具有螺二芴结构的化合物制造技术

技术编号:19393912 阅读:38 留言:0更新日期:2018-11-10 03:57
本发明专利技术涉及被吡啶和/或嘧啶基团取代的螺二芴衍生物,其特别是用于电子器件中。本发明专利技术还涉及用于制备根据本发明专利技术的化合物的方法,以及涉及包含所述化合物的电子器件。

Compounds with spiro two fluorene structure

The present invention relates to spirodifluorene derivatives substituted by pyridine and/or pyrimidine groups, in particular for use in electronic devices. The invention also relates to a method for preparing a compound according to the invention and to an electronic device containing the compound.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有螺二芴结构的化合物本专利技术描述了被吡啶和/或嘧啶基团取代的螺二芴衍生物,其特别是用于电子器件中。本专利技术还涉及用于制备本专利技术化合物的方法以及涉及包含这些化合物的电子器件。其中使用有机半导体作为功能材料的有机电致发光器件(OLED)的结构描述于例如US4539507、US5151629、EP0676461和WO98/27136中。所使用的发光材料通常是显示磷光的有机金属络合物。出于量子力学原因,使用有机金属化合物作为磷光发光体可实现高达四倍的能量效率和功率效率。一般而言,对于OLED,特别是对于显示磷光的OLED,仍然需要改进,例如在效率、工作电压和寿命方面仍然需要改进。有机电致发光器件的性能不仅取决于所用的发光体。这里特别重要的尤其是所用的其它材料,例如主体和基质材料、空穴阻挡材料、电子传输材料、空穴传输材料和电子或激子阻挡材料。对这些材料的改进可以导致对电致发光器件的明显改进。根据现有技术通常用作磷光化合物的基质材料以及用作电子传输材料的是杂芳族化合物,例如三嗪衍生物或苯并咪唑衍生物。这种功能的已知衍生物是例如在2位被三嗪基团取代的螺二芴衍生物,如WO2010/015306和WO2010/072300中所公开的。另外,US2004/147742和WO2005/053055描述了在2位被嘧啶基团取代的螺二芴衍生物。然而,嘧啶基与螺二芴基团直接键合。另外,EP2468731公开了具有芴结构的杂环化合物。类似化合物另外获知于WO2013/191429和EP2108689。一般而言,在例如这些材料用作基质材料的情况下,仍需要改进,特别是关于寿命的改进,以及关于器件的效率和工作电压的改进。因此,本专利技术解决的问题是提供适用于有机电子器件中,特别是用于有机电致发光器件中并且当用于该器件中时导致良好器件性能的化合物,以及提供相应的电子器件。更具体地说,本专利技术解决的问题是提供导致高寿命、良好效率和低工作电压的化合物。特别是,基质材料的性质对有机电致发光器件的寿命和效率也具有重大影响。本专利技术解决的另一个问题可以认为是提供适用于磷光或荧光OLED中,尤其是作为基质材料的化合物。本专利技术的一个特定目的是提供适合发红色、黄色和绿色磷光的OLED并且也可适合发蓝色磷光的OLED的基质材料。此外,所述化合物应该能够以非常简单的方式加工,并且尤其展现出良好的溶解性和成膜性。例如,所述化合物应展现提高的氧化稳定性和改进的玻璃化转变温度。另一个目的可以认为是非常廉价地且以恒定质量提供具有优异性能的电子器件。此外,应该可以将所述电子器件用于许多目的或进行调整以使所述电子器件适用于许多目的。更具体地说,电子器件的性能应该在宽泛温度范围内得到保持。令人惊讶的是,已发现下文详细描述的特定化合物解决了这些问题并且消除了现有技术的缺点。所述化合物的使用导致有机电子器件,尤其是有机电致发光器件的非常好的性能,尤其是在寿命、效率和工作电压方面更是情况如此。因此,本专利技术提供了含有这些化合物的电子器件,尤其是有机电致发光器件,以及相应的优选实施方式。因此,本专利技术提供了下式(I)的化合物:其中所用的符号如下:X在每种情况下相同或不同并且是N或CR1,优选是CR1,其条件是一个环中不超过两个X基团是N,或者C是L1基团的键合位点;Q是嘧啶或吡啶基团,其在每种情况下可被一个或多个R1基团取代;L1是具有5至24个芳族或杂芳族环原子并且可被一个或多个R1基团取代的芳族或杂芳族环系,其中所述具有5至24个芳族或杂芳族环原子的芳族或杂芳族环系包含不超过2个氮原子;R1在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,Cl,Br,I,CN,Si(R2)3,具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R2基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团在每种情况下可被-R2C=CR2-、-C≡C-、Si(R2)2、C=O、C=S、C=NR2、-C(=O)O-、-C(=O)NR2-、NR2、P(=O)(R2)、-O-、-S-、SO或SO2代替并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R2基团取代的芳族或杂芳族环系,具有5至60个芳族环原子并且可被一个或多个R2基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或具有5至60个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R2基团取代的芳烷基基团,或这些体系的组合,其中两个或更多个相邻的R1取代基可任选形成单环或多环的脂族或芳族环系,所述脂族或芳族环系可被一个或多个R2基团取代;R2在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,Cl,Br,I,CN,Si(R2)3,具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R3基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=S、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系,或具有5至60个芳族环原子并且可被一个或多个R3基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或具有5至60个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R2基团取代的芳烷基基团,或这些体系的组合,其中两个或更多个相邻的R2取代基可任选形成单环或多环的脂族或芳族环系,所述脂族或芳族环系可被一个或多个R3基团取代;R3在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,或具有1至20个碳原子的脂族烃基,其中一个或多个氢原子可被D或F代替,或具有5至30个碳原子的芳族和/或杂芳族环系,其中一个或多个氢原子可被D或F代替,其中两个或更多个相邻的R3取代基可任选形成单环或多环的脂族或芳族环系。在本专利技术的上下文中,相邻碳原子是彼此直接键合的碳原子。另外,基团定义中的“相邻基团”是指这些基团与相同的碳原子或相邻的碳原子键合。这些定义尤其相应地适用于术语“相邻基团”和“相邻取代基”。在本说明书的上下文中,两个或更多个基团一起可形成环的措词应理解为尤其是指所述两个基团通过化学键相互连接并且在形式上消除两个氢原子。这通过以下方案来示例:然而,此外,上述措词也应理解为是指,如果两个基团之一是氢,则第二个基团结合至氢原子的键合位置,从而成环。这将通过以下方案来示例:在本专利技术上下文中的稠合芳基基团、稠合芳族环系或稠合杂芳族环系是其中两个或更多个芳族基团沿共用边相互稠合(即增环)以使得例如两个碳原子属于至少两个芳族或杂芳族环的基团,和例如萘中的情况一样。相反,例如,由于芴中的两个芳族基团不具有共用边,所以芴不是本专利技术上下文中的稠合芳基基团。相应的定义适用于杂芳基基团并且适用于稠合环系,所述稠合环系可以含有但也不用含有杂原子。在本专利技术上下文中的芳基基团含有6至40个碳原子;在本专利技术上下文中的杂芳基基团含有2至40个碳原子和至少一个杂原本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种式(I)的化合物

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.17 EP 16160960.71.一种式(I)的化合物其中所用的符号如下:X在每种情况下相同或不同并且是N或CR1,优选是CR1,其条件是一个环中不超过两个X基团是N,或者C是L1基团的键合位点;Q是嘧啶或吡啶基团,所述嘧啶或吡啶基团在每种情况下可被一个或多个R1基团取代;L1是具有5至24个芳族或杂芳族环原子并且可被一个或多个R1基团取代的芳族或杂芳族环系,其中具有5至24个芳族或杂芳族环原子的所述芳族或杂芳族环系包含不超过2个氮原子;R1在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,Cl,Br,I,CN,Si(R2)3,具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R2基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团在每种情况下可被-R2C=CR2-、-C≡C-、Si(R2)2、C=O、C=S、C=NR2、-C(=O)O-、-C(=O)NR2-、NR2、P(=O)(R2)、-O-、-S-、SO或SO2代替并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R2基团取代的芳族或杂芳族环系,具有5至60个芳族环原子并且可被一个或多个R2基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或具有5至60个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R2基团取代的芳烷基基团,或这些体系的组合,其中两个或更多个相邻的R1取代基可任选形成单环或多环的脂族或芳族环系,所述脂族或芳族环系可被一个或多个R2基团取代;R2在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,Cl,Br,I,CN,Si(R2)3,具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,或具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R3基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=S、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系,或具有5至60个芳族环原子并且可被一个或多个R3基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或具有5至60个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R2基团取代的芳烷基基团,或这些体系的组合,其中两个或更多个相邻的R2取代基可任选形成单环或多环的脂族或芳族环系,所述脂族或芳族环系可被一个或多个R3基团取代;R3在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,或具有1至20个碳原子的脂族烃基,其中一个或多个氢原子可被D或F代替,或具有5至30个碳原子的芳族和/或杂芳族环系,其中一个或多个氢原子可被D或F代替,其中两个或更多个相邻的R3取代基可任选形成单环或多环的脂族或芳族环系。2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于形成式(Ia)的结构其中符号X、L1和Q具有权利要求1中给出的定义。3.根据权利要求1或2所述的化合物,其特征在于形成式(II)和/或(IIa)的结构其中符号X、L1和Q具有权利要求1中给出的定义。4.根据前述权利要求中的至少一项所述的化合物,其特征在于,在式(I)、(Ia)和(IIa)中,不超过两个X基团是N,优选不超过一个X基团是N,优选所有X都是CR1,其中X所代表的所述CR1基团中的优选至多4个、更优选至多3个、特别优选至多2个不是CH基团。5.根据前述权利要求中的至少一项所述的化合物,其特征在于所述化合物具有式(III)和/或(IV)的结构中的至少一个其中符号Q、L1和R1具有权利要求1中给出的定义,m是0、1、2、3或4,优选是0、1或2,并且n是0、1、2或3,优选是0、1或2。6.根据前述权利要求中的至少一项所述的化合物,其特征在于Q基团选自式(Q-1)、(Q-2)、(Q-3)和/或(Q-4)的结构其中符号X和R1具有上文在权利要求1中给出的定义并且虚线键标记连接位置,其中X优选是氮原子。7.根据前述权利要求中的至少一项所述的化合物,其特征在于Q基团选自式(Q-5)、(Q-6)、(Q-...

【专利技术属性】
技术研发人员:玛加丽塔·武赫雷尔普利特克尔阿米尔·帕勒姆塞巴斯汀·迈耶托比亚斯·格罗斯曼
申请(专利权)人:默克专利有限公司
类型:发明
国别省市:德国,DE

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