用于界定设计数据的重复结构中的关注区域的系统及方法技术方案

本发明专利技术揭示一种方法，其包含：识别具有第一敏感度阈值的第一关注区域的第一集合，所述第一关注区域与设计数据中的重复单元块内的第一受关注设计相关联；识别具有额外敏感度阈值的额外关注区域的额外集合，所述额外关注区域与设计数据中的重复单元块内的额外受关注设计相关联；基于所述第一敏感度阈值识别样本的选定区域的一或多个图像中的第一关注区域的所述第一集合内的一或多个缺陷；及基于所述额外敏感度阈值识别所述样本的所述选定区域的所述一或多个图像中的所述额外关注区域的所述额外集合内的一或多个缺陷。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于界定设计数据的重复结构中的关注区域的系统及方法优先权本申请案依据35U.S.C.§119(e)主张专利技术人为黄俊青(JunqingHuang)、赛林·康乃琪(SorenKonecky)、李胡成(HuchengLee)、吴可浓(KenongWu)及高立生(LishengGao)的标题为“通过用户在设计视图中进行拖动来界定重复结构中的关注区域(DEFININGCAREAREAINREPEATINGSTRUCTUREBYUSERDRAWINGINDESIGNVIEW)”的2016年3月29日申请的第62/314,725号美国临时专利申请案的优先权，所述申请案的全文以引用的方式并入本文中。
本专利技术大体上涉及晶片检验及复检，且更特定来说，本专利技术涉及在晶片检验期间以设计数据的重复结构中的界定的关注区域定位缺陷。
技术介绍
制造半导体装置(例如逻辑及存储器装置)通常包含使用大量半导体制造工艺处理衬底(例如半导体晶片)以形成半导体装置的各种特征及多个层级。多个半导体装置可在单个半导体晶片上制造成某一布置且接着分离为个别半导体装置。在制造工艺期间半导体装置可能会逐渐形成缺陷。在半导体制造工艺期间的各种步骤处执行检验过程以检测样本上的缺陷。检验过程是制造半导体装置(例如集成电路)的重要部分，随着半导体装置的尺寸的减小，检验过程对于成功制造可接受半导体装置变得更加重要。随着半导体装置的尺寸的减小而极其需要缺陷检测，因为相对较小的缺陷可引起半导体装置中的非所要失常。一种缺陷检测方法包含比较晶片检验图像与晶片设计数据，其中所述晶片设计数据包含一或多个关注区域。所述关注区域指示具有成为缺陷位置的可能性的受关注设计。然而，界定关注区域的已知方法可为劳动力及/或运算密集型的。因而，将期望提供一种用于改进的晶片检验及缺陷分类的解决方案以解决制造问题且提供改进的晶片检验能力。
技术实现思路
根据本专利技术的一或多个实施例揭示一种系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含检验工具。在另一说明性实施例中，所述系统包含用户接口。在另一说明性实施例中，所述系统包含控制器，所述控制器包含经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器。在另一说明性实施例中，所述程序指令经配置以使得一或多个处理器接收设计数据。在另一说明性实施例中，所述设计数据包含重复单元块。在另一说明性实施例中，所述程序指令经配置以使得所述一或多个处理器在用户接口上呈现重复单元块的特定单元。在另一说明性实施例中，所述程序指令经配置以使得一或多个处理器界定与特定单元中的第一受关注设计相关联的第一关注区域。在另一说明的实施例中，第一关注区域具有第一敏感度阈值。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器界定与特定单元中的额外受关注设计相关联的额外关注区域。在另一说明性实施例中，额外关注区域具有额外敏感度阈值。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器通过执行搜索功能而识别重复单元块内的第一关注区域的集合，以识别重复单元块内的第一受关注设计的额外出现。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器通过执行搜索功能而识别重复单元块内的额外关注区域的集合，以识别重复单元块内的额外受关注设计的额外出现。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器从检验工具接收样本的选定区域的一或多个图像。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器基于第一敏感度阈值而识别样本的选定区域的一或多个图像中的关注区域的第一集合内的一或多个缺陷。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器基于额外敏感度阈值而识别样本的选定区域的一或多个图像中的关注区域的额外集合内的一或多个缺陷。根据本专利技术的一或多个实施例揭示一种系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含检验工具。在另一说明性实施例中，所述系统包含用户接口。在另一说明性实施例中，所述系统包含用户接口。在另一说明性实施例中，所述系统包含控制器，所述控制器包含经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器。在另一说明性实施例中，所述程序指令经配置以使得一或多个处理器接收设计数据。在另一说明性实施例中，所述设计数据包含重复单元块。在另一说明性实施例中，所述程序指令经配置以使得所述一或多个处理器在用户接口上呈现重复单元块的特定单元。在另一说明性实施例中，所述程序指令经配置以使得一或多个处理器界定与特定单元中的第一受关注设计相关联的第一关注区域。在另一说明性实施例中，第一关注区域具有第一敏感度阈值。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器界定与特定单元中的额外受关注设计相关联的额外关注区域。在另一说明性实施例中，额外关注区域具有额外敏感度阈值。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器通过执行搜索功能而识别重复单元块内的第一关注区域的集合，以识别重复单元块内的第一受关注设计的额外出现。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器通过执行搜索功能而识别重复单元块内的额外关注区域的集合，以识别重复单元块内的额外受关注设计的额外出现。根据本专利技术揭示一种系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含检验工具。在另一说明性实施例中，所述系统包含用户接口。在另一说明性实施例中，所述系统包含控制器，所述控制器包含经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器。在另一说明性实施例中，所述程序指令经配置以使得一或多个处理器识别第一关注区域的第一集合。在另一说明性实施例中，所述第一关注区域与设计数据中的重复单元块内的第一受关注设计相关联。在另一说明性实施例中，所述第一关注区域具有第一敏感度阈值。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器识别额外关注区域的额外集合。在另一说明性实施例中，所述额外关注区域与设计数据中的重复单元块内的额外受关注设计相关联。在另一说明性实施例中，所述额外关注区域具有额外敏感度阈值。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器从检验工具接收样本的选定区域的一或多个图像。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器基于第一敏感度阈值识别样本的选定区域的一或多个图像中的第一关注区域的第一集合内的一或多个缺陷。在另一说明性实施例中，程序指令经配置以使得一或多个处理器基于额外敏感度阈值识别样本的选定区域的一或多个图像中的额外关注区域的额外集合内的一或多个缺陷。根据本专利技术的一或多个实施例揭示一种方法。在一个说明性实施例中，所述方法可包含(但不限于)接收设计数据。在另一说明性实施例中，所述设计数据包含重复单元块。在另一说明性实施例中，所述方法可包含(但不限于)在用户接口上呈现重复单元块的特定单元。在另一说明性实施例中，所述方法可包含(但不限于)界定与特定单元中的第一受关注设计相关联的第一关注区域。在另一说明性实施例中，第一关注区域具有第一敏感度阈值。在另一说明性实施例中，所述方法可包含(但不限于)界定与特定单元中的额外受关注设计相关联的额外关注区域。在另一说明性实施例中，额外关注区域具有额外敏感度阈值。在另一说明性实施例中，所述方法可包含(但不限于)通过执行搜索功能而识别重复单元块内的第一关注区域的集合，以识本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种系统，其包括：检验工具；用户接口；及控制器，其包含经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器，其中所述程序指令经配置以使得所述一或多个处理器：接收设计数据，其中所述设计数据包含重复单元块；在所述用户接口上呈现所述重复单元块的特定单元；界定与所述特定单元中的第一受关注设计相关联的第一关注区域，其中所述第一关注区域具有第一敏感度阈值；界定与所述特定单元中的额外受关注设计相关联的额外关注区域，其中所述额外关注区域具有额外敏感度阈值；通过执行搜索功能而识别所述重复单元块内的第一关注区域的集合，以识别所述重复单元块内的所述第一受关注设计的额外出现；通过执行搜索功能而识别所述重复单元块内的额外关注区域的集合，以识别所述重复单元块内的所述额外受关注设计的额外出现；从所述检验工具接收样本的选定区域的一或多个图像；基于所述第一敏感度阈值而识别所述样本的所述选定区域的所述一或多个图像中的关注区域的所述第一集合内的一或多个缺陷；及基于所述额外敏感度阈值而识别所述样本的所述选定区域的所述一或多个图像中的关注区域的所述额外集合内的一或多个缺陷。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.29 US 62/314,725;2016.11.15 US 15/351,8131.一种系统，其包括：检验工具；用户接口；及控制器，其包含经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器，其中所述程序指令经配置以使得所述一或多个处理器：接收设计数据，其中所述设计数据包含重复单元块；在所述用户接口上呈现所述重复单元块的特定单元；界定与所述特定单元中的第一受关注设计相关联的第一关注区域，其中所述第一关注区域具有第一敏感度阈值；界定与所述特定单元中的额外受关注设计相关联的额外关注区域，其中所述额外关注区域具有额外敏感度阈值；通过执行搜索功能而识别所述重复单元块内的第一关注区域的集合，以识别所述重复单元块内的所述第一受关注设计的额外出现；通过执行搜索功能而识别所述重复单元块内的额外关注区域的集合，以识别所述重复单元块内的所述额外受关注设计的额外出现；从所述检验工具接收样本的选定区域的一或多个图像；基于所述第一敏感度阈值而识别所述样本的所述选定区域的所述一或多个图像中的关注区域的所述第一集合内的一或多个缺陷；及基于所述额外敏感度阈值而识别所述样本的所述选定区域的所述一或多个图像中的关注区域的所述额外集合内的一或多个缺陷。2.根据权利要求1所述的系统，其中基于由所述控制器经由所述用户接口接收的选择而界定所述第一关注区域及所述额外关注区域中的至少一者。3.根据权利要求1所述的系统，其中识别与所述重复单元块内的相关联的所述第一受关注设计的额外出现的所述搜索功能包含像素与设计对准过程。4.根据权利要求1所述的系统，其中识别所述重复单元块内的所述额外受关注设计的额外出现的所述搜索功能包含像素与设计对准过程。5.根据权利要求1所述的系统，其中利用所述重复单元块内的第一关注区域的所述识别的集合及所述重复单元块内的额外关注区域的所述识别的集合中的至少一者执行运行时间内容映图演现。6.根据权利要求1所述的系统，其中依据所述第一关注区域内的比较标记的数目确定所述第一敏感度阈值，其中所述第一关注区域内的较少数目的比较标记对应于用于所述第一关注区域的较高敏感度阈值。7.根据权利要求1所述的系统，其中依据所述额外关注区域内的比较标记的数目确定所述额外敏感度阈值，其中所述额外关注区域内的较少数目的比较标记对应于用于所述额外关注区域的较高敏感度阈值。8.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一敏感度阈值高于所述额外敏感度阈值。9.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验工具包括暗场检验工具或亮场检验工具中的至少一者。10.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验系统包含照明源。11.根据权利要求10所述的系统，其中所述照明源包括：窄带源或宽带源中的至少一者。12.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验工具包括：扫描电子显微镜SEM工具。13.一种系统，其包括：检验工具；用户接口；及控制器，其包含经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器，其中所述程序指令经配置以使得所述一或多个处理器：接收设计数据，其中所述设计数据包含重复单元块；在所述用户接口上呈现所述重复单元块的特定单元；界定与所述特定单元中的第一受关注设计相关联的第一关注区域，其中所述第一关注区域具有第一敏感度阈值；界定与所述特定单元中的额外受关注设计相关联的额外关注区域，其中所述额外关注区域具有额外敏感度阈值；通过执行搜索功能而识别所述重复单元块内的第一关注区域的集合，以识别所述重复单元块内的所述第一受关注设计的额外出现；及通过执行搜索功能而识别所述重复单元块内的额外关注区域的集合，以识别所述重复单元块内的所述额外受关注设计的...

【专利技术属性】
技术研发人员：俊青珍妮·黄，S·科内茨基，李胡成，肯翁·吴，高理升，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US