抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件技术

本发明专利技术提供了抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件，其中，抗反射组件包括：一抗反射膜，一第一保护层，形成于所述抗反射膜的一侧；一触控电极层，形成于所述第一保护层背离所述抗反射膜的一侧；一第二保护层，形成于所述触控电极层背离所述第一保护层的一侧；以及一二分之一波片，形成于所述第二保护层背离所述触控电极层的一侧。本发明专利技术降低显示模组的整体厚度，提高其耐弯折特性，减少模组段作业流程，提高良率，降低成本。

【技术实现步骤摘要】
抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件
本专利技术涉及OLED面板制程领域，尤其涉及抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件。
技术介绍
现今，柔性电子与柔性显示已成为近几年的研究热点；具有固定曲面、可弯曲、可折叠甚至可卷曲的柔性显示电子产品，包括柔性薄膜晶体管液晶显示器(FlexibleTFT-LCD)，柔性有机发光显示器(FlexibleOLED)等逐渐成为最具前景的高科技行业。众多国内外手机面板厂商均已投入巨资展开相关研究及验证，争相争抢柔性EL的技术及商业先机。柔性显示由于其轻薄、可弯曲、便于携带及外形炫酷等优点在手机、手表、电视等显示设备上的应用也越来越多。目前，AMOLED柔性显示设备的开发成为研究热点中的明星。图1为现有技术的柔性有机发光器件的剖面图。现行业界主流的柔性显示器件的结构如图1所示，该柔性显示器件，包括了依次层叠的柔性阵列基板17、有机发光器件层16、薄膜封装层15、水氧阻隔层14、偏光层13、触控电极层12以及盖板11。现有技术的柔性有机发光器件的偏光层13及触控电极层12是通过胶体贴合于显示模组之中，致使显示模组厚度偏高，与柔性显示模组轻便及弯折特性好的宗旨相悖，故更轻薄的功能膜层材料的开发逐渐成为业界的重要课题。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷，本专利技术的目的在于提供抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件，可以降低显示模组的整体厚度，提高其耐弯折特性，减少模组段作业流程，提高良率，降低成本。根据本专利技术的一个方面，提供一种抗反射组件，包括：一抗反射膜，一第一保护层，形成于所述抗反射膜的一侧；一触控电极层，形成于所述第一保护层背离所述抗反射膜的一侧；一第二保护层，形成于所述触控电极层背离所述第一保护层的一侧；以及一二分之一波片，形成于所述第二保护层背离所述触控电极层的一侧。优选地，还包括：一第一压敏胶，形成于所述第二保护层与所述二分之一波片之间；以及一第二压敏胶，形成于所述二分之一波片背离所述第一压敏胶的一侧。优选地，还包括：一硬涂层，形成于所述抗反射膜背离所述第一保护层的一侧。优选地，所述抗反射膜的材料是聚乙烯醇膜，所述抗反射膜的厚度范围是3um至50um。优选地，所述触控电极层的材料是银纳米线或是金属网格，所述触控电极层的厚度范围是0.001um至0.5um。优选地，所述二分之一波片的材料是环烯烃聚合物或是聚碳酸酯，所述二分之一波片的厚度范围是0.5um至50um。优选地，所述第一保护层和所述第二保护层的材料是环烯烃聚合物，所述第一保护层和所述第二保护层的厚度范围都是10um至30um。优选地，所述第一压敏胶和第二压敏胶的厚度范围是0um至30um。优选地，所述硬涂层的材料是三乙酰纤维素，所述硬涂层的厚度范围是10um至50um。根据本专利技术的另一个方面，还提供一种抗反射组件的制造方法，包括以下步骤：S101、将聚乙烯醇染色延展成一抗反射膜，在所述抗反射膜的一侧以卷对卷工艺形成一硬涂层，另一侧以卷对卷工艺形成一第一保护层；S102、在一第二保护层的一侧上形成触控电极；S103、将所述第二保护层与第一保护层贴合，封装所述触控电极；以及S104、通过压敏胶将一二分之一波片与所述第二保护层的另一侧贴合。优选地，所述抗反射膜的材料是聚乙烯醇膜，所述抗反射膜的厚度范围是3um至50um。优选地，所述步骤S102中通过低温湿法成膜在环烯烃聚合物保护层上涂布银纳米线，温度低于100℃。优选地，所述成膜的方式为狭缝式涂布银纳米线成膜。优选地，所述二分之一波片的材料是环烯烃聚合物或是聚碳酸酯，所述二分之一波片的厚度范围是0.5um至50um。优选地，所述步骤S101与所述步骤S102的顺序交换。根据本专利技术的另一个方面，还提供一种柔性显示器件，包括：一柔性阵列基板；一有机发光器件层，形成于所述柔性阵列基板的一侧；一薄膜封装层，形成于所述有机发光器件层背离所述柔性阵列基板的一侧；一水氧阻隔层，形成于所述薄膜封装层背离所述有机发光器件层的一侧；一抗反射组件，形成于所述水氧阻隔层背离所述薄膜封装层的一侧；以及一盖板，形成于所述抗反射触控层背离所述水氧阻隔层的一侧；其中，所述抗反射组件是上述的抗反射组件。有鉴于此，本专利技术的抗反射组件及其制造方法、柔性显示器件降低显示模组的整体厚度，提高其耐弯折特性，减少模组段作业流程，提高良率，降低成本。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1为现有技术的柔性有机发光器件的剖面图；图2为本专利技术的抗反射组件的剖面图；图3为本专利技术的柔性有机发光器件的剖面图；以及图4至8为本专利技术的抗反射组件的制作过程示意图。附图标记11盖板12触控电极层13偏光层14水氧阻隔层15薄膜封装层16有机发光器件层17柔性阵列基板1盖板2抗反射触控层21硬涂层22抗反射膜23第一保护层24触控电极层25第二保护层26第一压敏胶27二分之一波片28第二压敏胶4水氧阻隔层5薄膜封装层6有机发光器件层7柔性阵列基板具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本专利技术将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本专利技术的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员应意识到，没有特定细节中的一个或更多，或者采用其它的方法、组元、材料等，也可以实践本专利技术的技术方案。在某些情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本专利技术。本专利技术的抗反射组件，包括：一抗反射膜22、一第一保护层23、一触控电极层24、一第二保护层25以及一二分之一波片27。其中，第一保护层23形成于抗反射膜22的一侧。触控电极层24形成于第一保护层23背离抗反射膜22的一侧。第二保护层25形成于触控电极层24背离第一保护层23的一侧。以及二分之一波片27形成于第二保护层25背离触控电极层24的一侧，但不以此为限。本专利技术在抗反射膜22与二分之一波片27之间设置了触控电极层24，并且抗反射膜22与二分之一波片27都能使用很薄的材料，从而大大降低了抗反射组件的厚度，提高其耐弯折特性。图2为本专利技术的抗反射组件的剖面图。如图2所示，本专利技术的抗反射组件，包括：从下到上依次层叠的第二压敏胶28、二分之一波片27、第一压敏胶26、第二保护层25、触控电极层24、第一保护层23、抗反射膜22以及硬涂层21。其中，抗反射膜22的材料是聚乙烯醇膜(polyvinylalcohol，简称PVA)，但不以此为限，也可以用液晶中添加颜料来替代，以便进一步降低厚度。抗反射膜22的厚度范围是3um至50um，但不以此为限。触控电极层24的材料是银纳米线(AgWN)、金属网格(MetalMesh)、石墨烯、碳纳米线等，但不以此为限，还可采用更薄的材料。触控电极层24的厚度范围是0.001um至0.5um，但不以此为限。二分之一波片27的材料是环烯烃聚合物(Cyclo-olefinpolymer本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗反射组件，其特征在于，包括：一抗反射膜，一第一保护层，形成于所述抗反射膜的一侧；一触控电极层，形成于所述第一保护层背离所述抗反射膜的一侧；一第二保护层，形成于所述触控电极层背离所述第一保护层的一侧；以及一二分之一波片，形成于所述第二保护层背离所述触控电极层的一侧。

【技术特征摘要】
1.一种抗反射组件，其特征在于，包括：一抗反射膜，一第一保护层，形成于所述抗反射膜的一侧；一触控电极层，形成于所述第一保护层背离所述抗反射膜的一侧；一第二保护层，形成于所述触控电极层背离所述第一保护层的一侧；以及一二分之一波片，形成于所述第二保护层背离所述触控电极层的一侧。2.如权利要求1所述的抗反射组件，其特征在于，还包括：一第一压敏胶，形成于所述第二保护层与所述二分之一波片之间；以及一第二压敏胶，形成于所述二分之一波片背离所述第一压敏胶的一侧。3.如权利要求2所述的抗反射组件，其特征在于，还包括：一硬涂层，形成于所述抗反射膜背离所述第一保护层的一侧。4.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射组件，其特征在于：所述抗反射膜的材料是聚乙烯醇膜，所述抗反射膜的厚度范围是3um至50um。5.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射组件，其特征在于：所述触控电极层的材料是银纳米线或是金属网格，所述触控电极层的厚度范围是0.001um至0.5um。6.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射组件，其特征在于：所述二分之一波片的材料是环烯烃聚合物或是聚碳酸酯，所述二分之一波片的厚度范围是0.5um至50um。7.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射组件，其特征在于：所述第一保护层和所述第二保护层的材料是环烯烃聚合物，所述第一保护层和所述第二保护层的厚度范围都是10um至30um。8.如权利要求2或3所述的抗反射组件，其特征在于：所述第一压敏胶和第二压敏胶的厚度范围是0um至30um。9.如权利要求3所述的抗反射组件，其特征在于：所述硬涂层的材料是三乙酰纤维素，所述硬涂层的厚度范围是10um至50um。10.一...

【专利技术属性】
技术研发人员：翟保才，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31