一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法技术

本发明专利技术公开了一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法，包括：有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；非有效区域，设置在所述有效区域的周围；对位精度检测图案，设置在所述非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案，所述制备基板能够利用同一所述光罩图案而在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块。通过上述方式，本发明专利技术能够确定不同颜色层间图形的相对位置精度，提高产品质量。

Preparation of color filter substrate and manufacturing method of color filter substrate

The invention discloses a preparation method of a color filter substrate and a manufacturing method of a color filter substrate, including: an effective region for forming a first color block, a second color block and a third color block arranged in a matrix; an inefficient region for setting around the effective region; and alignment accuracy. A detection pattern is arranged in the non-effective area and includes a first, second and third alignment accuracy detection pattern. The prepared substrate can form the first color block and the second color block on the prepared substrate using the same mask pattern. The blocking block and the third color color blocking block. By the above method, the relative position accuracy of the graphics between different color layers can be determined, and the product quality can be improved.

【技术实现步骤摘要】
一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法
本专利技术涉及彩色滤光片
，特别是涉及一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法。
技术介绍
彩色滤光片是液晶显示装置的重要组成部分，而随着人们对显示装置的清晰度要求越来越高，相应的，彩色滤光片的RGB像素线宽越来越窄。为保证不同颜色层间图形的相对位置精度，通常采用彩色滤光片的制备基板上的对应精度检测图案与每个颜色层对应的光罩上设置额光罩对位图案的匹配来检测相应颜色的颜色层的相对位置精度。现有技术中，为降低生产成本和缩短工艺流程，通过移动一个共用光罩的方式在该制备基板上形成不同颜色的颜色层，此时，该光罩上的光罩对位图案在该制备基板上的对应精度检测图案中的投影无法对每个颜色的颜色层的相对位置精确度进行指示。因此，在使用一个光罩图案对不同的颜色层进行曝光时，无法确定不同颜色层间图形的相对位置精度，产品质量不可靠。本申请的专利技术人在长期的研发过程中，发现现有的彩色滤光片的制备基板无法确定不同颜色层间图形的相对位置精度，产品质量不可靠。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种彩色滤光片的制备基板及彩色滤光片基板的制造方法，能够确定不同颜色层间图形的相对位置精度，提高产品质量。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种彩色滤光片的制备基板。其中，该制备基板包括：有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；非有效区域，设置在该有效区域的周围；对位精度检测图案，设置在该非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；其中，当利用一共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第一颜色色阻块时，根据该光罩图案投影在该第一对位精度检测图案中的位置而调整修正该光罩图案的位置；当利用该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第二颜色色阻块时，根据该光罩图案投影在该第二对位精度检测图案中的位置而调整修正该光罩图案的位置；当利用该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第三颜色色阻块时，根据该光罩图案投影在该第三对位精度检测图案中的位置而调整修正该光罩图案的位置，从而利用同一该光罩图案而在该制备基板上形成该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块。为解决上述技术问题，本专利技术采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制造方法。其中，该方法包括：提供一彩色滤光片的制备基板，其中，该制备基板包括有效区域、非有效区域和设置在该非有效区域中的第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；提供一共用光罩图案，其中，该共用光罩图案包括第一光罩对位图案、第二光罩对位图案和第三光罩对位图案；根据该第一光罩对位图案在该第一对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第一光罩对位图案的中心与该第一对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第一颜色色阻块；将该共用光罩图案偏移一个子像素的距离，并根据该第二光罩对位图案在该第二对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第二光罩对位图案的中心与该第二对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第二颜色色阻块；将该共用光罩图案继续偏移一个子像素的距离，并根据该第三光罩对位图案在该第三对位精度检测图案中的投影而调整修正该共用光罩图案的位置，以使得该第三光罩对位图案的中心与该第三对位精度检测图案的中心重合，并利用调整修正后的该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的第三颜色色阻块。本专利技术的有益效果是：区别于现有技术的情况，本专利技术在该彩色滤光片的制备基板上设置的该第一对位精度检测图案、该第二对位精度检测图案和该第三对位精度检测图案与用于曝光形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块的共用光罩图案配合，根据该光罩图案投影在该第一对位精度检测图案中的位置、该第二对位精度检测图案中的投影位置和该第三对位精度检测图案的投影位置而来分别指示形成在该制备基板上的该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块的相对位置精度，进而通过调整修正该光罩图案的位置提高产品质量。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：图1是本专利技术一种彩色滤光片的制备基板一实施方式的结构示意图；图2是本专利技术该共用光罩图案一实施方式的结构示意图；图3是本专利技术形成该第一颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；图4是本专利技术形成该第一颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；图5是本专利技术形成该第二颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；图6是本专利技术形成该第二颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；图7是本专利技术形成该第三颜色色阻块过程一实施方式的结构示意图；图8是本专利技术形成该第三颜色色阻块后非有效区域一实施方式的结构示意图；图9是本专利技术一种彩色滤光片基板的制造方法一实施方式的流程示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。参阅图1，图1是一种彩色滤光片的制备基板一实施方式的结构示意图，该基板包括：有效区域100，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块110、第二颜色色阻块120和第三颜色色阻块130；非有效区域200，设置在该有效区域100的周围；对位精度检测图案，设置在该非有效区域200内，且包括第一对位精度检测图案210、第二对位精度检测图案220和第三对位精度检测图案230；其中，当利用一共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第一颜色色阻块110时，根据该光罩图案投影在该第一对位精度检测图案210中的位置而调整修正该光罩图案的位置；当利用该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第二颜色色阻块120时，根据该光罩图案投影在该第二对位精度检测图案220中的位置而调整修正该光罩图案的位置；当利用该共用光罩图案在该制备基板上形成矩阵排列的该第三颜色色阻块130时，根据该光罩图案投影在该第三对位精度检测图案230中的位置而调整修正该光罩图案的位置，从而利用同一该光罩图案而在该制备基板上形成该第一颜色色阻块110、该第二颜色色阻块120和该第三颜色色阻块130。在本实施方式中，该彩色滤光片的制备基板上设置的该第一对位精度检测图案、该第二对位精度检测图案和该第三对位精度检测图案与用于曝光形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块的共用光罩图案配合，根据该光罩图案投影在该第一对位精度检测图案中的位置、该第二对位精度检测图案中的投影位置和该第三对位精度检测图案的投影位置而来分别指示形成在该制备基板上的该第一颜色色阻块、该第二颜色色阻块和该第三颜色色阻块本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩色滤光片的制备基板，其特征在于，包括：有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；非有效区域，设置在所述有效区域的周围；对位精度检测图案，设置在所述非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；其中，当利用一共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第一颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第一对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置；当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第二颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第二对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置；当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第三颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第三对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置，从而利用同一所述光罩图案而在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块。

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光片的制备基板，其特征在于，包括：有效区域，用于在其内形成矩阵排列的第一颜色色阻块、第二颜色色阻块和第三颜色色阻块；非有效区域，设置在所述有效区域的周围；对位精度检测图案，设置在所述非有效区域内，且包括第一对位精度检测图案、第二对位精度检测图案和第三对位精度检测图案；其中，当利用一共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第一颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第一对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置；当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第二颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第二对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置；当利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成矩阵排列的所述第三颜色色阻块时，根据所述光罩图案投影在所述第三对位精度检测图案中的位置而调整修正所述光罩图案的位置，从而利用同一所述光罩图案而在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块。2.根据权利要求1所述的制备基板，其特征在于，所述共用光罩图案包括第一光罩对位图案、第二光罩对位图案和第三光罩对位图案；其中，所述第一光罩对位图案与所述第一对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块；所述第二光罩对位图案与所述第二对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块；所述第三光罩对位图案与所述第三对位精度检测图案配合以调整修正所述光罩图案的位置，从而利用所述光罩图案在所述制备基板上形成所述第三颜色色阻块。3.根据权利要求2所述的制备基板，其特征在于，在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块时，调整修正所述共用光罩图案的位置以使所述第一光罩对位图案的中心与所述第一对位精度检测图案的中心重合；在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块时，将所述共用光罩图案偏移一个子像素的距离，并根据所述光罩图案投影在所述第二对位精度检测图案中的位置而调整修正，以使所述第二光罩对位图案的中心与所述第二对位精度检测图案的中心重合；在利用所述共用光罩图案在所述制备基板上形成所述第二颜色色阻块时，将所述共用光罩图案在第一方向上继续偏移一个子像素的距离，并根据所述光罩图案投影在所述第三对位精度检测图案中的位置而调整修正，以使所述第三光罩对位图案的中心与所述第三对位精度检测图案的中心重合。4.根据权利要求3所述的制备基板，其特征在于，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对位图案分别为正方形；而所述第一对位精度检测图案、所述第二对位精度检测图案和所述第三对位精度检测图案分别为中空的正方形边框。5.根据权利要求4所述的制备基板，其特征在于，当采用接近式曝光方法在所述制备基板上形成所述第一颜色色阻块、所述第二颜色色阻块和所述第三颜色色阻块时，所述第一光罩对位图案、所述第二光罩对位图案和所述第三光罩对...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘学敏，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42