金属线栅偏光片的制作方法技术

本发明专利技术提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：提供一玻璃基板；在玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；在第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；对光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，光阻图案层包括第一图案部分以及设于第一图案部分之间的第二图案部分；去除第二图案部分以露出第一非金属薄膜；以第一图案部分为掩膜湿法刻蚀第一非金属薄膜以在玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线；在第一图案部分与玻璃基板上沉积金属薄膜；剥离位于非金属线上的第一图案部分与金属薄膜以得到位于数条非金属线之间的金属线。本发明专利技术解决了金属薄膜与空气接触的时间过长，金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高的技术问题。

Manufacturing method of metal grid polarizer

The invention provides a manufacturing method of metal wire grating polarizer, which includes: providing a glass substrate; depositing a first non-metallic film on the glass substrate; depositing a photoresistive material layer on the first non-metallic film; nanoimprinting a photoresistive material layer to obtain a photoresistive pattern layer, the photoresistive pattern layer includes a first pattern part and a photoresistive pattern layer. The second pattern part is arranged between the first pattern part; the second pattern part is removed to expose the first non-metallic film; the first pattern part is used as a mask to wetly etch the first non-metallic film to form several spaced non-metallic wires on the glass substrate; and the metal film is deposited on the first pattern part and the glass substrate; The first patterned part of the non-metallic line and the metal film are stripped to obtain the metal line between several non-metallic lines. The invention solves the technical problems of long time contact between metal film and air and high corrosion probability of metal wire formed after etching of metal film.

【技术实现步骤摘要】
金属线栅偏光片的制作方法
本专利技术涉及偏光片
，特别涉及一种金属线栅偏光片的制作方法。
技术介绍
在显示技术的制造领域中，目前对金属线栅偏光片的制备方法主要包括如下主要步骤：在玻璃基板上沉积金属薄膜，在金属薄膜上沉积光阻层，以光阻层为掩膜干法刻蚀金属薄膜得到金属线，金属线与玻璃基板形成金属线栅偏光片。但是在此方法中，金属薄膜过早地沉积，沉积后的金属薄膜过早地暴露在空气中，金属薄膜与空气接触的时间过长，容易发生腐蚀，进而金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种金属线栅偏光片的制作方法，以解决金属薄膜与空气接触的时间过长，金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高的技术问题。本专利技术提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；在所述第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；对所述光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，所述光阻图案层包括第一图案部分以及设于所述第一图案部分之间的第二图案部分，所述第一图案部分具有第一厚度，所述第二图案部分具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度；去除所述第二图案部分以露出所述第一非金属薄膜，相邻两个所述第一图案部分之间形成第一间隙；以所述第一图案部分为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜以在所述玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线，数条所述非金属线之间形成第二间隙，所述第一间隙与所述第二间隙的宽度相等；在所述第一图案部分与所述玻璃基板上沉积金属薄膜；剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线。其中，所述剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线的步骤之后还包括在所述金属线与所述非金属线上沉积第二非金属薄膜。其中，沉积所述第一非金属薄膜与所述第二非金属薄膜的方法为化学气相沉积。其中，沉积所述金属薄膜的方法为物理气相沉积。其中，所述第一非金属薄膜与所述第二非金属膜均为透明薄膜，所述第一非金属薄膜与所述第二非金属膜的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氮化硅中的一种或多种。其中，所述第一非金属薄膜的厚度为100nm-500nm。其中，所述第一图案部分的厚度为100-200nm；所述第二图案部分的厚度为10-50nm。其中，所述第一图案部分与所述第一间隙的宽度相等。其中，所述金属薄膜的材料包括铝、银、铜或铬的一种或多种。其中，所述物理气相沉积的方法包括热蒸镀。综上所述，本专利技术的金属线栅偏光片的制作方法中，加入了所述第一非金属薄膜的沉积，所述第一非金属薄膜湿法刻蚀后，形成数条所述非金属线，数条所述非金属线之间形成所述第二间隙，所述金属线由沉积在所述第二间隙内的所述金属薄膜所形成，进而所述金属线被所述非金属线所保护，降低了所述金属线被腐蚀的概率；且所述金属薄膜沉积的步骤比较靠后，进而所述金属薄膜暴露的时间较晚，减少了所述金属线与空气的接触时间，降低了所述金属线被腐蚀的概率。因此，本专利技术的所述金属薄的沉积时间与所述非金属线对所述金属线的保护作用的综合作用降低了所述金属线发生腐蚀的概率，提高了所述金属线栅偏光片的使用寿命。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的金属线栅偏光片的制作方法的流程示意图。图2是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤1示意图。图3是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤2示意图。图4是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤3示意图。图5是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤4示意图。图6是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤5示意图。图7是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤6示意图。图8是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤7示意图。图9是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤8示意图。图10是在图9形成的金属线栅偏光片上沉积第二非金属薄膜的步骤示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，本专利技术提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：步骤1，如图2所示，提供一玻璃基板10。步骤2，如图3所示，在所述玻璃基板10上沉积第一非金属薄膜30。具体为，本步骤采用化学气相沉积的方法在所述玻璃基板10上沉积所述第一非金属薄膜30。所述第一非金属薄膜30为透明薄膜，所述第一非金属薄膜30的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氮化硅中的一种或多种。所述第一非金属薄膜30的高度为100nm-500nm。步骤3，如图4所示，在所述第一非金属薄膜30上沉积光阻材料层40。步骤4，如图5所示，对所述光阻材料层40进行纳米压印得到光阻图案层50，所述光阻图案层50包括第一图案部分501以及设于所述第一图案部分501之间的第二图案部分502，所述第一图案部分501具有第一厚度，所述第二图案部分502具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度。具体为，本步骤采用所述纳米压印模板对所述光阻材料层40压印处理，得到光阻图案层50。所述第一图案部分501的厚度为100-200nm；所述第二图案部分502的厚度为10-50nm。步骤5，如图6所示，去除所述第二图案部分502以露出所述第一非金属薄膜30，相邻两个所述第一图案部分501之间形成第一间隙503。在本步骤中，所述第一图案部分501与所述第一间隙503的宽度相等。宽度相等的所述第一图案部分501与所述第一间隙503可使后续的金属线601均匀设置。步骤6，如图7所示，以所述第一图案部分501为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜30以在所述玻璃基板10上形成数条间隔设置的非金属线301，数条所述非金属线301之间形成第二间隙302，所述第一间隙503与所述第二间隙302的宽度相等。宽度相等的所述第一间隙503与所述第二间隙302可使后续的金属线601均匀沉积在所述第二间隙302内。步骤7，如图8所示，在所述第一图案部分501与所述玻璃基板10上沉积金属薄膜60。具体为，本步骤采用物理气相沉积的方法在所述第一图案部分501与所述玻璃基板10上沉积所述金属薄膜60。所述物理气相沉积的方法优选为热蒸镀。所述金属薄膜60的材料包括铝、银、铜或铬的一种或多种。步骤8，如图9所示，剥离位于所述非金属线301上的所述第一图案部分501与所述金属薄膜60以得到位于数条所述非金属线301之间的金属线601。在本步骤中，由于所述第二间隙302与所述第一间隙503的宽度相等，所述金属线601均匀等间隔设于所述第二间隙302中。所述金属线601与所述玻璃基板10形成所述金属线栅偏光片。本专利技术的金属线栅偏光片的制作方法中，加入了所述第一非金属薄膜30的沉积，所述第一非金属薄膜30湿法刻蚀后，形成数条所述非金属线301，数条所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；在所述第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；对所述光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，所述光阻图案层包括第一图案部分以及设于所述第一图案部分之间的第二图案部分，所述第一图案部分具有第一厚度，所述第二图案部分具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度；去除所述第二图案部分以露出所述第一非金属薄膜，相邻两个所述第一图案部分之间形成第一间隙；以所述第一图案部分为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜以在所述玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线，数条所述非金属线之间形成第二间隙，所述第一间隙与所述第二间隙的宽度相等；在所述第一图案部分与所述玻璃基板上沉积金属薄膜；剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线。

【技术特征摘要】
1.一种金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；在所述第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；对所述光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，所述光阻图案层包括第一图案部分以及设于所述第一图案部分之间的第二图案部分，所述第一图案部分具有第一厚度，所述第二图案部分具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度；去除所述第二图案部分以露出所述第一非金属薄膜，相邻两个所述第一图案部分之间形成第一间隙；以所述第一图案部分为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜以在所述玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线，数条所述非金属线之间形成第二间隙，所述第一间隙与所述第二间隙的宽度相等；在所述第一图案部分与所述玻璃基板上沉积金属薄膜；剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线。2.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线的步骤之后还包括在所述金属线与所述非金属线上沉积第二非金属薄膜。3.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋德伟，颜源，李立胜，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42