The invention discloses a control system for improving the utilization ratio of vacuum pumps, including a vacuum storage tank and a vacuum pump, as well as a control circuit. A cooling water tank is arranged on one side of the vacuum pump, an overflow pipe is arranged on one side of the cooling water tank, and a backwater pipe connected to the vacuum pump is arranged on the one side of the overflow pipe, and the cooling water tank is close to the truth. One side of the empty pump is provided with a supplementary water pipe with a valve. The cooling water tank is located at the upper end of the supplementary water pipe. The vacuum pump is connected with the outlet water pipe to the vacuum storage tank. The outlet water pipe is equipped with a vacuum solenoid valve. The outlet water pipe is also equipped with a pressure transmitter. The side of the cooling water tank is also equipped with a drainage bottom pipe. In the process of operation, the shutdown time of vacuum pump accounts for more than 60% and it works 24 hours a day. The vacuum pump stops working for nearly 15 hours. The energy consumption of the vacuum pump is greatly reduced, and the running water temperature of the vacuum pump is also reduced. Not only can the water supply be reduced, but also the service life of the vacuum pump can be easily reached to 0.08MPa, which improves the service life of the vacuum pump.
【技术实现步骤摘要】
一种提高真空泵利用率的控制系统及控制方法
本专利技术涉及真空泵设备领域,尤其涉及一种提高真空泵利用率的控制系统及控制方法。
技术介绍
生产线产品配制时,需要抽掉罐内空气,排除氧气,所以采用抽真空-充氮-再抽真空-再充氮几次循环,这里需要大量真空,配置时间占40%左右。真空泵一直运行不停,结果浪费大量电能。冷却水温高会导致真空泵寿命缩短,真空度只能维持在-0.06MPa水平。配液几次置换,每次抽到-0.06MPa,经过这几次转换,配制占用时间长,效率低,药品配置时间长,风险增加。生产产品对瓶内空间充氮上塞前,需要将胶塞吸起来,相对密闭空间内最后上塞,这里需要真空量少,但真空量不得小于-0.06MPa,需要单独真空泵,也是出于常开启的状态,仍然浪费电能,真空泵冷却水温高,真空度降低,导致真空泵寿命缩短。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种提高真空泵利用率的控制系统及控制方法,具有在保证足够真空高度的情况下减少真空泵运行时间,节约能量的优点。本专利技术的上述目的是通过以下技术方案得以实现的:一种提高真空泵利用率的控制系统,包括真空储罐和真空泵,还包括控制电路,所述真空泵的一侧设有冷却水箱,所述冷却水箱的一侧设有溢流管,所述冷却水箱位于溢流管的一侧设有连接至真空泵的回水管,所述冷却水箱靠近真空泵的一侧设有带阀门的补水管,所述冷却水箱位于补水管的上端设有连接至真空泵的供水管,所述真空泵连接有至真空储罐的出水管,所述出水管上设有真空电磁阀,所述出水管上还设有压力变送器,所述冷却水箱的一侧还设有排底管。进一步,所述溢流管的高度与真空泵最高点的高度一致。实施上述技术方 ...
【技术保护点】
1.一种提高真空泵利用率的控制系统,包括真空储罐(1)和真空泵(2),其特征在于,还包括控制电路,所述真空泵(2)的一侧设有冷却水箱(3),所述冷却水箱(3)的一侧设有溢流管(4),所述冷却水箱(3)位于溢流管(4)的一侧设有连接至真空泵(2)的回水管(5),所述冷却水箱(3)靠近真空泵(2)的一侧设有带阀门的补水管(6),所述冷却水箱(3)位于补水管(6)的上端设有连接至真空泵(2)的供水管(7),所述真空泵(2)连接有至真空储罐(1)的出水管(8),所述出水管(8)上设有真空电磁阀(9),所述出水管(8)上还设有压力变送器(10),所述冷却水箱(3)的一侧还设有排底管(11)。
【技术特征摘要】
1.一种提高真空泵利用率的控制系统,包括真空储罐(1)和真空泵(2),其特征在于,还包括控制电路,所述真空泵(2)的一侧设有冷却水箱(3),所述冷却水箱(3)的一侧设有溢流管(4),所述冷却水箱(3)位于溢流管(4)的一侧设有连接至真空泵(2)的回水管(5),所述冷却水箱(3)靠近真空泵(2)的一侧设有带阀门的补水管(6),所述冷却水箱(3)位于补水管(6)的上端设有连接至真空泵(2)的供水管(7),所述真空泵(2)连接有至真空储罐(1)的出水管(8),所述出水管(8)上设有真空电磁阀(9),所述出水管(8)上还设有压力变送器(10),所述冷却水箱(3)的一侧还设有排底管(11)。2.根据权利要求1所述的一种提高真空泵利用率的控制系统,其特征在于,所述溢流管(4)的高度与真空泵(2)最高点的高度一致。3.根据权利要求1所述的一种提高真空泵利用率的控制系统,其特征在于,所述补水管(6)与溢流管(4)的液位差为160-200mm。4.根据权利要求1所述的一种提高真空泵利用率的控制系统,其特征在于,所述真空电磁阀(9)的高度低于压力变送器(10)的高度。5.根据权利要求1所述的一种提高真空泵利用率的控制系统,其特征在于,所述控制电路包括CPU、扩展模块、接触器、继电器KA1、继电器KA2、开关SK1、开关SK2和热过载,所述CPU通过开关SK1连通电源,所述CPU连接继电器KA1,所述继电器KA1连接在真空泵(2)的电源回路,所述CPU连接所述扩展模块,所述扩展模块连接所述压力变送器(10),所...
【专利技术属性】
技术研发人员:但作云,郭晓英,刘文军,罗成鑫,刘思川,谭鸿波,葛均友,王亮,王昌斌,
申请(专利权)人:四川科伦药业股份有限公司,
类型:发明
国别省市:四川,51
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