一种半导体二极管酸洗处理系统技术方案

本发明专利技术属于半导体二极管生产技术领域，具体的说是一种半导体二极管酸洗处理系统，包括箱体，酸洗箱和摆动模块；箱体内部设有摆动模块，摆动模块包括转盘、第一滑块、支撑盘、伸缩杆和导柱；酸洗箱安装在摆动模块的支撑盘上，酸洗箱用于放置半导体二极管，摆动模块晃动用于提高酸洗液的流动性，提高半导体二极管的酸洗效率。本发明专利技术通过控制电机的转速不同，第一滑块在离心力的作用下向外滑动的距离不同，相应的挤压到不同长度的导柱，使得支撑盘的倾斜程度不同，通过周期性的控制电机转速的快慢，支撑盘转动的同时并且产生摆动，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。

A semiconductor diode pickling treatment system

The invention belongs to the technical field of semiconductor diode production, in particular to a semiconductor diode pickling treatment system, which comprises a box, a pickling box and a swing module; a swing module is arranged inside the box, and the swing module comprises a rotary table, a first slider, a support plate, a telescopic rod and a guide pillar; and a pickling box is installed in a swing module. On the supporting disc, the pickling box is used to place semiconductor diodes, and the swing module is used to improve the fluidity of pickling solution and the pickling efficiency of semiconductor diodes. By controlling the speed of the motor, the distance of the first slider sliding outward under the action of centrifugal force is different, and the corresponding guide pillars of different lengths are extruded, so that the inclination of the supporting disc is different. By periodically controlling the speed of the motor, the supporting disc rotates while swinging, and acid pickling is increased. The flow of liquid improves the efficiency of pickling diode diode.

【技术实现步骤摘要】
一种半导体二极管酸洗处理系统
本专利技术属于半导体二极管生产
，具体的说是一种半导体二极管酸洗处理系统。
技术介绍
半导体二极管是指利用半导体特性的两端电子器件。最常见的半导体二极管是PN结型二极管和金属半导体接触二极管。它们的共同特点是伏安特性的不对称性，即电流沿其一个方向呈现良好的导电性，而在相反方向呈现高阻特性。可用作为整流、检波、稳压、恒流、变容、开关、发光及光电转换等。利用高掺杂PN结中载流子的隧道效应可制成超高频放大或超高速开关的隧道二极管。随着社会的快速发展，半导体二极管的应用越来越广泛。因此，生产出的半导体二极管的品质和效率成为了技术的核心，而在半导体二极管的生产中，半导体二极管的酸洗存在着一些劣势，从而改善酸洗则变得重中之重。现有技术中也出现了一些二极管酸洗的技术方案，如申请号为2015109190538的一项中国专利公开了二极管制造领域内的二极管酸洗机，包括包括酸洗槽、底座、酸液箱。所述酸洗槽位于底座的上端，所述酸洗槽一侧的底座上设有竖向的支架，所述酸液箱固定在支架靠近酸洗槽的一侧，所述酸液箱位于酸洗槽的上方，酸液箱的底部设有供液管。所述支架的顶端设有集流罩，集流罩的顶端设有抽风机，抽风机上连接有排气管。所述集流罩位于酸洗槽的上方，集流罩下端的外侧壁上铰接有转轴，转轴上固定有透明的隔离布。该技术方案能够对二极管进行酸洗，该方案通过超声波对二极管进行酸洗；超声波清洗时，由于发生空化作用时会产生上千个大气压力，能够破坏不溶性污物，但同时也会对物件产生破坏，造成二极管损伤。
技术实现思路
为了弥补现有技术的不足，本专利技术提出的一种半导体二极管酸洗处理系统，摆动模块的第一滑块在离心力的作用下向外滑动挤压到不同长度的导柱，使得支撑盘的倾斜程度不同，通过周期性的控制电机转速的快慢，支撑盘转动的同时并摆动，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：本专利技术所述的一种半导体二极管酸洗处理系统，包括箱体，酸洗箱和摆动模块；所述箱体内部设有摆动模块，所述酸洗箱安装在摆动模块上，摆动模块晃动用于提高酸洗液的流动；所述酸洗箱用于放置半导体二极管；所述的摆动模块包括转盘、第一滑块、支撑盘、伸缩杆和导柱；所述箱体底部设置电机；所述电机的转轴上固连着转盘；所述转盘顶部设有向一侧开设的滑槽，所述第一滑块通过弹簧安装在转盘的滑槽内；所述支撑盘通过一组并联伸缩杆安装在转盘上；所述支撑盘顶部设有酸洗箱；所述支撑盘底部设有一组导柱；所述导柱用于配合第一滑块使用；所述第一滑块顶部设有圆弧凸起；沿第一滑块移动路径上的导柱长度依次增加。工作时，通过控制电机的转速不同，第一滑块在离心力的作用下向外滑动的距离不同，相应的挤压到不同长度的导柱，使得支撑盘的倾斜程度不同，通过周期性的控制电机转速的快慢，支撑盘转动的同时并摆动，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。优选的，所述第一滑块顶部设有凹槽；凹槽侧边设有一组转动杆；所述转动杆的中部转动安装在凹槽侧边上，所述转动杆的转轴内设有扭簧。工作时，第一滑块移动挤压到导柱，通过设置一组转动杆，一方面减轻第一滑块对导柱的冲击，另一方面导柱挤压并使转动杆摆动，转动杆对酸洗液进行搅拌，增加酸洗液的流动。优选的，所述支撑盘外圈设有一组搅动模块；所述搅动模块包括安装板、第二滑块、连接板、导向轮和牵引绳；所述安装板固连在支撑盘外圈；所述第二滑块通过弹簧安装在安装板的滑槽内；所述连接板上设置导向轮；两个连接板的端头底部通过转轴相连；其中一块连接板的端头底部转动安装在安装板端头的底部；最外侧的一块连接板端头固连着牵引绳；所述牵引绳通过导向轮并固连在第二滑块一侧。工作时，随着支撑盘旋转，第二滑块在离心力的作用下向支撑盘外侧滑动，通过控制电机转速的不同，第二滑块一侧设置牵引绳拽拉最外侧的连接板，相邻的两个连接板相对转动，对酸洗液进行搅拌，增加酸洗液的流动。优选的，所述连接板上设有对称安装在连接板一侧的支撑杆；所述支撑杆一端通过斜块滑动安装在连接板设置的斜槽内；所述支撑杆另一端转动安装着副轮，支撑杆沿斜槽滑动用于间歇支撑起牵引绳。工作时，由于牵引绳一直在导向轮是摩擦，且牵引绳在导向轮上的接触位置不变，这就使得导向轮的局部磨损较大，通过在连接板一侧的支撑杆，在第二滑块牵引转动板摆动时，支撑杆沿连接板上设置的斜槽滑动，副轮将牵引绳支撑并脱离导向轮，通过间歇性的支起和放下，均衡导向轮外圈的磨损。优选的，两个连接板之间滑动安装着扇形块；扇形块的横截面设成V型，所述连接板端头设置V型槽，V型槽用于安装扇形块；所述扇形块包括第一扇形板和第二扇形板，所述第一扇形板和第二扇形板的一端转动安装在滑动轴上，所述滑动轴通过弹簧安装在两个连接板之间的转轴上；所述第一扇形板和第二扇形板的另一端通过弹簧相连。工作时，在第二滑块的牵引作用下两个转动板相对转动，挤压扇形块并使扇形块沿连接板端头设置V型槽向外滑动，滑动的同时，第一扇形板和第二扇形板的端头在弹簧的作用下张开，对酸洗液进行搅动，增加酸洗液的流动，提高酸洗效率。本专利技术的有益效果如下：1.本专利技术通过设置摆动模块，摆动模块的第一滑块在离心力的作用下向外滑动挤压到不同长度的导柱，使得支撑盘的倾斜程度不同，通过周期性的控制电机转速的快慢，支撑盘转动的同时并摆动，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。2.本专利技术通过设置一组转动杆，一方面减轻第一滑块对导柱的冲击，另一方面导柱挤压并使转动杆摆动，转动杆对酸洗液进行搅拌，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。3.本专利技术通过在两个连接板之间设置扇形块，相邻的两个连接板相对转动，挤压扇形块并使扇形块沿连接板端头设置V型槽向外滑动，滑动的同时，第一扇形板和第二扇形板的端头在弹簧的作用下张开，对酸洗液进行搅动，增加酸洗液的流动，提高酸洗效率。附图说明下面结合附图对本专利技术作进一步说明。图1是本专利技术的主视图；图2是本专利技术的第一滑块与导柱连接图；图3是图1中E处局部放大图；图4是图3中A-A剖视图；图中：箱体1、酸洗箱2、摆动模块3、转盘31、第一滑块32、转动杆321、支撑盘33、伸缩杆34、导柱35、搅动模块4、安装板41、第二滑块42、连接板43、导向轮44、牵引绳45、支撑杆46、斜块47、副轮48、扇形块5、第一扇形板51、第二扇形板52、滑动轴53。具体实施方式为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本专利技术。如图1至图4所示，本专利技术所述的一种半导体二极管酸洗处理系统，包括箱体1，酸洗箱2和摆动模块3；所述箱体2内部设有摆动模块3，所述酸洗箱2安装在摆动模块3上，摆动模块3晃动用于提高酸洗液的流动；所述酸洗箱2用于放置半导体二极管；所述的摆动模块3包括转盘31、第一滑块32、支撑盘33、伸缩杆34和导柱35；所述箱体1底部设置电机；所述电机的转轴上固连着转盘31；所述转盘31顶部设有向一侧开设的滑槽，所述第一滑块32通过弹簧安装在转盘31的滑槽内；所述支撑盘33通过一组并联伸缩杆34安装在转盘31上；所述支撑盘33顶部设有酸洗箱2；所述支撑盘33底部设有一组导柱35；所述导柱35用于配合第一滑块32使用；所述第一滑块32顶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体二极管酸洗处理系统，包括箱体(1)和酸洗箱(2)；其特征在于：还包括摆动模块(3)；所述箱体(2)内部设有摆动模块(3)，所述酸洗箱(2)安装在摆动模块(3)上，所述酸洗箱(2)用于放置半导体二极管；其中，所述的摆动模块(3)包括转盘(31)、第一滑块(32)、支撑盘(33)、伸缩杆(34)和导柱(35)；所述箱体(1)底部设置电机；所述电机的转轴上固连着转盘(31)；所述转盘(31)顶部设有向一侧开设的滑槽，所述第一滑块(32)通过弹簧安装在转盘(31)的滑槽内；所述支撑盘(33)通过一组并联伸缩杆(34)安装在转盘(31)上；所述支撑盘(33)顶部设有酸洗箱(2)；所述支撑盘(33)底部设有一组导柱(35)；所述导柱(35)用于配合第一滑块(32)使用；所述第一滑块(32)顶部设有圆弧凸起；沿第一滑块(32)移动路径上的导柱(35)长度依次增加。

【技术特征摘要】
1.一种半导体二极管酸洗处理系统，包括箱体(1)和酸洗箱(2)；其特征在于：还包括摆动模块(3)；所述箱体(2)内部设有摆动模块(3)，所述酸洗箱(2)安装在摆动模块(3)上，所述酸洗箱(2)用于放置半导体二极管；其中，所述的摆动模块(3)包括转盘(31)、第一滑块(32)、支撑盘(33)、伸缩杆(34)和导柱(35)；所述箱体(1)底部设置电机；所述电机的转轴上固连着转盘(31)；所述转盘(31)顶部设有向一侧开设的滑槽，所述第一滑块(32)通过弹簧安装在转盘(31)的滑槽内；所述支撑盘(33)通过一组并联伸缩杆(34)安装在转盘(31)上；所述支撑盘(33)顶部设有酸洗箱(2)；所述支撑盘(33)底部设有一组导柱(35)；所述导柱(35)用于配合第一滑块(32)使用；所述第一滑块(32)顶部设有圆弧凸起；沿第一滑块(32)移动路径上的导柱(35)长度依次增加。2.根据权利要求1所述的一种半导体二极管酸洗处理系统，其特征在于：所述第一滑块(32)顶部设有凹槽；凹槽侧边设有一组转动杆(321)，所述转动杆(321)的中部转动安装在凹槽侧边上；所述转动杆(321)的转轴内设有扭簧。3.根据权利要求1所述的一种半导体二极管酸洗处理系统，其特征在于：所述支撑盘(33)外圈设有一组搅动模块(4)；所述搅动模块(4)包括安装板(41)、第二滑块(42)、连接板(43)、导...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈涛，
申请(专利权)人：陈涛，
类型：发明
国别省市：江苏,32