含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物制备及其在电存储器件上应用制造技术

技术编号:19383857 阅读:3 留言:0更新日期:2018-11-10 00:14
本发明专利技术涉及一种含闭环噻吩马来酰亚胺结构的聚合物制备及其在电存储器件上应用。本发明专利技术采用suzuki偶联反应将二噻吩马来酰亚胺单体和芴单体或咔唑单体通过偶联反应合成得到聚合物;经氯苯溶解后旋涂在ITO玻璃基底上成聚合物固体薄膜,再在聚合物固体薄膜上蒸镀金属银或铝;利用特定光源进行照射,开环噻吩马来酰亚胺基团转化为闭环噻吩马来酰亚胺基团,得到有机电存储器件。所述的特定光源,是指紫外光光源、可见光光源或太阳光模拟器光源。本发明专利技术利用噻吩马来酰亚胺单元光照下发声闭环反应,表现出优良的电存储性能。电存储器件具有开关比高、稳定性好、保留时间长的FLASH型非易失性电存储行为。

Preparation of polymer containing closed loop thiophene maleimide and its application in electrical storage devices

The invention relates to the preparation of a polymer containing a closed-loop thiophene maleimide structure and its application in an electric memory device. The invention adopts Suzuki coupling reaction to synthesize polymer by coupling reaction of dithiophene maleimide monomer and fluorene monomer or carbazole monomer, dissolves chlorobenzene and spins onto ITO glass substrate to form polymer solid film, then evaporates silver or aluminium on polymer solid film, irradiates with specific light source, and opens the polymer. The cyclic thiophene maleimide group was converted into the closed-loop thiophene maleimide group, and the organic electrical memory device was obtained. The specific light source refers to an ultraviolet light source, a visible light source or a solar simulator source. The invention utilizes the closed-loop reaction of phonation under the illumination of thiophene maleimide unit, and shows excellent electrical storage performance. Electric memory devices have high switching ratio, good stability and long retention time FLASH non-volatile electrical storage behavior.

【技术实现步骤摘要】
含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物制备及其在电存储器件上应用
本专利技术属于有机电存储器聚合物薄膜
具体涉及一种含闭环噻吩马来酰亚胺结构的聚合物制备及其在电存储器件上应用。技术背景马来酰亚胺及其衍生物是一类应用非常广泛的材料,这类材料合成简单,价格低廉,化学稳定性和热稳定性好,在有机光电领域和有机传感器领域得到广泛的研究及应用。马来酰亚胺及其衍生物的分子结构中含有带两个羰基的酰亚胺五元环,具有一定的拉电子能力,将其与给体单元聚合,合成给体-受体(D-A)型的聚合物材料,在外加电场作用下,可能形成D-A型电荷转移络合物,在材料中产生有效的电荷通道,从而实现材料电阻态的高低转变,达到信息存储的目的。目前关于含马来酰亚胺基团结构的聚合物电存储材料的相关研究鲜见报道,具有很好的研究空间和应用前景。在马来酰亚胺基团的3,4位引入噻吩基团,光照条件下容易发生闭环反应。传统的光照闭环反应往往是在液态条件下反应,需要选择合适的溶剂和浓度,还存在着后期去除溶剂和提纯的问题,步骤较繁琐。而如果用适合的光源照射含开环噻吩马来酰亚胺结构聚合物的固体薄膜,聚合物中的开环噻吩马来酰亚胺基团发生闭环反应,从而表现出特定的性能。光照下固体薄膜内的闭环反应具有步骤简单、成本低廉、易于操作等优点,将这种方法应用在有机电存储领域,具有特殊的优势和新颖性,能够进一步拓展有机电存储材料的应用范围。同样,目前关于光照影响电存储性能的相关研究较少,且主要针对二芳基乙烯类有机小分子材料,需要通过蒸镀制作器件功能层,操作工艺复杂,应用范围受限。基于以上现状,本专利技术以含闭环噻吩马来酰亚胺基团的D-A型聚合物为功能层材料,制备有机电存储器件。功能层中的闭环噻吩马来酰亚胺结构由固体薄膜状态下聚合物发生光照闭环反应生成,工艺步骤简单,易于操作。聚合物中噻吩马来酰亚胺基团作为受体,芴或咔唑作为给体,形成给受体一体的单一聚合物结构,易旋涂成膜,避免了掺杂引起的器件不稳定性和有机小分子的复杂蒸镀工艺。以此固体薄膜作为有机电存储器件的功能层,得到开关比高、稳定性好、保留时间长的FLASH型非易失性有机电存储器件。该专利技术拓展了有机电存储材料的应用范围,为电存储器件研究提供了新的研究思路,具有很好的应用前景。
技术实现思路
本专利技术的目的在于制备一种D-A型含闭环噻吩马来酰亚胺结构的聚合物以及该聚合物在电存储器件中的应用。聚合物的闭环结构是由含开环噻吩马来酰亚胺结构的聚合物固体薄膜在外界特定光照条件下发生闭环反应制备的,光照后的聚合物薄膜中同时含有给电子基团和吸电子基团,在外加电场作用下可以形成电荷转移络合物,应用在电存储器件中,得到性能优良的电存储器件。为实现本专利技术的目的采用的技术方案是1、采用suzuki偶联反应将等摩尔量的开环噻吩马来酰亚胺单体和芴单体或咔唑单体通过偶联反应合成得到D-A型含开环噻吩马来酰亚胺基团的聚合物;所述的开环噻吩马来酰亚胺单体具体为3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体、N-辛基-3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体、N-(2-乙基己基)-3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体、N-苄基-3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体;所述的芴单体,具体指芴或芴的五元环上的碳有取代基的芴类衍生物单体,具体为2,7-芴双硼脂单体、9,9’-二辛基-2,7-芴双硼脂单体、9,9’-(2-乙基己基)-2,7-芴双硼脂单体;所述的咔唑类衍生物,具体指咔唑或咔唑类衍生物,具体为2,7-咔唑双硼脂单体、N-辛基-2,7-咔唑双硼脂单体、N-(2-乙基己基)-2,7-咔唑双硼脂单体。2、取氯苯溶剂,将上述聚合物配置成D-A型含开环噻吩马来酰亚胺基团的聚合物溶液。3、上述方法制备的聚合物溶液用匀胶机在洁净的ITO玻璃基底上旋涂成紫色的聚合物固体薄膜。4、通过真空蒸镀法,在旋涂得到的紫色的聚合物固体薄膜上蒸镀金属银或铝电极,利用特定光源进行照射,此时紫色的聚合物固体薄膜转变为无色,聚合物固体薄膜结构中的开环噻吩马来酰亚胺基团转化为闭环噻吩马来酰亚胺基团,最后得到有机电存储器件。所述的特定光源,是指波长200-400nm紫外光光源、波长为400-760nm可见光光源或波长为400-800nm太阳光模拟器光源。所述的照射,其照射亮度为1-50W/sr/m2,照射距离为8-12cm。所述的聚合物溶液,其浓度为5-20mg/mL。所述的旋涂,匀胶机旋涂转速600~4000rpm,聚合物薄膜厚度为30~100nm。所述的洁净的ITO玻璃基底,其处理过程如下:将ITO导电玻璃切割成1.95cm×1.95cm的方片;将方片依次用洗涤剂、蒸馏水、丙酮和异丙醇分别超声清洗各20min,用氮气吹干表面的溶剂,在热台上120℃加热15min,然后用等离子体-臭氧机照射处理15min。本专利技术以噻吩马来酰亚胺作为受体单元,芴或咔唑类衍生物作为给体单元,结合在单一聚合物材料中,利用开环的噻吩马来酰亚胺单元在固态下的光照闭环反应,在材料内形成合适的电荷转移,表现出优良的电存储性能。以此含闭环噻吩马来酰亚胺结构的聚合物固体薄膜为功能层的电存储器件具有开关比高、稳定性好、保留时间长的FLASH型非易失性电存储行为。利用本专利技术所述的应用方法,点阵式三层结构有机电存储器件不经过特殊的封装,可以在大气中直接进行性能测试。电存储性能测试表明器件具有性能优良的FLASH型非易失性电存储性能,在有机电存储领域具有很好的应用前景。附图说明图1.本专利技术所述的D-A型含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物的结构通式。图2.本专利技术所述的D-A型含开环噻吩马来酰亚胺的聚合物的光照闭环反应路线图。图3.本专利技术的电存储器件结构示意图。图4.本专利技术实例1中的聚合物PFM3和PFM3-light光照前图(a)和光照后图(b)的核磁共振氢谱图。图5.本专利技术的实例4的电存储器件的电流-电压曲线图。图6.本专利技术的实例4的电存储器件恒定电压下的电流-时间曲线图。具体实施方式下面通过实施例来进一步说明本专利技术的技术方案,以便更好地理解本专利技术的内容;实施例1闭环噻吩马来酰亚胺为受体(D)、芴为给体(A)的D-A型聚合物(PFM3-light)固体薄膜的制备。首先取0.5252g(1mmol)N-辛基-3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体和0.6481g(1mmol)9,9’-二辛基-2,7-芴双硼脂单体,用suzuki偶联反应合成开环噻吩马来酰亚胺单体和芴单体偶联而成的紫色D-A型聚合物(PFM3)固体产物。产物GPC测试结果,Mn=11958,Mw=19732,PDI=1.65。称取适量聚合物PFM3,用氯苯溶解,浓度为10mg/mL,用0.22μm的过滤头过滤后,用匀胶机在已预处理好的ITO玻璃基底上旋涂成膜,转速1300rpm,得到一定厚度的聚合物薄膜。将该聚合物PFM3的固体薄膜放在紫外光下照射,紫外光波长为365nm,照射亮度3.46W/sr/m2,距离8cm,薄膜面积4cm2。空气氛下经25min照射后,聚合物固体薄膜由紫色转变为无色,聚合物内的开环噻吩马来酰亚胺基团发生闭环反应,得到闭环噻吩马来酰亚胺为受体、芴为给体的D-A型聚合物(PFM3-light)固体薄膜功能层。附图4是本实施例合成的照射前(a)PFM3、照射后(b本文档来自技高网
...

【技术保护点】
1.一种含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物制备及其在电存储器件上应用,其特征是:1)采用suzuki偶联反应将等摩尔量的开环噻吩马来酰亚胺单体和芴单体或咔唑单体通过偶联反应合成得到D‑A型含开环噻吩马来酰亚胺基团的聚合物;2)取氯苯溶剂,将上述聚合物配置成D‑A型含开环噻吩马来酰亚胺基团的聚合物溶液;3)述方法制备的聚合物溶液用匀胶机在洁净的ITO玻璃基底上旋涂成紫色的聚合物固体薄膜; 4)通过真空蒸镀法,在旋涂得到的紫色的聚合物固体薄膜上蒸镀金属银或铝电极,利用特定光源进行照射,此时紫色的聚合物固体薄膜转变为无色,聚合物固体薄膜结构中的开环噻吩马来酰亚胺基团转化为闭环噻吩马来酰亚胺基团,最后得到有机电存储器件。

【技术特征摘要】
1.一种含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物制备及其在电存储器件上应用,其特征是:1)采用suzuki偶联反应将等摩尔量的开环噻吩马来酰亚胺单体和芴单体或咔唑单体通过偶联反应合成得到D-A型含开环噻吩马来酰亚胺基团的聚合物;2)取氯苯溶剂,将上述聚合物配置成D-A型含开环噻吩马来酰亚胺基团的聚合物溶液;3)述方法制备的聚合物溶液用匀胶机在洁净的ITO玻璃基底上旋涂成紫色的聚合物固体薄膜;4)通过真空蒸镀法,在旋涂得到的紫色的聚合物固体薄膜上蒸镀金属银或铝电极,利用特定光源进行照射,此时紫色的聚合物固体薄膜转变为无色,聚合物固体薄膜结构中的开环噻吩马来酰亚胺基团转化为闭环噻吩马来酰亚胺基团,最后得到有机电存储器件。2.一种含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物制备及其在电存储器件上应用,其特征是所述的开环噻吩马来酰亚胺单体具体为3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体、N-辛基-3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体、N-(2-乙基己基)-3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体、N-苄基-3,4-二(2-溴噻吩)马来酰亚胺单体。3.一种含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物制备及其在电存储器件上应用,其特征是所述的芴单体,具体指芴或芴的五元环上的碳有取代基的芴类衍生物单体,具体为2,7-芴双硼脂单体、9,9’-二辛基-2,7-芴双硼脂单体、9,9’-(2-乙基己基)-2,7-芴双硼脂单体。4....

【专利技术属性】
技术研发人员:吕玮凌启淡王文林正欢梅晓飞林型炽
申请(专利权)人:福建师范大学
类型:发明
国别省市:福建,35

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1