸收效率,从而有效提高太阳电池的短路电流,最终实现提高太阳电池光电转换效率的目的;(2)本专利技术的制备方法简单有效,器件制备工艺成本低,通过复合减反膜的引入使得电池的光电转换效率明显提高。附图说明图1为本专利技术的含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池的结构示意图;图2为实施例1的含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池的电压-电流密度关系曲线图;其中无复合减反膜是指没有复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,氧化锆减反膜是指以氧化锆膜为减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,三氧化钼/氧化锆复合减反射膜是指实施例1的含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池即含有以三氧化钼和氧化锆所组成的复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池。具体实施方式下面结合实施例和附图,对本专利技术作进一步地详细说明,但本专利技术的实施方式不限于此。本专利技术的包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池的结构示意图如图1所示,由下至上依次包括底电极1、GaAs衬底2、石墨烯层3、顶电极4、复合减反射膜;所述复合减反膜包括三氧化钼层5和氧化锆层6,三氧化钼层5设置于未被顶电极覆盖的石墨烯层上和顶电极上,顶电极有部分未被复合减反膜覆盖或者顶电极被引出氧化锆层的表面。实施例1本实施例的包含复合减反膜的石墨烯-GaAs肖特基结太阳能电池,由下至上依次包括底电极金、GaAs外延片、石墨烯、导电银胶顶电极、三氧化钼和氧化锆。所述包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池的制备方法,包括以下步骤:(1)背电极的制备:将2英寸GaAs衬底固定在圆盘上,采用电子束蒸发系统,在GaAs衬底的背面蒸镀一层Au电极,蒸镀温度为40℃,蒸镀时间为30分钟,Au电极厚度为120纳米;所述GaAs衬底为N型GaAs片,掺杂浓度为1×1017~4×1018cm-3;(2)切割:将蒸镀有背电极的GaAs衬底采用激光划片切割成一平方厘米尺寸的片子;(3)清洗:取切割完成后的衬底,分别采用丙酮,异丙醇,超纯水依次超声清洗10分钟后用吹风机将表面吹干待用;(4)转移石墨烯:石墨烯采用化学气相沉积在铜箔衬底上生长,石墨烯的层数为5层,采用FeCl3溶液将铜箔腐蚀掉后将石墨烯转移到清水并使石墨烯漂浮在清水中,用镊子夹住GaAs衬底的一角,利用水分子的范德华力,使石墨烯紧密贴合在GaAs衬底的表面,自然晾干半小时;(5)后处理:将转移完石墨烯的衬底放在加热板上,用80℃的温度烘烤20分钟,去除石墨烯里本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高石墨烯肖特基结太阳电池性能的复合减反膜,其特征在于:包括依次叠加的三氧化钼层和氧化锆层,三氧化钼层设置于石墨烯肖特基结太阳电池的石墨烯层上方。

【技术特征摘要】
1.一种提高石墨烯肖特基结太阳电池性能的复合减反膜,其特征在于:包括依次叠加的三氧化钼层和氧化锆层,三氧化钼层设置于石墨烯肖特基结太阳电池的石墨烯层上方。2.一种包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,其特征在于:包括权利要求1所述复合减反射膜。3.根据权利要求2所述包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,其特征在于:由下至上依次包括底电极、GaAs衬底、石墨烯层、顶电极、三氧化钼层、氧化锆层。4.根据权利要求2所述包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,其特征在于:顶电极未完全覆盖石墨烯层,三氧化钼层与氧化锆层组成为复合减反膜,顶电极有部分未被复合减反膜覆盖或者顶电极被引出氧化锆层的表面。5.根据权利要求2所述包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,其特征在于:三氧化钼层的厚度为2~20nm,氧化锆的厚度为30~200nm;所述GaAs衬底为N型GaAs片,掺杂浓度为1×1017~4×1018cm-3。6.根据权利要求2所述包含复合减反膜的石墨烯肖特基结太阳电池,其特征在于:所述底电极为金电极或银电极,电极厚度为20~300纳米;所述顶电极为导电银胶;所述石墨烯的层数为2~10层。7.根据权利要求2~6...

【专利技术属性】
技术研发人员:张曙光温雷
申请(专利权)人:华南理工大学
类型:发明
国别省市:广东,44

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