一种涂胶台制造技术

技术编号:19341793 阅读:23 留言:0更新日期:2018-11-07 13:46
本发明专利技术公开了一种涂胶台,包括用于放置基板的涂胶平台,马达和排风扇;所述马达与所述涂胶平台固定连接,且所述马达用于驱动所述涂胶平台沿所述涂胶平台的周向方向旋转;所述排风扇位于所述涂胶平台上方,且所述排风扇的出风口朝向所述涂胶平台。上述马达会带动涂胶平台沿周向旋转,而风扇在铺展光刻胶时会向基板吹风,从而在基板表面形成具有一定风向的气流,该气流会给予光刻胶一个额外的推力,帮助光刻胶铺展,从而减少在涂布光刻胶时由于光刻胶堆积所形成的边框的宽度。

A glue dispenser

The invention discloses a glue coating platform, including a glue coating platform, a motor and an exhaust fan for placing a substrate; the motor is fixed to the glue coating platform, and the motor is used to drive the glue coating platform to rotate in the circumferential direction of the glue coating platform; the exhaust fan is located above the glue coating platform, and the exhaust fan is arranged on the glue coating platform. The outlet of the fan is directed towards the adhesive platform. These motors will drive the platforms to rotate around, and fans will blow to the substrate when spreading the photoresist, thus forming a certain wind direction on the surface of the substrate, which will give the photoresist an additional thrust to help the photoresist spread, thereby reducing the accumulation of photoresist in the coating process. The width of the border.

【技术实现步骤摘要】
一种涂胶台
本专利技术涉及芯片制造领域,特别是涉及一种涂胶台。
技术介绍
随着近年来科技不断的进步,芯片的制备工艺得到了极大的发展,其中光刻工艺在芯片制备工艺中起到了重中之重的作用。在现阶段,芯片中的各种电路图案,以及掩膜版上的图案在现阶段均是通过光刻技术刻蚀在芯片或掩膜版中,而芯片的集成度以及性能方面的增长主要得益于光刻技术的不断创新与进步。在进行光刻的过程中,需要将光刻胶均匀涂布在基板的表面,以保证光刻时图案的准确。在现有技术中,均是通过涂胶台在基板的表面设置均匀平滑的光刻胶膜,其原理是利用高速旋转基板所产生的离心力将光刻胶铺开。但是在现有技术中会在基板的表面边缘区域堆积光刻胶以形成边框,在边框处光刻胶的厚度通常会比需要的光刻胶膜的厚度高出0.5倍以上。由于边框处光刻胶膜的厚度较高无法使用,所以该区域也成为无效区,这不利于基板的使用;同时在边框处堆积的光刻胶会在烘烤时硬化,并在制程的传递过程中脱落形成微粒,污染后续工艺所使用的设备,造成图形缺失等问题。所以如何减少在涂布光刻胶时由于光刻胶堆积所形成的边框的宽度是本领域技术人员急需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种涂胶台,可以有效减少在涂胶过程中所形成的边框的宽度。为解决上述技术问题,本专利技术提供一种涂胶台,其特征在于,包括用于放置基板的涂胶平台,马达和排风扇;所述马达与所述涂胶平台固定连接,且所述马达用于驱动所述涂胶平台沿所述涂胶平台的周向方向旋转;所述排风扇位于所述涂胶平台上方,且所述排风扇的出风口朝向所述涂胶平台。可选的,所述排风扇位于所述涂胶平台中心的正上方。可选的,所述涂胶平台包括与所述马达固定连接的涂胶台底座,以及位于所述涂胶台底座上表面,且与所述涂胶台底座固定连接的卡盘,所述卡盘用于固定所述基板。可选的,所述卡盘具有一容纳所述基板的凹槽,且所述凹槽的深度不大于所述基板的厚度。可选的,所述涂胶台还包括废胶碗、排气管和抽风装置;所述涂胶平台位于所述废胶碗的内腔中,所述废胶碗内壁具有第一通孔,所述排气管的入风口与所述第一通孔相连通,所述排气管的出风口设置有所述抽风装置,所述抽风装置用于从所述出风口抽离空气。可选的,所述涂胶台还包括位于所述废胶碗开口处的外盖,所述外盖位于所述涂胶平台和所述排风扇之间,所述外盖中位于所述排风扇和所述涂胶平台的相对区域设置有第二通孔。可选的,所述废胶碗内壁具有多个所述第一通孔,多个所述第一通孔围绕所述涂胶平台均匀分布。可选的,所述涂胶台还包括排气量控制组件,所述排气量控制组件包括流量探测器、第一控制器和第二控制器;所述流量探测器用于测量所述废胶碗中的排气量;所述第一控制器与所述排风扇相连接,所述第一控制器用于根据所述排气量控制所述排风扇的功率;所述第二控制器与所述抽风装置相连接,所述第二控制器用于根据所述排气量控制所述抽风装置的功率。可选的,所述抽风装置包括位于所述出风口的风门和用于从所述出风口抽离空气的风机。可选的,所述第二控制器包括与所述风门连接的第一子控制器和与所述风机连接的第二子控制器;所述第一子控制器用于根据所述排气量通过控制所述风门的直线驱动装置以控制所述风门的行程;所述第二子控制器用于根据外界信号控制所述风机的功率。本专利技术所提供的一种涂胶台,包括用于放置基板的涂胶平台,马达和排风扇,其中马达会带动涂胶平台沿周向旋转,而风扇在铺展光刻胶时会向基板吹风,从而在基板表面形成具有一定风向的气流,该气流会给予光刻胶一个额外的推力,帮助光刻胶铺展,从而减少在涂布光刻胶时由于光刻胶堆积所形成的边框的宽度。附图说明为了更清楚的说明本专利技术实施例或现有技术的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例所提供的一种涂胶台的结构示意图;图2为图1中卡盘的结构示意图;图3为本专利技术实施例所提供的一种具体的涂胶台的结构示意图;图4为本专利技术实施例所提供的一种排气量控制组件的结构框图。图中:1.涂胶平台、11.涂胶台底座、12.卡盘、121.凹槽、2.基板、3.马达、4.排风扇、5.废胶碗、6.排气管、7.抽风装置、71.风门、72.风机、8.外盖、81.第二通孔、9.流量探测器、10.第一控制器、11.第二控制器、111.第一子控制器、112.第二子控制器。具体实施方式本专利技术的核心是提供一种涂胶台。在现有技术中,均是通过离心力铺展基板表面的光刻胶。但由于光刻胶除了受到离心力作用沿径向铺开,还会受到粘性力、表面张力的阻碍。高速甩胶末期,离心力与阻力达到平衡,会导致一小部分光刻胶在基板边缘堆积,从而形成2mm至10mm左右的边框。而本专利技术所提供的一种涂胶台,包括用于放置基板的涂胶平台,马达和排风扇,其中马达会带动涂胶平台沿周向旋转,而风扇在铺展光刻胶时会向基板吹风,从而在基板表面形成具有一定风向的气流,该气流会给予光刻胶一个额外的推力,帮助光刻胶铺展,从而减少在涂布光刻胶时由于光刻胶堆积所形成的边框的宽度。为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步的详细说明。显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。请参考图1与图2,图1为本专利技术实施例所提供的一种涂胶台的结构示意图;图2为图1中卡盘的结构示意图。参见图1,在本专利技术实施例中,所述涂胶台包括用于放置基板2的涂胶平台1,马达3和排风扇4;所述马达3与所述涂胶平台1固定连接,且所述马达3用于驱动所述涂胶平台1沿所述涂胶平台1的周向方向旋转;所述排风扇4位于所述涂胶平台1上方,且所述排风扇4的出风口朝向所述涂胶平台1。上述基板2可以为需要设置光刻胶的光掩模版,也可以是需要设置光刻胶的晶圆,有关基板2的具体种类在本专利技术实施例中并不做具体限定。上述涂胶平台1通常用于承载需要被涂布光刻胶的基板2,基板2通常固定在涂胶平台1的上表面,而涂胶平台1通常水平放置,使得固定在涂胶平台1上表面的基板2不会发生倾斜。上述马达3需要与涂胶平台1固定连接,马达3可以带动涂胶平台1以及固定在涂胶平台1表面的基板2在水平方向上沿涂胶平台1以及基板2的周向方向旋转。有关马达3的具体结构可以参照现有技术,在本专利技术实施例中并不做具体限定。具体的,上述涂胶平台1包括与所述马达3固定连接的涂胶台底座11,以及位于所述涂胶台底座11上表面,且与所述涂胶台底座11固定连接的卡盘12,所述卡盘12用于固定所述基板2。上述涂胶台底座11通常呈板状,而马达3的输出轴与涂胶台底座11固定连接,以带动涂胶台底座11沿周向旋转;用于固定基板2的卡盘12会固定在涂胶台底座11的上表面。参见图2,为了减少光刻胶流至基板2背面以及降低伯努利效应的影响,作为优选的,在本专利技术实施例中所述卡盘12具有一容纳所述基板2的凹槽121,且所述凹槽121的深度不大于所述基板2的厚度。即在本专利技术实施例中上述卡盘12优选为嵌入式卡盘12,该卡盘12具有一用于容纳基板2的凹槽121,且基板本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种涂胶台,其特征在于,包括用于放置基板的涂胶平台,马达和排风扇;所述马达与所述涂胶平台固定连接,且所述马达用于驱动所述涂胶平台沿所述涂胶平台的周向方向旋转;所述排风扇位于所述涂胶平台上方,且所述排风扇的出风口朝向所述涂胶平台。

【技术特征摘要】
1.一种涂胶台,其特征在于,包括用于放置基板的涂胶平台,马达和排风扇;所述马达与所述涂胶平台固定连接,且所述马达用于驱动所述涂胶平台沿所述涂胶平台的周向方向旋转;所述排风扇位于所述涂胶平台上方,且所述排风扇的出风口朝向所述涂胶平台。2.根据权利要求1所述的涂胶台,其特征在于,所述排风扇位于所述涂胶平台中心的正上方。3.根据权利要求1所述的涂胶台,其特征在于,所述涂胶平台包括与所述马达固定连接的涂胶台底座,以及位于所述涂胶台底座上表面,且与所述涂胶台底座固定连接的卡盘,所述卡盘用于固定所述基板。4.根据权利要求3所述的涂胶台,其特征在于,所述卡盘具有一容纳所述基板的凹槽,且所述凹槽的深度不大于所述基板的厚度。5.根据权利要求1至4任一项权利要求所述的涂胶台,其特征在于,所述涂胶台还包括废胶碗、排气管和抽风装置;所述涂胶平台位于所述废胶碗的内腔中,所述废胶碗内壁具有至少一个第一通孔,所述排气管的入风口与所述第一通孔相连通,所述排气管的出风口设置有所述抽风装置,所述抽风装置用于从所述出风口抽离空气。6.根据权利要求5所述的涂胶台,其特征在于,所述涂胶台还包括位于所述废胶...

【专利技术属性】
技术研发人员:张诚李伟徐根李翼
申请(专利权)人:湖南普照信息材料有限公司
类型:发明
国别省市:湖南,43

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