触控面板制造技术

一种触控面板，包含一基板、层叠设置于该基板上的一负型感光层、一膜层与一金属纳米线层以及一设置于该周边区上的周边线路；该基板具有一显示区与一周边区；该周边线路具有一接合垫，该负型感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该负型感光层、该膜层与该金属纳米线层被移除而定义出一触控感应电极并裸露出该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路。

【技术实现步骤摘要】
触控面板
本技术是关于一种触控面板。
技术介绍
由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZincOxide，AZO)。金属氧化物薄膜可通过物理气象沉积法或化学气象沉积法而形成，并通过雷射工艺而形成适当图案。然而，这些金属氧化物薄膜的制作方法可能面临高昂的成本、复杂的工艺以及低良率的问题。在部份情况下，经图案化的金属氧化物薄膜也可能有容易被观察到的问题。因此，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如传统工艺将纳米线涂布在显示区及周边区，并覆盖周边区的金属引线，之后利用蚀刻液将纳米线进行图案化，以在显示区制作出触控感应电极，并且蚀刻纳米线以在金属引线上裸露出焊接垫，以与外部电路板进行连接。上述工艺所采用的蚀刻液大多为强酸性，故会导致金属引线受到蚀刻液的作用，使产品可靠度下降；另外，蚀刻液的残留问题也需要额外的清洁过程方能克服。再一方面，利用纳米线制作触控感应电极的工艺中，通常会需要在纳米在线成形外涂层(overcoat)，以保护纳米线并将纳米线固着于基板上，而上述工艺所采用的蚀刻液仅能移除纳米线，故进行蚀刻工艺后，外涂层会残留下来，残留的外涂层的厚度会在接触阻抗与电极保护性之间形成两难冲突(tradeoff)。具体而言，若考虑电极的保护性，残留的外涂层的厚度会尽可能的加厚，但在经过蚀刻后，焊接垫上残留外涂层的厚度过厚(例如大于20nm)，将造成焊接垫与外部电路板之间的接触阻抗过大，进而导致线路在传递信号时产生耗损或失真，也就是说，过厚的残留外涂层夹设在焊接垫与外部电路板之间，会造成产品在电性表现的问题。反之，若考虑接触阻抗，残留的外涂层的厚度会尽可能的减薄，但在经过蚀刻后，形成触控感应电极的纳米在线所残留外涂层的厚度太薄，将无法提供纳米线有效的保护，也就是说，过薄的残留外涂层会造成产品的耐用性不足的问题。因此在利用纳米线制作触控感应电极的工艺上、电极结构上必须依照材料特性重新设计，使产品达到较佳的表现。
技术实现思路
本技术的部分实施方式，可提高显示区的触控感应电极的耐用性，并藉由接合垫与外部电路板的电极垫之间的直接接触结构，同时形成一低阻抗的导电线路。此外，本技术的部分实施方式中，提出了触控电极的直接图案化方法，因而产生不同于以往的触控面板结构。本技术的部分实施方式提出一种触控面板的直接图案化方法，包括：提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区，其中一周边线路设置在该周边区，该周边线路具有一接合垫；设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该显示区与该周边区；设置一半固化的膜层于该金属纳米线层上；设置一负型感光层于该半固化的膜层上；进行一黄光微影步骤，包括：将该负型感光层进行曝光以定义出一去除区与一保留区；以及使用显影液将位于该去除区的该负型感光层、该膜层与该金属纳米线层去除，以制作出设置于该显示区上的一触控感应电极并裸露出设置于该周边区的该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路，其中该触控感应电极是由该膜层与该金属纳米线层所组成；其中在该保留区中，该负型感光层覆盖于该膜层与该金属纳米线层之上；以及将该膜层进行一固化步骤。于本技术的部分实施方式中，更包括一后处理步骤，以完全移除位于该去除区的该金属纳米线层。于本技术的部分实施方式中，该后处理步骤包括使用有机溶液或碱性溶液搭配机械方式完全移除位于该去除区的该金属纳米线层。于本技术的部分实施方式中，该后处理步骤包括采用粘胶法移除位于该去除区的该金属纳米线层。于本技术的部分实施方式中，该后处理步骤包括利用微波或UV光照射移除位于该去除区的该金属纳米线层。于本技术的部分实施方式中，负型感光层的感光性高于该膜层。于本技术的部分实施方式中，该负型感光层对该半固化的膜层及该金属纳米线层所组成的结构的粘合强度大于该半固化的膜层及该金属纳米线层所组成的结构对该基板的粘合强度。本技术的部分实施方式提出一种触控面板，包含：基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；层叠设置于该基板上的一负型感光层、一膜层与一金属纳米线层；以及一设置于该周边区上的周边线路，其中该周边线路具有一接合垫，该负型感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该负型感光层、该膜层与该金属纳米线层被移除而定义出一触控感应电极并裸露出该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路。于本技术的部分实施方式中，该金属纳米线层包括金属纳米线，该金属纳米线嵌设于位于该保留区的该膜层中形成导电网络，而位于该显示区的该膜层与该金属纳米线共同形成该触控感应电极、所残留的该负型感光层覆盖于该触控感应电极上。于本技术的部分实施方式中，该负型感光层的感光性高于该膜层。于本技术的部分实施方式中，膜层的厚度为约200nm-400nm。根据本技术的部分实施方式，金属纳米线层与该周边线路会在该显示区与该周边区的交界处形成搭接结构。于本技术的部分实施方式中，触控感应电极延伸至该周边区而覆盖于该周边线路上，但并不覆盖于该接合垫上。于本技术的部分实施方式中，金属纳米线层包括金属纳米线，去除区残留有金属纳米线，其浓度低于一渗透临限值。于本技术的部分实施方式中，显示区中具有多个朝同一方向延伸的长直状电极。于本技术的部分实施方式中，基板的相对两面上均具有对应该显示区的该触控感应电极。于本技术的部分实施方式中，该负型感光层与该膜层的厚度总和为约5μm-10μm。附图说明图1为根据本技术的部分实施方式的触控面板的制作方法的流程图。图2为根据本技术的部分实施方式的基板的上视示意图。图2A为沿图2的线2A-2A的剖面示意图。图3为图1的制作方法中的步骤S1的上视示意图。图3A为沿图3的线3A-3A的剖面示意图。图4为图1的制作方法中的步骤S2的上视示意图。图4A为沿图4的线4A-4A的剖面示意图。图5为本技术的部分实施方式的触控面板。图5A为步骤S3中的沿图5的线5A-5A的剖面示意图。图5B为步骤S3中的沿图5的线5B-5B的剖面示意图。图6A为步骤S4中的沿图5的线5A-5A的剖面示意图。图6B为步骤S4中的沿图5的线5B-5B的剖面示意图。图7为本技术的变化实施态样的示意图。图8为根据本技术的部分实施方式的触控面板的上视示意图。图9显示本技术的部分实施方式的触控面板与其他电子装置组装的示意图。其中，附图标记为：100：显示元件TE、TE1、TE2：触控感应电极110：基板CE：连接电极120：周边线路D1：第一方向130：膜层D2：第二方向136：非导电区域150：负型感光层140：金属纳米线140A：金属纳米线层162：桥接导线AD：光学胶164：绝缘块CG：外盖玻璃170：接合垫180：外部电路板S1～S4：步骤130A：保留区本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控面板，其特征在于，包含：一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；层叠设置于该基板上的一负型感光层、一膜层与一金属纳米线层；及一设置于该周边区上的周边线路，其中该周边线路具有一接合垫，该负型感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该负型感光层、该膜层与该金属纳米线层被移除而定义出一触控感应电极并裸露出该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路。

【技术特征摘要】
1.一种触控面板，其特征在于，包含：一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；层叠设置于该基板上的一负型感光层、一膜层与一金属纳米线层；及一设置于该周边区上的周边线路，其中该周边线路具有一接合垫，该负型感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，位于该去除区的该负型感光层、该膜层与该金属纳米线层被移除而定义出一触控感应电极并裸露出该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路。2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该金属纳米线层包括金属纳米线，该金属纳米线嵌设于位于该保留区的该膜层中形成导电网络，而位于该显示区的该膜层与该金属纳米线共同形成该触控感应电极、所残留的该负型感光层覆盖于该触控感应电极上。3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该负型感光层的感光性高于该膜层。4.如权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李昭松，纪贺勋，方芳，黄振潘，余建贤，陈志民，吴珊瑀，
申请(专利权)人：宸鸿光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71