吸附式治具的弹性体制造技术

技术编号:19387674 阅读:33 留言:0更新日期:2018-11-10 01:35
一种吸附式治具的弹性体,适用于承载硅晶,包含本体部,及多个吸附单元。所述本体部包括呈矩阵排列的多个气孔。所述吸附单元形成在所述本体部且彼此相间隔,每一吸附单元包括环绕所述气孔的环壁。所述环壁具有外环面、反向于所述外环面且界定出吸口的第一内环面、反向于所述外环面且界定出气室的第二内环面,及连接所述外环面与所述第一内环面且适用于接触所述硅晶的接触面。所述第二内环面与所述外环面的径宽大于所述第一内环面与所述外环面的径宽。借此,利用阶层式的吸口与气室,在不影响吸附口径的情形下,提升所述环壁邻近所述接触面的部位的强度,在切割硅晶时,不会扭曲或变形,不但能够稳定地支撑所述硅晶,且能提升所述硅晶的切割质量。

Elastomer of adsorption fixture

The utility model relates to an elastomer of an adsorption fixture, which is suitable for carrying silicon crystals, comprises a body part and a plurality of adsorption units. The body part comprises a plurality of holes arranged in a matrix. The adsorption unit is formed in the body part and separated from each other, and each adsorption unit includes a ring wall surrounding the stomata. The annular wall has an outer annulus, a first inner annulus which is opposite to the outer annulus and defines the suction port, a second inner annulus which is opposite to the outer annulus and defines the air chamber, and a contact surface which connects the outer annulus and the first inner annulus and is suitable for contacting the silicon crystal. The diameter width of the second inner ring surface and the outer ring surface is larger than that of the first inner ring surface and the outer ring surface. In this way, the strength of the part adjacent to the contact surface of the ring wall is enhanced by using a stratified suction and air chamber without affecting the adsorption aperture. When cutting the silicon crystal, it will not distort or deform, and it can not only support the silicon crystal stably, but also improve the cutting quality of the silicon crystal.

【技术实现步骤摘要】
吸附式治具的弹性体
本技术涉及一种吸附式治具,特别是涉及一种吸附式治具的弹性体。
技术介绍
参阅图1,一种中国台湾专利号第M525541号专利案所公开的现有吸附式治具1。包含一个基座11,及设置在所述基座11上且适用于承载一片硅晶2的一个弹性体12。所述弹性体12包括呈矩阵排列且彼此相隔一个间距的多个气孔121,及环绕所述气孔121且界定出开口朝上的多个吸口122的多个环壁123。所述气孔121连通于一个抽气装置(图未示)。借此,当所述气孔121内因为负压作用而产生吸力时,会通过所述吸口122将所述硅晶2吸附在所述环壁123的顶面,进而能够在所述硅晶2被切割成多个晶片时,达到支撑及固定所述硅晶2与所述晶片的目的。在不损伤所述硅晶2的前提下,所述吸口122的大小,会影响吸附力,因此,吸口122的口径愈大,相对所述硅晶2产生的吸附力就愈强,惟,前述弹性体12通常是软质材料制成,所以,随着所述吸口122的口径愈大,所述环壁123的壁厚就愈薄,且随着所述吸口122的深度愈深,支撑力就愈不足,以致于所述硅晶2被切割时,所述环壁123很容易因为被挤压而扭曲、变形,使所述晶片有边角崩裂的状况。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种能够提供稳定的支撑效果的吸附式治具的弹性体。本技术的吸附式治具的弹性体,适用于承载一片硅晶,所述弹性体包含:本体部,及多个吸附单元。所述本体部包括呈矩阵排列且彼此相间隔的多个气孔,所述吸附单元形成在所述本体部且彼此相间隔,每一吸附单元包括环绕所述气孔的环壁,所述环壁具有外环面、反向于所述外环面且界定出吸口的第一内环面、反向于所述外环面且界定出气室的第二内环面,及连接所述外环面一端缘与所述第一内环面一端缘且适用于接触所述硅晶的接触面,所述吸口与所述气室连通于相对位置的气孔,所述第一内环面与所述外环面的径宽小于所述第二内环面与所述外环面的径宽。本技术的吸附式治具的弹性体,所述吸附单元彼此相间隔且界定出纵向、横向交错的多个切割槽。本技术的吸附式治具的弹性体,每一吸附单元的环壁还具有连接所述第一内环面另一端缘与所述第二内环面一端缘的第一阶面,所述第一阶面沿所述吸口与所述气室的深度方向与所述接触面相隔第一间距。本技术的吸附式治具的弹性体,每一吸附单元的环壁还具有连接所述第二内环面另一端缘与所述本体部的第二阶面,所述第二阶面沿所述吸口与所述气室的深度方向与所述接触面相隔第二间距。本技术的吸附式治具的弹性体,所述第二间距不小于所述第一间距。本技术的有益效果在于:利用阶层式的吸口与气室,在不影响吸附口径的情形下,提升所述环壁邻近所述接触面的部位的强度,进而在切割硅晶时,不会扭曲或变形,不但能够稳定地支撑所述硅晶,且能提升所述硅晶的切割质量。附图说明本技术的其他的特征及功效,将于参照图式的实施方式中清楚地呈现,其中:图1是一张剖视图,说明中国台湾专利号第M525541号专利案所公开的一种现有吸附式治具的弹性体;图2是一张俯视图,说明本技术吸附式治具的弹性体的一个实施例安装在一个吸附式治具;图3是所述实施例的一张局部放大立体图;图4是沿着图2中的线Ⅳ-Ⅳ所截取的剖视图;及图5是所述实施例的一张局部放大剖视图。具体实施方式参阅图2、图3与图4,本技术吸附式治具的弹性体的实施例,适用于安装在一个吸附式治具3。在本实施例中,所述弹性体是一种橡胶材料,并包含一个本体部4,及多个吸附单元5。参阅图4与图5,所述本体部4包括呈矩阵排列且彼此相间隔的多个气孔41。所述吸附单元5形成在所述本体部4且彼此相间隔而界定出纵向、横向交错的多个切割槽50。每一个吸附单元5包括环绕所述气孔41的一个环壁51。所述环壁51具有一个外环面511、反向于所述外环面511且界定出一个吸口512的一个第一内环面513、反向于所述外环面511且界定出一个气室514的一个第二内环面515、连接所述外环面511一端缘与所述第一内环面513一端缘的一个接触面516、连接所述第一内环面513另一端缘与所述第二内环面515一端缘的一个第一阶面517,及连接所述第二内环面515另一端缘与所述本体部4的一个第二阶面518。所述吸口512与所述气室514连通于相对位置的气孔41。所述第一内环面513与所述外环面511的径宽D1小于所述第二内环面515与所述外环面511的径宽D2。所述第一阶面517沿所述吸口512与所述气室514的深度方向与所述接触面516相隔一个第一间距d1。所述第二阶面518沿所述吸口512与所述气室514的深度方向与所述接触面516相隔一个第二间距d2。所述第二间距d2不小于所述第一间距d1。本技术的弹性体适用于承载一片硅晶6,且当所述本体部4的所述气孔41内因为负压作用而产生吸力时,会通过所述吸附单元5的所述气室514与所述吸口512将所述硅晶6吸附在所述环壁51的接触面516,进而能够在所述硅晶6依循所述切割槽50被切割成多个晶片时,达到支撑及固定所述硅晶6与所述晶片的目的。重要的是,由于所述吸口512与所述气室514呈阶层式设计,因此,相邻吸附单元5间虽然设有切割槽50,仍然可以在吸口512口径不变的情形下,进一步扩增所述环壁51的第二内环面515至所述外环面511的径宽D2,及进一步缩短所述第一阶面517与所述接触面516的第一间距d1,借此,缩短所述环壁51邻近所述硅晶6与所述接触面516的较薄部位的长度,进而在不影响所述吸口512的口径与吸附力的情形下,提升所述环壁51整体的支撑强度,使所述环壁51在所述晶片6被切割时,不会有扭曲或变形的情形。经由以上的说明,可将前述实施例的优点归纳如下:利用阶层式的吸口512与气室514的设计,在不影响所述吸口512的口径与吸附力的情形下,提升所述环壁51邻近所述接触面516的部位的强度,进而在切割硅晶6时,不会扭曲或变形,不但能够稳定地支撑所述硅晶6,且能提升所述硅晶6的切割质量。以上所述者,仅为本技术的实施例而已,当不能以此限定本技术实施的范围,即凡依本技术权利要求书及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰,皆仍属本技术的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种吸附式治具的弹性体,适用于承载硅晶,所述弹性体包含本体部,及多个吸附单元,所述本体部包括呈矩阵排列且彼此相间隔的多个气孔,所述吸附单元形成在所述本体部且彼此相间隔,其特征在于:每一吸附单元包括环绕所述气孔的环壁,所述环壁具有外环面、反向于所述外环面且界定出吸口的第一内环面、反向于所述外环面且界定出气室的第二内环面,及连接所述外环面一端缘与所述第一内环面一端缘且适用于接触所述硅晶的接触面,所述吸口与所述气室连通于相对位置的气孔,所述第一内环面与所述外环面的径宽小于所述第二内环面与所述外环面的径宽。

【技术特征摘要】
1.一种吸附式治具的弹性体,适用于承载硅晶,所述弹性体包含本体部,及多个吸附单元,所述本体部包括呈矩阵排列且彼此相间隔的多个气孔,所述吸附单元形成在所述本体部且彼此相间隔,其特征在于:每一吸附单元包括环绕所述气孔的环壁,所述环壁具有外环面、反向于所述外环面且界定出吸口的第一内环面、反向于所述外环面且界定出气室的第二内环面,及连接所述外环面一端缘与所述第一内环面一端缘且适用于接触所述硅晶的接触面,所述吸口与所述气室连通于相对位置的气孔,所述第一内环面与所述外环面的径宽小于所述第二内环面与所述外环面的径宽。2.根据权利要求1所述的吸附式治具的弹性体,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:赖奕诚赖奕儒
申请(专利权)人:宸榤精机股份有限公司赖奕诚赖奕儒
类型:新型
国别省市:中国台湾,71

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