一种转印装置及转印方法制造方法及图纸

技术编号:19348716 阅读:24 留言:0更新日期:2018-11-07 16:19
本发明专利技术提供了一种转印装置及转印方法,涉及显示技术领域。本发明专利技术通过剥离机构将形成在转印版上的转印膜层进行剥离,在剥离机构远离转印机构的一侧设置有气体供给机构,在剥离转印版上的转印膜层时,气体供给机构在转印版与转印膜层之间提供剥离气体,以降低转印版与转印膜层之间的结合能,转印机构将剥离后的转印膜层转印至基板上。在剥离转印版上的转印膜层时,通过气体供给机构在转印版与转印膜层之间提供剥离气体,以降低转印版与转印膜层之间的结合能,从而降低从转印版上剥离转印膜层时所需的能量,使得转印膜层更易剥离,当转印膜层为有机发光层薄膜时,可降低有机发光层薄膜的损坏几率。

【技术实现步骤摘要】
一种转印装置及转印方法
本专利技术涉及显示
,特别是涉及一种转印装置及转印方法。
技术介绍
目前,转印工艺可应用于有机发光器件的制作,是先在转印版上通过涂布或打印的方法形成有机发光层薄膜,然后将有机发光层薄膜转印到OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)基板上,可充分避免有机发光器件中不同膜层的制作,由于温度、环境等无法克服的因素导致的膜层之间的污染或破坏。一般常采用干法转印工艺制作有机发光器件,是在转印版上形成有机发光层薄膜后,在有机发光层薄膜干燥的情况下,剥离转印版上的有机发光层薄膜,并将剥离后的有机发光层薄膜与OLED基板进行结合。但是,由于有机发光层薄膜较为脆弱,在从转印版上直接剥离有机发光层薄膜时,非常容易造成有机发光层薄膜的损坏,进而导致有机发光层薄膜无法使用。
技术实现思路
本专利技术提供一种转印装置及转印方法,以解决现有的从转印版上剥离有机发光层薄膜时,易造成有机发光层薄膜的损坏的问题。为了解决上述问题,本专利技术公开了一种转印装置,包括:剥离机构、气体供给机构和转印机构;所述剥离机构,被配置为将形成在转印版上的转印膜层进行剥离;所述气体供给机构,设置在所述剥离机构远离所述转印机构的一侧,被配置为在剥离所述转印版上的转印膜层时,在所述转印版与所述转印膜层之间提供剥离气体,以降低所述转印版与所述转印膜层之间的结合能;所述转印机构,被配置为将剥离后的转印膜层转印至基板上。优选地,所述剥离机构包括切割单元和剥离辊;所述切割单元,被配置为在所述转印版与所述转印膜层之间形成切口;所述剥离辊,设置在所述转印膜层远离所述转印版的一侧,被配置在所述切口的位置处,对所述转印膜层进行粘附,并将所述转印膜层拉离所述转印版。优选地,所述气体供给机构包括:气体发生单元、扩压器和喷嘴;所述气体发生单元,被配置为供给剥离气体;所述扩压器,被配置为将所述剥离气体加速至预设速度,并控制所述剥离气体的出射方向;所述喷嘴,被配置为在所述转印版与所述转印膜层之间,提供加速至预设速度的剥离气体。优选地,所述预设速度为340m/s至680m/s。优选地,所述转印机构包括压膜辊,所述压膜辊表面设置有加热单元;所述压膜辊,被配置为将所述剥离后的转印膜层热压至所述基板上。优选地,所述转印装置还包括传动机构;所述传动机构,被配置为吸附所述基板,并将所述基板放置在所述转印膜层远离所述转印版的一侧。优选地,所述转印装置还包括对位机构;所述对位机构,被配置为将所述基板与所述转印版进行对位。优选地,所述转印装置还包括加热机构;所述加热机构,设置在所述转印版远离所述转印膜层的一侧,被配置为对所述转印膜层进行加热,以提高所述转印膜层的表面活性能。优选地,所述加热机构的温度为150℃至230℃。为了解决上述问题,本专利技术还公开了一种转印方法,应用于上述的转印装置,所述方法包括:将形成在转印版上的转印膜层进行剥离;在剥离所述转印版上的转印膜层时,在所述转印版与所述转印膜层之间提供剥离气体,以降低所述转印版与所述转印膜层之间的结合能;将剥离后的转印膜层转印至基板上。与现有技术相比,本专利技术包括以下优点:通过剥离机构将形成在转印版上的转印膜层进行剥离,在剥离机构远离转印机构的一侧设置有气体供给机构,在剥离转印版上的转印膜层时,气体供给机构在转印版与转印膜层之间提供剥离气体,以降低转印版与转印膜层之间的结合能,转印机构将剥离后的转印膜层转印至基板上。在剥离转印版上的转印膜层时,通过气体供给机构在转印版与转印膜层之间提供剥离气体,以降低转印版与转印膜层之间的结合能,从而降低从转印版上剥离转印膜层时所需的能量,使得转印膜层更易剥离,当转印膜层为有机发光层薄膜时,可降低有机发光层薄膜的损坏几率。附图说明图1示出了本专利技术实施例的一种转印装置的结构示意图;图2示出了本专利技术实施例的一种转印方法的流程图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。实施例一参照图1,示出了本专利技术实施例的一种转印装置的结构示意图。本专利技术实施例提供了一种转印装置,包括剥离机构11、气体供给机构12和转印机构13;剥离机构11,被配置为将形成在转印版21上的转印膜层22进行剥离;气体供给机构12,设置在剥离机构11远离转印机构13的一侧,被配置为在剥离转印版21上的转印膜层22时,在转印版21与转印膜层22之间提供剥离气体,以降低转印版21与转印膜层22之间的结合能;转印机构13,被配置为将剥离后的转印膜层22转印至基板31上。首先,在转印版21上采用涂布、蒸镀或打印等方式形成转印膜层22,并进行干燥处理。当转印膜层22的材料为低分子有机物时,可采用蒸镀法等干法制程,当转印膜层22的材料为高分子有机物时,则可采用旋涂法、刮刀式涂布法、浸涂法、喷涂法和印刷法等湿法制程。例如,当在转印版21上采用旋涂法形成转印膜层22时,对应的涂布设备包括涂布转印膜层22的材料至转印版21的涂布单元、控制涂布单元的控制单元,以及测量转印版21上形成的转印膜层22厚度的厚度检测单元;其中,涂布单元包括承载转印版21的旋转台、控制旋转台转动的马达以及向转印版21滴下转印膜层22的材料的滴管,控制单元主要控制涂布单元中的马达进行工作,当然,涂布单元还可包括改变涂布条件的感测器,如涂布速度等,该感测器同样通过控制单元进行控制。将转印膜层22的材料容纳在密闭的空间中,马达控制旋转台转动,从而带动转印版21转动,转印膜层22的材料通过滴管滴到转动的转印版21上,使得转印膜层22的材料均匀扩散到转印版21上,从而形成转印膜层22,接着对转印膜层22进行干燥处理。然后,通过剥离机构11将形成在转印版21上的转印膜层22进行剥离,在剥离转印版21上的转印膜层22时,通过气体供给机构12在转印版21与转印膜层22之间提供剥离气体,以降低转印版21与转印膜层22之间的结合能,从而降低从转印版21上剥离转印膜层22时所需的能量,使得转印膜层22更易剥离,剥离机构11无需使用很大的力度即可将转印膜层22从转印版21上剥离成功,降低了转印膜层22的损坏几率。其中,转印膜层22可以为有机发光层薄膜,由于有机发光层薄膜较为脆弱,采用本专利技术的转印装置,在从转印版21上剥离有机发光层薄膜时,可降低有机发光层薄膜的损坏几率。有机发光层薄膜包括蓝色发光层薄膜、红色发光层薄膜和绿色发光层薄膜,蓝色发光层薄膜的材料可以为蓝光共轭聚合物,如聚9-9二辛基芴等,红色发光层薄膜的材料可以为红光共轭聚合物,如聚(2—甲氧基,5(2—乙基己氧基)—1,4—苯撑乙烯)等,绿色发光层薄膜的材料可以为绿光共轭聚合物,如聚(2-(4-(3',7'-二甲基辛氧基苯)-对苯撑乙烯)等;有机发光层薄膜的厚度为45nm至145nm,优选的,有机发光层薄膜的厚度为85nm。最后,在从转印版21上剥离转印膜层22后,通过转印机构13将剥离后的转印膜层22转印至基板31上,从而在基板31上形成完整的转印膜层22。其中,基板31可以为PET(PolyethyleneTerephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)基板。在本专利技术实施例中,剥离机构11包括切割单元(未在图1中示出)和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转印装置,其特征在于,包括:剥离机构、气体供给机构和转印机构;所述剥离机构,被配置为将形成在转印版上的转印膜层进行剥离;所述气体供给机构,设置在所述剥离机构远离所述转印机构的一侧,被配置为在剥离所述转印版上的转印膜层时,在所述转印版与所述转印膜层之间提供剥离气体,以降低所述转印版与所述转印膜层之间的结合能;所述转印机构,被配置为将剥离后的转印膜层转印至基板上。

【技术特征摘要】
1.一种转印装置,其特征在于,包括:剥离机构、气体供给机构和转印机构;所述剥离机构,被配置为将形成在转印版上的转印膜层进行剥离;所述气体供给机构,设置在所述剥离机构远离所述转印机构的一侧,被配置为在剥离所述转印版上的转印膜层时,在所述转印版与所述转印膜层之间提供剥离气体,以降低所述转印版与所述转印膜层之间的结合能;所述转印机构,被配置为将剥离后的转印膜层转印至基板上。2.根据权利要求1所述的转印装置,其特征在于,所述剥离机构包括切割单元和剥离辊;所述切割单元,被配置为在所述转印版与所述转印膜层之间形成切口;所述剥离辊,设置在所述转印膜层远离所述转印版的一侧,被配置在所述切口的位置处,对所述转印膜层进行粘附,并将所述转印膜层拉离所述转印版。3.根据权利要求1所述的转印装置,其特征在于,所述气体供给机构包括:气体发生单元、扩压器和喷嘴;所述气体发生单元,被配置为供给剥离气体;所述扩压器,被配置为将所述剥离气体加速至预设速度,并控制所述剥离气体的出射方向;所述喷嘴,被配置为在所述转印版与所述转印膜层之间,提供加速至预设速度的剥离气体。4.根据权利要求3所述的转印装置,其特征在于,所述预设速度为340m/s至6...

【专利技术属性】
技术研发人员:井杨坤李林杰林晓华
申请(专利权)人:合肥鑫晟光电科技有限公司京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:安徽,34

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1