用于清洁剂的消泡剂组合物制造技术

本发明专利技术涉及新的发泡剂组合物，其包含(A)消泡剂混合物，所述消泡剂混合物包含(a1)至少一种具有下式的单元的有机硅化合物：Ra(R

Defoamer composition for cleaning agent

The invention relates to a new foaming agent composition comprising (A) defoamer mixture comprising (a1) at least one organosilicon compound having the following unit: Ra (R).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于清洁剂的消泡剂组合物本专利技术涉及包含特定聚硅氧烷和聚醚的消泡剂组合物，及其用于水性介质，特别是含水表面活性剂制剂的消泡的用途。在许多包括表面活性化合物作为需要的或者不需要的成分的液体体系中，特别是含水体系中，如果这些体系与气态物质或多或少地紧密接触，可能会发生由于发泡引起的问题，例如在喷射废水时，当剧烈搅拌液体时，在蒸馏，洗涤或着色操作中，或在分配过程中。控制这种泡沫可以通过机械方式或通过添加消泡剂来完成。在这种情况下，已发现基于硅氧烷的消泡剂特别有用。基于硅氧烷的消泡剂例如根据DE-B1519987通过在聚二甲基硅氧烷中加热亲水性二氧化硅来制备。基于聚二甲基硅氧烷的消泡剂具有以下缺点：聚二甲基硅氧烷与大多数表面活性剂体系例如润湿剂或液体洗涤组合物具有较差的相容性，并且倾向于分离出来，这是非常不希望的。因此，已经进行了许多努力来寻找在液体洗涤组合物中具有良好相容性并且即使在储存后也具有良好功效的消泡剂。自乳化消泡剂的使用(US4,075,118A)导致良好的相容性，但效力有限。因此，已经尝试在基于支化的高粘度硅氧烷的液体洗涤组合物中特别地抵消在储存过程中消泡剂的作用丧失(EP499364B1，EP635564A1)。同样已经尝试使用聚醚-硅氧烷(US4,983,316A)，使用非水乳液(EP638346B1)和使用溶剂与Al皂或Mg皂的组合(US6,004,918A)。同样提出了烷基芳基油与支化聚醚硅氧烷和聚醚改性的MQ树脂的组合使用(US8,536,109B2)。这些技术方案的共同点是在成本、相容性、功效和长期稳定性之间的平衡是不能令人满意的。因此，本专利技术的一个目的是提供消泡剂制剂，该消泡剂制剂可以以简单且廉价的方式生产，并且即使在储存后也具有与液体洗涤组合物的良好相容性和良好的功效。该目的通过配制消泡剂组合物来实现，所述消泡剂组合物包含消泡剂化合物和限定的聚醚和任选存在的聚醚硅氧烷，所述消泡剂化合物包含具有直接与硅键合的芳族基团的液体聚有机硅氧烷、有机硅树脂和/或填料。本专利技术提供了包含以下的消泡剂组合物：(A)消泡剂混合物，其包含：(a1)至少一种具有下式的单元的有机硅化合物：Ra(R1O)bR2cSiO(4-a-b-c)/2(I)其中R可以相同或不同，并且是氢原子或是通过脂族基团与硅原子键合的、任选取代的SiC键合的单价脂族烃基或芳族烃基，R1可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的单价烃基，R2可以相同或不同，是通过环碳原子与硅原子键合的任选取代的单价芳族烃基，a是0、1、2或3，b是0、1、2或3，和c是0、1、2或3，条件是a+b+c之和不大于3，并且在式(I)的所有单元的1-100％，优选10-60％，更优选20-40％中，c不是0，以及在有机硅化合物中式(I)的所有单元的至少50％中，a+b+c之和为2，(a2)至少一种选自以下(a21)和/或(a22)的添加剂：(a21)填料颗粒，优选二氧化硅、硅石、二氧化钛或氧化铝，和/或(a22)由下式的单元组成的有机聚硅氧烷树脂R3d(R4O)eSiO(4-d-e)/2(II)其中R3可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的、SiC键合的单价烃基，R4可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的单价烃基，d为0、1、2或3，和e是0、1、2或3，条件是d+e之和不大于3，并且在有机聚硅氧烷树脂中式(II)的所有单元的小于50％中，d+e之和为2，以及任选存在的(a3)具有下式的单元的有机硅化合物：R5g(R6O)hSiO(4-g-h)/2(III)其中R5可以相同或不同，并且具有为R指定的定义，R6可以相同或不同，并具有为R1指定的定义，g为0、1、2或3，和h是0、1、2或3，条件是g+h之和不大于3，并且在有机硅化合物中式(III)的所有单元的至少50％中，g+h之和为2，(B)聚氧化烯，其选自聚丙二醇、末端醚化或酯化的聚丙二醇、聚丙二醇/聚乙二醇共聚物、末端醚化或酯化的聚丙二醇/聚乙二醇共聚物及其混合物，任选存在的(C)聚醚改性的硅氧烷，任选存在的(D)有机化合物，和任选存在的(F)其它添加剂。R基团的实例是烷基，例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、己基例如正己基、庚基如正庚基、辛基如正辛基和异辛基如2,2,4-三甲基戊基、壬基如正壬基、癸基如正癸基、十二烷基如正十二烷基；烯基，如乙烯基和烯丙基；环烷基，如环戊基、环己基、环庚基和甲基环己基，和通过脂族基团与硅原子键合的芳基，如苄基、苯乙基或2-苯丙基。取代的R基团的实例是3,3,3-三氟正丙基、氰基乙基、缩水甘油氧基正丙基、聚亚烷基二醇正丙基、氨基正丙基、氨基乙基氨基正丙基和甲基丙烯酰氧基正丙基。R基团优选为氢原子或为具有1至30个碳原子的任选取代的单价脂族烃基，更优选为具有1至4个碳原子的单价脂族烃基，更特别为甲基。R1基团的实例是氢原子以及R和R2基团所述的基团。R1基团优选为氢原子或具有1至30个碳原子的任选取代的单价烃基，更优选为氢原子或具有1至4个碳原子的单价烃基，更特别是甲基或乙基。R2的实例是芳基，例如苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、萘基和蒽基。R2基团优选为苯基。组分(a1)中的SiC键合的基团中优选10至100mol％，更优选15至50mol％是R2基团。R3基团的实例是氢原子以及R和R2基团所述的基团。优选地，R3基团是具有1至30个碳原子的任选取代的单价烃基，优选具有1至6个碳原子的单价烃基，尤其是甲基。R4基团的实例是用于R1基团所述的基团。优选地，R4基团是氢原子或具有1至4个碳原子的单价烃基，尤其是氢原子或甲基或乙基。优选地，d的值为3或0。R5基团的实例是用于R基团的实例。优选地，R5基团是氢原子或具有1至30个碳原子的任选取代的单价脂族烃基，优选具有1至4个碳原子的单价脂族烃基，尤其是甲基。R6基团的实例是氢原子和用于R和R2基团所述的基团。优选地，R6基团是氢原子或具有1至30个碳原子的任选取代的单价烃基，优选氢原子或具有1至4个碳原子的单价烃基，尤其是甲基或乙基。对于本专利技术关键的是，组分(A)包含含有直接与硅原子键合的芳族基团的聚有机硅氧烷(a1)。这意味着在式(I)的单元中的硅原子与属于芳环的碳原子之间存在共价键。组分(A)描述于DE102004040263A1中。优选地，有机硅化合物(a1)是由式(I)的单元组成的有机聚硅氧烷。组分(a1)的实例是含有一个或多个以下式的单元的那些：Ph3SiO1/2-，Ph2MeSiO1/2-，PhMe2SiO1/2-，Ph2SiO2/2-，PhMeSiO2/2-和PhSiO3/2-，其中Me是甲基，Ph是苯基，例如：下式的线性聚硅氧烷：Me3SiO(Ph2SiO)x(Me2SiO)zSiMe3，Me3SiO(PhMeSiO)y(Me2SiO)zSiMe3，Me3SiO(Ph2SiO)x(PhMeSiO)y(Me2SiO)zSiMe3和Me3SiO(Ph2SiO)x(Me2SiO)zSiMe3，以及下式的支化聚硅氧烷：MeSi[O(Ph2SiO)x(Me2SiO)zSiMe3]3，PhSi[O(PhMeSiO)y(Me2SiO)zSiMe3]3和Me本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种消泡剂组合物，其包含：(A)消泡剂混合物，所述消泡剂混合物包含：(a1)至少一种具有下式的单元的有机硅化合物：Ra(R1O)bR2cSiO(4‑a‑b‑c)/2  (I)其中R可以相同或不同，并且是氢原子或是通过脂族基团与硅原子键合的、任选取代的、SiC键合的单价脂族烃基或芳族烃基，R1可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的单价烃基，R2可以相同或不同，是通过环碳原子与硅原子键合的任选取代的单价芳族烃基，a是0、1、2或3，b是0、1、2或3，和c是0、1、2或3，条件是a+b+c之和不大于3，并且在式(I)的所有单元的1‑100％中，c不是0，以及在所述有机硅化合物中式(I)的所有单元的至少50％中，a+b+c之和为2，(a2)至少一种选自以下(a21)和/或(a22)的添加剂：(a21)填料颗粒，和/或(a22)由下式的单元组成的有机聚硅氧烷树脂：R3d(R4O)eSiO(4‑d‑e)/2  (II)其中R3可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的、SiC键合的单价烃基，R4可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的单价烃基，d为0、1、2或3，和e是0、1、2或3，条件是d+e之和不大于3，并且在所述有机聚硅氧烷树脂中式(II)的所有单元的小于50％中，d+e之和为2，以及任选存在的(a3)具有下式的单元的有机硅化合物：R5g(R6O)hSiO(4‑g‑h)/2  (III)其中R5可以相同或不同，并且具有为R指定的定义，R6可以相同或不同，并且具有为R1指定的定义，g为0、1、2或3，和h是0、1、2或3，条件是g+h之和不大于3，并且在所述有机硅化合物中式(III)的所有单元的至少50％中，g+h之和为2，(B)聚氧化烯，其选自聚丙二醇、末端醚化或酯化的聚丙二醇、聚丙二醇/聚乙二醇共聚物、末端醚化或酯化的聚丙二醇/聚乙二醇共聚物及其混合物，任选存在的(C)聚醚改性的硅氧烷，任选存在的(D)有机化合物，和任选存在的(F)其它添加剂。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.01 DE 102016203344.11.一种消泡剂组合物，其包含：(A)消泡剂混合物，所述消泡剂混合物包含：(a1)至少一种具有下式的单元的有机硅化合物：Ra(R1O)bR2cSiO(4-a-b-c)/2(I)其中R可以相同或不同，并且是氢原子或是通过脂族基团与硅原子键合的、任选取代的、SiC键合的单价脂族烃基或芳族烃基，R1可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的单价烃基，R2可以相同或不同，是通过环碳原子与硅原子键合的任选取代的单价芳族烃基，a是0、1、2或3，b是0、1、2或3，和c是0、1、2或3，条件是a+b+c之和不大于3，并且在式(I)的所有单元的1-100％中，c不是0，以及在所述有机硅化合物中式(I)的所有单元的至少50％中，a+b+c之和为2，(a2)至少一种选自以下(a21)和/或(a22)的添加剂：(a21)填料颗粒，和/或(a22)由下式的单元组成的有机聚硅氧烷树脂：R3d(R4O)eSiO(4-d-e)/2(II)其中R3可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的、SiC键合的单价烃基，R4可以相同或不同，并且是氢原子或任选取代的单价烃基，d为0、1、2或3，和e是0、1、2或3，条件是d+e之和不大于3，并且在所述有机聚硅氧烷树脂中式(II)的所有单元的小于50％中，d+e之和为2，以及任选存在的(a3)具有下式的单元的有机硅化合物：R5g(R6O)hSiO(4-g-h)/2(III)其中R5可以相同或不同，并且具有为R指定的定义，R6可以相同或不同，并且具有为R1指定的定义，g为0、1、2或3，和h是0、1、2或3，条件是g+h之和不大于3，并且在所述有机硅化合物中式(III)的所有单元的至少50％中，g+h之和为2，(B)聚氧化烯，其选自聚丙二醇、末端醚化或酯化的聚丙二醇、聚丙二醇/聚乙二醇共聚物、末端醚化或酯化的聚丙二醇/聚乙二醇共聚物及其混合物，任选存在的(C)聚醚改性的硅氧烷，任选存在的(D)有机化合物，和任选存在的(F)其它添加剂。2.如权利要求1所述的消泡剂组合物，其特征在于，R是具有1至4个碳原子的单价脂族烃基，优选甲...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·劳特舍克，R·贝克尔，C·布雷姆，
申请(专利权)人：瓦克化学股份公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE