屏蔽设备和包括屏蔽设备的板级屏蔽件制造技术

本实用新型专利技术涉及屏蔽设备和包括屏蔽设备的板级屏蔽件。所述屏蔽设备包括：框架，所述框架包括一个或多个侧壁，所述一个或多个侧壁被构造成安装至基板以大致围绕所述基板上的一个或多个部件；以及拾取构件，所述拾取构件包括拾取区域并且被构造成使得在所述拾取区域相对于所述一个或多个侧壁的上表面升高时，所述拾取区域能原位旋转。

【技术实现步骤摘要】
屏蔽设备和包括屏蔽设备的板级屏蔽件
本公开总体涉及包括具有拾取区域的拾取构件的板级屏蔽件(BLS)框架。拾取构件可以被构造成使得允许所述拾取区域在拉制所述拾取构件以使所述拾取区域升高时原位旋转。
技术介绍
这个部分提供与本公开相关的但未必是现有技术的背景信息。在电子器件操作中的常见问题是在设备的电子电路内产生电磁辐射。这种辐射可能导致电磁干扰(EMI)或射频干扰(RFI)，电磁干扰(EMI)或射频干扰(RFI)可能干扰在一定距离内的其他电子器件的运行。在没有足够屏蔽的情况下，EMI/RFI干扰会引起重要信号的降级或完全消失，由此使得电子设备效率低下或不能运行。改善EMI/RFI的效应的常见方案是通过使用能够吸收和/或反射和/或重新引导EMI能量的屏蔽件。这些屏蔽件通常用来将EMI/RFI定位在EMI/RFI源内，并且将靠近EMI/RFI源的其他器件隔离。例如，板级屏蔽件广泛地用来保护敏感的电子器件以免受系统间和系统内的电磁干扰并且用来减少来自有噪声的集成电路(IC)的不想要的电磁辐射。本文使用的术语“EMI”应该被认为是大致包括及指代EMI发射和RFI发射，并且术语“电磁的”应该被认为是大致包括及指代来自外部源和内部源的电磁和射频。因而，术语屏蔽(如本文使用的)宽泛地包括及指代减轻(或限制)EMI和/或FRI，诸如通过对能量进行吸收、反射、阻挡和/或重定向或它们的组合，从而其不再妨碍例如管理部门的合规要求并且/或者电子部件系统的内部功能性。
技术实现思路
这个部分提供对本公开的总体概述，但并不是对完整范围或全部特征的全面公开。在示例性实施方式中，屏蔽设备包括：框架，所述框架包括一个或多个侧壁，所述一个或多个侧壁被构造成安装至基板以大致围绕所述基板上的一个或多个部件；以及拾取构件，所述拾取构件包括拾取区域并且被构造成使得在所述拾取区域相对于所述一个或多个侧壁的上表面升高时，所述拾取区域能原位旋转。所述拾取构件可以包括一个或多个臂，每个臂都大致在所述拾取构件和所述框架的所述一个或多个侧壁中的对应侧壁之间延伸；并且在所述一个或多个臂中的每个臂和所述拾取区域之间的连接部从所述拾取区域的中心线偏离。所述偏移可以被构造成产生力矩，由于该力矩，当对应臂在使所述拾取区域升高期间受到拉力时，所述拾取区域旋转，而不是拉长所述臂；和/或所述拾取构件可以被构造成使得在所述拾取区域升高以及原位旋转之前及之后，所述拾取区域相对于所述框架的质心和/或相对于由所述一个或多个侧壁限定的印迹(footprint)都是大致居中的；和/或所述拾取构件可以被构造成使得在所述拾取区域升高以及原位旋转之前及之后，所述拾取区域的上表面与所述一个或多个臂的上表面的共面性得以保持。所述拾取构件被构造成使得在所述拾取区域升高以及原位旋转之后，所述一个或多个臂中的每个臂的一部分在对应臂至所述框架的连接部之间成角度地向上延伸，使得所述拾取区域高于所述框架的所述一个或多个侧壁，由此为所述拾取区域下方的部件提供更大间隙，从而所述一部分允许在所述连接部和所述拾取区域之间的所述臂的上表面与所述拾取构件的上表面基本共面，并且允许所述连接部与所述一个或多个侧壁的上表面基本共面。所述框架的所述一个或多个侧壁包括四个侧壁，并且其中，所述一个或多个臂包括：三个臂，所述三个臂中的每个臂都在所述四个侧壁中的对应侧壁和所述拾取区域之间延伸；或者四个臂，所述四个臂中的每个臂都在所述四个侧壁中的对应侧壁和所述拾取区域之间延伸。所述一个或多个臂通过一个或多个互锁件以可释放的方式附接至所述一个或多个侧壁；和/或所述框架包括一个或多个内壁、沿着由所述一个或多个内壁限定的内转角的增强部、以及沿着所述一个或多个内壁的凸缘；和/或所述一个或多个臂是非线性的。所述拾取构件与所述框架整体地形成并且固定地附接至所述框架；或者所述拾取构件与所述框架整体地形成并且能够以可移除的方式从所述框架拆卸，使得所述拾取构件能从所述框架拆卸并且与所述框架完全分离，而不切割、剪切或者断开整体地形成所述拾取构件和所述框架的材料。所述拾取构件被构造成使得：所述拾取区域能在一平面中旋转，使得所述拾取区域在垂直于所述平面的第一方向上的高度相对于所述一个或多个侧壁的所述上表面而增加，而基本不改变所述拾取区域在与所述平面平行的方向上的位置；和/或所述拾取区域能在X-Y平面中旋转，使得所述拾取区域能相对于所述一个或多个侧壁的所述上表面在Z方向上移动，而基本不使所述拾取区域在X方向或Y方向上移动；和/或所述拾取区域能围绕轴线顺时针或逆时针旋转，而所述拾取区域在垂直于所述轴线的方向上不作任何平移运动；和/或在所述拾取区域相对于所述一个或多个侧壁的所述上表面升高时所述拾取区域的原位旋转减小了所述拾取构件的所需延长量并且减小了残余应力和/或成形应力。所述拾取区域至所述拾取构件的附接部从所述拾取区域的中心线偏离，使得在所述拾取区域升高以及原位旋转之前及之后，所述拾取区域相对于所述框架的质心和/或相对于由所述一个或多个侧壁限定的印迹都是大致居中的。本技术的另一方面涉及一种板级屏蔽件，所述板级屏蔽件包括上述屏蔽设备，并且进一步包括罩，所述罩在移除所述拾取构件之后能从所述框架以可释放的方式拆卸并且能再次附接至所述框架，从而所述框架和所述罩能操作用于屏蔽在所述基板上的、位于由所述框架和所述罩共同限定的内部内的所述一个或多个部件可应用性的其它方面将从本文所提供的描述中变得明显。该概述中的描述和具体示例仅仅旨在说明的目的，而并不旨在限制本公开内容的范围。附图说明本文所述的附图仅为了说明所选择的实施方式而不是所有可能的实施方式，并且并不旨在限制本公开内容的范围。图1是板级屏蔽件(BLS)的框架或围栏的示例性实施方式的立体图，该框架或框架包括拾取和放置桥(广义地，拾取构件)，该拾取和放置桥具有拾取和放置岛(广义地，拾取区域)。在图1中，示出了在已将桥拉制成将岛升高到BLS框架的侧壁的顶部上方之后的BLS框架。图2是图1中示出的BLS框架的俯视图。图3是图1中示出的BLS框架的仰视图。图4是图1中示出的BLS框架的前视图，并且示出了在岛已在拉制过程期间升高之后岛相对于前侧壁的顶部的相对高度。图5是BLS框架或围栏的示例性实施方式的立体图，该框架包括拾取和放置桥，该拾取和放置桥具有拾取和放置岛。图6是图5中示出的BLS框架在已将桥拉制之后并且允许岛原位旋转的仰视立体图。图7是图6中示出的BLS框架的立体图。图8示出了根据示例性实施方式的桥的臂-岛附接部的示例性偏离。图9、图10和图11示出了BLS框架或围栏的示例性实施方式，该框架包括拾取和放置桥，该拾取和放置桥具有拾取和放置岛。在图9中，U1是指单位为毫米(mm)的沿X轴线的位移。在图10和图11中，S是指类型为冯·米塞斯、单位为兆帕(MPa)的应力。图12示出了BLS框架或围栏的示例性实施方式，BLS框架包括可移除的拾取和放置桥，拾取和放置桥具有带三个附接点的拾取和放置岛。对应的参考标号在说明书的几个视图中指代对应的零件。具体实施方式下面将参照附图更详细描述示例性实施方式。传统的两件式板级屏蔽件的框架或围栏通常由具有良好形式和刚性的金属片材制成。向BLS框架或围栏增加拉制特征的能力允许得到像升本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种屏蔽设备，其特征在于，所述屏蔽设备包括：框架，所述框架包括一个或多个侧壁，所述一个或多个侧壁被构造成安装至基板以大致围绕所述基板上的一个或多个部件；以及拾取构件，所述拾取构件包括拾取区域并且被构造成使得在所述拾取区域相对于所述一个或多个侧壁的上表面升高时，所述拾取区域能原位旋转。

【技术特征摘要】
2017.03.10 US 62/469,978;2018.01.09 US 62/615,3201.一种屏蔽设备，其特征在于，所述屏蔽设备包括：框架，所述框架包括一个或多个侧壁，所述一个或多个侧壁被构造成安装至基板以大致围绕所述基板上的一个或多个部件；以及拾取构件，所述拾取构件包括拾取区域并且被构造成使得在所述拾取区域相对于所述一个或多个侧壁的上表面升高时，所述拾取区域能原位旋转。2.根据权利要求1所述的屏蔽设备，其特征在于，所述拾取构件包括一个或多个臂，每个臂都大致在所述拾取构件和所述框架的所述一个或多个侧壁中的对应侧壁之间延伸；并且在所述一个或多个臂中的每个臂和所述拾取区域之间的连接部从所述拾取区域的中心线偏离。3.根据权利要求2所述的屏蔽设备，其特征在于，由于偏离产生了力矩，由于该力矩，当对应臂在所述拾取区域升高期间受到拉力时，所述拾取区域旋转，而不是拉长所述臂；和/或所述拾取构件被构造成使得在所述拾取区域升高以及原位旋转之前及之后，所述拾取区域相对于所述框架的质心和/或相对于由所述一个或多个侧壁限定的印迹都是大致居中的；和/或所述拾取构件被构造成使得在所述拾取区域升高以及原位旋转之前及之后，所述拾取区域的上表面与所述一个或多个臂的上表面的共面性得以保持。4.根据权利要求2或3所述的屏蔽设备，其特征在于，所述拾取构件被构造成使得在所述拾取区域升高以及原位旋转之后，所述一个或多个臂中的每个臂的一部分在对应臂至所述框架的连接部之间成角度地向上延伸，使得所述拾取区域高于所述框架的所述一个或多个侧壁，由此为所述拾取区域下方的部件提供更大间隙，从而所述臂的所述一部分允许在所述连接部和所述拾取区域之间的所述臂的上表面与所述拾取构件的上表面基本共面，并且允许所述连接部与所述一个或多个侧壁的上表面基本共面。5.根据权利要求2或3所述的屏蔽设备，其特征在于，所述框架的所述一个或多个侧壁包括四个侧壁，并且其中，所述一个或多个臂包括：三个臂，所述三个臂中的每个臂都在所述四个侧壁中的对应侧壁和所述拾取区域之间延伸；或者四个臂，所述四个臂中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·W·小克罗蒂，J·H·奥宾，Z·M·科鲁斯，B·J·多纳休，肯尼思·M·罗宾逊，
申请(专利权)人：莱尔德电子材料深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44