导光体辅助设计方法技术

本发明专利技术公开了一种导光体辅助设计方法，包括：以处理器从数据库中选定发光源；以处理器从数据库中选定导光体的几何形状与折射率、以处理器设定导光体的任两个介质面为入光面及出光面、以处理器计算发光源于入光面的入射点、入射角、反射角及折射角、以及以处理器计算发光源分别于入光面及出光面的能量。通过该方法，可以降低使用者重新修正导光体的时间。

【技术实现步骤摘要】
导光体辅助设计方法
本专利技术关于一种计算机辅助设计方法，尤指一种导光体的计算机辅助设计方法。
技术介绍
为了让主板上发光源发出的光线能够传递至机壳表面，研发人员必须于发光源与机壳表面之间设计合适的导光体，使得光线能通过导光体传递至机壳表面且不会损耗太多光能量。然而目前导光体的计算机辅助设计工具，可提供给研发人员的数据只有入光面与出光面的能量，研发人员无法得知发光源发出的光线于导光体内的行进状态以及能量损失状态，所以必须依赖经验丰富的专家才能有效率地设计出合适的导光体。有鉴于此，目前的确需要一种改良的导光体计算机辅助设计方法，至少可解决上述缺点。
技术实现思路
本专利技术的一实施例提供一种导光体的计算机辅助设计方法，可提供有效数据以辅助研发人员设计导光体。依据本专利技术的一实施例，提供一种导光体辅助设计方法，包括：以处理器从数据库中选定发光源、导光体的几何形状与折射率；以处理器设定导光体的任两个介质面为发光源的入光面及出光面；以及以处理器计算发光源于入光面的入射点、入射角、反射角及折射角；以及以处理器计算发光源分别于入光面及出光面的能量。本专利技术的一实施例的导光体辅助设计方法可应用于计算机应用程序，研发人员通过应用程序可计算出导光体内的任一区段的入光面能量、出光面能量以及光线行进路径的数据，如此一来可降低研发人员重新修改导光体的结构特征与材质的时间，同时能达到使发光源传送至出光面的能量达到预期的光线利用率。以上的关于本
技术实现思路
的说明及以下的实施方式的说明用以示范与解释本专利技术的精神与原理，并且提供本专利技术的专利申请权利要求保护范围更进一步的解释。附图说明图1绘示本专利技术第一实施例的导光体辅助设计方法的流程图。图2绘示本专利技术第二实施例的导光体辅助设计方法的流程图。图3至图9绘示本专利技术第一实施例的导光体辅助设计方法应用于计算机软件以计算指定光线于导光体内的行进路径的示意图。图10至图13绘示本专利技术第二实施例的导光体辅助设计方法应用于计算机软件来计算发光源于导光体内的行进路径的示意图。其中，附图标记：100、200、300、400发光源L指定光线102、202导光体103挡光体S1～S4介质面F1入光面F2出光面具体实施方式以下在实施方式中详细叙述本专利技术的详细特征以及优点，其内容足以使任何本领域的技术人员了解本专利技术的
技术实现思路
并据以实施，且根据本说明书所公开的内容、权利要求保护范围及附图，任何本领域的技术人员可轻易地理解本专利技术相关的目的及优点。以下的实施例进一步详细说明本专利技术的观点，但非以任何观点限制本专利技术的范畴。图1为绘示本专利技术第一实施例的导光体辅助设计方法的流程图，包括：在步骤S101中，以处理器从数据库的光源范本中选取一发光源，数据库例如为个人计算机或云端服务器，而处理器例如为芯片或逻辑电路。光源范本包括有多个不同光源场角的预选发光源，各种预选发光源都利用斐波那契网格(FibonacciGrid)方法所建立。所谓斐波那契网格(FibonacciGrid)方法即是在空间中先建立均匀分布的直线特征来表示点光源，再依据点光源于不同发光角度的能量分布以得知点光源于三维空间中各角度的发光强度。在步骤S102中，以处理器设定发光源于电子装置内的坐标位置，其中发光源设于电子装置内的主板且位于电子装置内的导光体之外。在步骤S103中，以处理器从数据库的导光体范本中选取一导光体的几何形状与折射率。在步骤S104中，以处理器从发光源发出的光线中设定一条指定光线。在步骤S105中，以处理器设定指定光线于导光体内的反射(折射)次数上限，藉此限制指定光线于导光体内的反射次数以避免处理器过度运算。在步骤S106中，以处理器依据导光体几何形状、折射率、与反射次数上限的数据基于斯涅尔定律(Snell`sLaw)计算出指定光线射入于导光体表面时的入射角、反射角与折射角、指定光线于导光体内的每一反射面的入射角与反射角以及射出导光体的入射角、反射角与折射角，藉此推算出指定光线于导光体内的行进路径。在步骤S107中，以处理器依据导光体折射率、指定光线入射于导光体表面时的入射角、反射角与折射角、指定光线于导光体内的每一反射面的入射角与反射角以及指定光线射出导光体的入射角、反射角与折射角的资料，基于菲涅耳方程式(FresnelEquations)计算出指定光线入射于导光体表面时的能量、指定光线于导光体内的每一反射面的能量以及指定光线射出于导光体时的能量。在其他实施例中，进一步包括在步骤S104之后与步骤S105之前，可加入以处理器从数据库的挡光体范本中选定一位于发光源与导光体之间的挡光体的程序，藉此避免处理器进行过度的运算。图2为绘示本专利技术第二实施例的导光体辅助设计方法的流程图，包括：在步骤S201中，以处理器从数据库的光源范本中选定一发光源。光源范本包括有多个不同光源场角的预选发光源，各种预选发光源都利用斐波那契网格(FibonacciGrid)方法所建立。在步骤S202中，以处理器计算发光源的总能量。在步骤S203中，以处理器设定发光源于电子装置内的坐标位置，其中发光源设于电子装置内的主板且位于电子装置内的导光体之外。在步骤S204中，以处理器从数据库的导光体范本中选定一导光体的几何形状与折射率。在步骤S205中，以处理器设定发光源于导光体的入光面及出光面，其中导光体的任一介质面都可设定为入光面与出光面。在步骤S206中，以处理器设定发光源发出的每一光线于导光体内的反射次数上限，藉此限制发光源发出的光线于导光体内的反射次数以避免处理器过度运算。在步骤S207中，以处理器设定出光面能量以及入光面能量的比值下限(光线利用率)，藉此使发光源发出的光能量不会在传递于导光体的过程中造成大量能量的散失。在步骤S208中，以处理器依据导光体几何形状、折射率、与反射次数上限的数据基于斯涅尔定律(Snell`sLaw)计算出发光源发出于每一光线射入于导光体表面时的入射角、反射角与折射角、每一光线于导光体内的每一反射面的入射角与反射角以及每一光线射出导光体的入射角、反射角与折射角，藉此推算出发光源发出的所有光线于导光体内的行进路径。在步骤S209中，以处理器依据导光体折射率、发光源入射于导光体表面时的入射角、反射角与折射角、发光源发出的光线于导光体内的每一反射面的入射角与反射角以及发光源发出的光线射出导光体的入射角、反射角与折射角的资料，基于菲涅耳方程式(FresnelEquations)计算出发光源入射于入光面时的总能量、发光源发出的光线于导光体内的每一反射面的总能量以及发光源发出的光线射出于出光面时的总能量。在其他实施例中，在步骤S205之后与步骤S206之前，进一步包括加入以处理器从数据库的挡光体范本中选定一位于发光源与导光体之间的挡光体的程序，藉此降低处理器进行过度的运算，或者在步骤S207之后与步骤S208之前，加入以处理器设定从出光面发出的光线的方向与距离，以供使用者方便对从导光体的出光面发出的光线进行后续的处理与应用。图3至图9为绘示本专利技术第一实施例的导光体辅助设计方法应用于计算机软件来计算指定光线于导光体内的行进路径的示意图。如图3与图4所示，以处理器从数据库储存的三个不同光源场角的发光源100、200、300中选定一发光源100。如图5所示，以处理器设定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种导光体辅助设计方法，其特征在于，包括：以一处理器从一数据库中选定一发光源；以该处理器从该数据库中选定一导光体的几何形状与折射率；以该处理器设定该导光体的任两个介质面分别为该发光源的一入光面及一出光面；以该处理器计算该发光源于该入光面的一入射点、一入射角、一反射角及一折射角；以及以该处理器计算该发光源分别于该入光面及该出光面的总能量。

【技术特征摘要】
1.一种导光体辅助设计方法，其特征在于，包括：以一处理器从一数据库中选定一发光源；以该处理器从该数据库中选定一导光体的几何形状与折射率；以该处理器设定该导光体的任两个介质面分别为该发光源的一入光面及一出光面；以该处理器计算该发光源于该入光面的一入射点、一入射角、一反射角及一折射角；以及以该处理器计算该发光源分别于该入光面及该出光面的总能量。2.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，该发光源以斐波那契网格方法所建立。3.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，进一步包括从以该处理器选定该发光源之后与以该处理器选定该导光体的几何形状与折射率之前，以该处理器设定该发光源于一电子装置内的一坐标位置。4.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，进一步包括以该处理器设定该入光面及该出光面之后与以该处理器计算该入射点、该入射角、该反射角及该折射角之前，以该处理器从该数据库中选定一位于该发光源与该导光体之间的挡光体。5.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，该处理器依据斯涅尔定律...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈振兴，林俊鸿，张嘉和，陈俊杰，林胤廷，
申请(专利权)人：英业达科技有限公司，英业达股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31