有机发光显示设备制造技术

公开了一种有机发光显示设备。有机发光显示设备包括第一像素电极、第二像素电极、像素限定层、第一堆叠、第一保护层、第二堆叠以及第一无机导电层，其中，像素限定层设置在第一像素电极和第二像素电极上并且暴露第一像素电极和第二像素电极的至少部分，第一保护层设置在第一像素电极的暴露的部分上，第二堆叠设置在第二像素电极的暴露的部分上。第一堆叠包括第一中间层和第一相对电极，其中，第一中间层包括发射层，第一相对电极位于第一中间层上。第一保护层设置在第一堆叠上。第二堆叠包括第二中间层和第二相对电极，其中，第二中间层包括发射层，第二相对电极位于第二中间层上。第一无机导电层设置在第二像素电极和第二堆叠之间。

【技术实现步骤摘要】
有机发光显示设备相关申请的交叉引用本申请要求于2017年4月28日提交的第10-2017-0055753号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请如同在本文中充分阐述一样出于所有目的通过引用并入本文。
本专利技术大体涉及有机发光显示设备以及制造有机发光显示设备的方法，以及更具体地，涉及具有改善的显示质量的有机发光显示设备以及制造有机发光显示设备的方法。
技术介绍
有机发光显示设备包括像素，像素中的每个包括有机发光二极管。有机发光二极管包括像素电极、设置成与本领域已知的像素电极相对且在本文中作为“相对电极”的电极以及插置于像素电极和相对电极之间的发射层。在能够再现全部彩色的有机发光显示设备中，通过每个像素区域发射不同颜色的光，并且每个像素的发射层和与多个像素一体地形成的相对电极可利用沉积掩模来形成。随着有机发光显示设备的分辨率逐渐增加，在沉积过程期间使用的掩模的开缝的宽度逐渐减小，并且还需要更进一步地减少掩模的开缝色散。另外，为了制造高分辨率的有机发光显示设备，需要减少或消除阴影效应。因此，可在衬底和掩模彼此紧密接触的情况下执行沉积过程。然而，在衬底和掩模彼此接触的情况下执行沉积过程的情况中，发生缺陷(例如，掩模刺伤现象)。为了防止这个，可使用在像素限定层上布置间隔物的方法。然而，在该方法中，需要布置间隔物的附加处理步骤并且有机发光显示设备的厚度因间隔物而增加。在该背景部分中公开的以上信息仅用于增强对专利技术构思的背景的理解，并且因此，其可包括不构成现有技术的信息。
技术实现思路
根据本专利技术的原理的有机发光显示设备及制造有机发光显示设备的方法能够改善显示质量。另外的方面将在以下详细描述中阐述，并且通过本公开将部分地显而易见，或者可通过实践本专利技术构思而习得。根据本专利技术的一个方面，有机发光显示设备包括：第一像素电极和第二像素电极；像素限定层，设置在第一像素电极和第二像素电极上并且暴露第一像素电极和第二像素电极的至少部分；第一堆叠，设置在第一像素电极的暴露的部分上，第一堆叠包括第一中间层和第一相对电极，其中，第一中间层包括发射层，第一相对电极设置在第一中间层上；第一保护层，设置在第一堆叠上；第二堆叠，设置在第二像素电极的暴露的部分上，第二堆叠包括第二中间层和第二相对电极，其中，第二中间层包括发射层，第二相对电极设置在第二中间层上；以及第一无机导电层，设置在第二像素电极和第二堆叠之间。第一保护层和第一无机导电层可包括相同的材料。第一保护层和第一无机导电层中的每个可包括导电氧化物膜和金属薄膜中的至少之一。第一保护层的宽度可大于第一堆叠的宽度。第一保护层的边缘可接触像素限定层的上表面。第一无机导电层的宽度可等于或大于像素限定层的暴露第二像素电极的开口的宽度。第一无机导电层的边缘可接触像素限定层的倾斜表面，倾斜表面邻近于第二像素电极的暴露的部分。第一无机导电层的边缘可通过像素限定层与第二像素电极的边缘间隔开。有机发光显示设备还可包括：第三像素电极；第三堆叠，设置在第三像素电极的通过像素限定层暴露的部分上，第三堆叠包括第三中间层和第三相对电极，其中，第三中间层包括发射层，第三相对电极设置在第三中间层上；以及至少一个无机导电层，设置在第三像素电极和第三堆叠之间。有机发光显示设备还可包括设置在第二相对电极上的第二保护层。至少一个无机导电层可包括堆叠在第三像素电极上的第二无机导电层和第三无机导电层，并且第二无机导电层和第三无机导电层之一可包括与第二保护层相同的材料。第二无机导电层和第三无机导电层中的另一个可包括与第一保护层相同的材料。有机发光显示设备还可包括覆盖第一堆叠和第二堆叠的公共相对电极。根据本专利技术的另一方面，有机发光显示设备包括：第一像素电极和第二像素电极；第一堆叠，设置在第一像素电极上，第一堆叠包括第一中间层和第一相对电极，其中，第一中间层包括发射层，第一相对电极设置在第一中间层上；第二堆叠，设置在第二像素电极上，第二堆叠包括第二中间层和第二相对电极，其中，第二中间层包括发射层，第二相对电极设置在第二中间层上；公共相对电极，设置在第一堆叠和第二堆叠上，公共相对电极将第一相对电极电连接至第二相对电极；第一保护层，设置在第一堆叠和公共相对电极之间，第一保护层具有比第一堆叠的宽度大的宽度；以及第一导电层，设置在第二像素电极和第二堆叠之间。第一导电层可包括无机材料。第一保护层和第一导电层可包括相同的材料。有机发光显示设备还可包括将第一导电层的边缘与第二像素电极的边缘隔开的像素限定层。有机发光显示设备还可包括覆盖第二堆叠的第二保护层。有机发光显示设备还可包括：第三像素电极，与第一像素电极和第二像素电极间隔开；第三堆叠，设置在第三像素电极上，第三堆叠包括第三中间层和第三相对电极，其中，第三中间层包括发射层，第三相对电极设置在第三中间层上；以及至少一个导电层，位于第三像素电极和第三堆叠之间。至少一个导电层可包括与第一保护层和第二保护层中的至少一个相同的材料。根据本专利技术的又一方面，制造有机发光显示设备的方法包括以下步骤：制备衬底，衬底上设置有第一像素电极、第二像素电极和第三像素电极；在衬底上形成像素限定层以暴露第一像素电极、第二像素电极和第三像素电极的至少部分；通过使用第一掩模图案在第一像素电极上形成第一堆叠，其中第一掩模图案具有与第一像素电极重叠的第一暴露孔，第一堆叠包括第一中间层和第一相对电极，其中，第一中间层包括发射层，第一相对电极设置在第一中间层上；移除第一掩模图案；形成覆盖第一堆叠、第二像素电极和第三像素电极的保护材料层；通过蚀刻保护材料层形成覆盖第一堆叠的第一保护层；通过使用第二掩模图案在第二像素电极上形成第二堆叠，其中第二掩模图案具有与第二像素电极重叠的第二暴露孔，第二堆叠包括第二中间层和第二相对电极，其中，第二中间层包括发射层，第二相对电极设置在第二中间层上；以及移除第二掩模图案，其中，形成第一保护层的步骤包括通过蚀刻保护材料层在第二像素电极和第三像素电极中的至少一个上形成导电层。第一保护层的边缘可接触像素限定层的上表面。第一保护层和导电层可包括导电氧化物膜和金属薄膜中的至少之一。导电层的宽度可大于像素限定层的暴露第二像素电极和第三像素电极中的至少一个的开口的宽度。导电层的边缘可接触像素限定层。像素限定层可将导电层的边缘与第二像素电极和第三像素电极中的上面设置导电层的一个的边缘隔开。方法还可包括：形成覆盖第一堆叠、第一保护层和第二堆叠的公共相对电极。第一掩模图案和第二掩模图案中的至少一个可包括保护树脂层以及设置在保护树脂层上的光刻胶层。保护树脂层可包括基于氟的树脂。根据本专利技术的原理和示例性实施方式，第一保护层设置在第一堆叠上，并且第一无机导电层设置在第二像素电极和第二堆叠之间。第一保护层可在各种工艺中保护第一堆叠例如免受有害蚀刻剂的影响，从而改善均匀的光发射。此外，第一无机导电层可增加第二堆叠的发射区并且可在各种工艺中保护第二像素电极。前述的总体描述及以下详细描述是示例性和说明性的，并且旨在提供对要求保护的主题的进一步说明。附图说明附图示出本专利技术构思的示例性实施方式，并且与本说明书一起用于解释本专利技术构思的原理，其中，附图被包括以提供对本专利技术构思的进一步理解，并且并入本说明书中且构成本说明书的一部分。图1至图14本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有机发光显示设备，包括：第一像素电极和第二像素电极；像素限定层，设置在所述第一像素电极和所述第二像素电极上并且暴露所述第一像素电极和所述第二像素电极的至少部分；第一堆叠，设置在所述第一像素电极的所暴露的部分上，所述第一堆叠包括第一中间层和第一相对电极，其中，所述第一中间层包括发射层，所述第一相对电极设置在所述第一中间层上；第一保护层，设置在所述第一堆叠上；第二堆叠，设置在所述第二像素电极的所暴露的部分上，所述第二堆叠包括第二中间层和第二相对电极，其中，所述第二中间层包括发射层，所述第二相对电极设置在所述第二中间层上；以及第一无机导电层，设置在所述第二像素电极和所述第二堆叠之间。

【技术特征摘要】
2017.04.28 KR 10-2017-00557531.一种有机发光显示设备，包括：第一像素电极和第二像素电极；像素限定层，设置在所述第一像素电极和所述第二像素电极上并且暴露所述第一像素电极和所述第二像素电极的至少部分；第一堆叠，设置在所述第一像素电极的所暴露的部分上，所述第一堆叠包括第一中间层和第一相对电极，其中，所述第一中间层包括发射层，所述第一相对电极设置在所述第一中间层上；第一保护层，设置在所述第一堆叠上；第二堆叠，设置在所述第二像素电极的所暴露的部分上，所述第二堆叠包括第二中间层和第二相对电极，其中，所述第二中间层包括发射层，所述第二相对电极设置在所述第二中间层上；以及第一无机导电层，设置在所述第二像素电极和所述第二堆叠之间。2.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，所述第一保护层和所述第一无机导电层包括相同的材料。3.如权利要求2所述的有机发光显示设备，其中，所述第一保护层和所述第一无机导电层中的每个包括导电氧化物膜和金属薄膜中的至少之一。4.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，所述第一保护层的宽度大于所述第一堆叠的宽度。5.如权利要求4所述的有机发光显示设备，其中，所述第一保护层的边缘接触所述像素限定层的上表面。6.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，所述第一无机导电层的宽度等于或大于所述像素限定层的暴露所述第二像素电极的开口的宽度。7.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，所述第一无机导电层的边缘接触所述像素限定层的倾斜表面，所述倾斜表面邻近于所述第二像素电极的所暴露的部分。8.如权利要求7所述的有机发光显示设备，其中，所述第一无机导电层的所述边缘通过所述像素限定层与所述第二像素电极的边缘间隔开。9.如权利要求1所述的有机发光显示设备，还包括：第三像素电极；第三堆叠，设置在所述第三像素电极的通过所述像素限定层暴露的部分上，所述第三堆叠包括第三中间层和第三相对电极，其中，所述第三中间层包括发射层，所述第三相对电极设置在所述第三中间层上；以及至少一个无机导电层，设置在所述第三像素电极和所述第三堆叠之间。10.如权利要求9所述的有机发光显示设备，还包括：第二保护层，设置在所述第二相对电...

【专利技术属性】
技术研发人员：李濬九，金在植，金载益，李娟和，丁世勳，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR