用于基板的真空处理的设备、用于基板的真空处理的系统、及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法技术方案

技术编号:19328619 阅读:28 留言:0更新日期:2018-11-03 15:30
本公开内容提供一种用于基板(10)的真空处理的设备(200)。设备(200)包括真空腔室、输送基板载具(120)的第一轨道布置(110)、输送掩模载具(140)的第二轨道布置(130)以及将基板载具(120)和掩模载具(140)相对于彼此定位的保持布置。第一轨道布置(110)包括经配置以在基板(10)的第一端(12)支撑基板载具(120)的第一部分和经配置以在与基板(10)的第一端(12)相对的基板(10)的第二端(14)支撑基板载具(120)的第二部分。第二轨道布置(120)包括经配置以在掩模(20)的第一端(22)支撑掩模载具(140)的另外第一部分和经配置以在与掩模(20)的第一端(22)相对的掩模(20)的第二端(24)支撑掩模载具(140)的另外第二部分。第一轨道布置(110)的第一部分和第二部分之间的第一距离(D)与第二轨道布置(130)的另外第一部分和另外第二部分之间的第二距离(D’)实质上相同。

Equipment for vacuum treatment of substrate, system for vacuum treatment of substrate, and method for conveying substrate carrier and mask carrier in vacuum chamber

The present disclosure provides a device for vacuum treatment of a substrate (10) (200). The equipment (200) includes a vacuum chamber, a first track arrangement (110) of a conveying base plate carrier (120), a second track arrangement (130) of a conveying mask carrier (140), and a retention arrangement of a base plate carrier (120) and a mask carrier (140) relative to each other. The first track arrangement (110) includes the first part of the base plate carrier (120) supported at the first end (12) of the base plate (10) and the second part of the base plate carrier (120) supported at the second end (14) of the base plate carrier (12) opposite to the first end (12) of the base plate (10). The second track arrangement (120) includes another part of the mask carrier (140) supported at the first end (22) of the mask (20) and another part of the mask carrier (140) supported at the second end (24) of the mask (20) opposite to the first end (22) of the mask (20). The first distance (D) between the first part and the second part of the first track arrangement (110) is substantially the same as the second distance (D') between the other part of the second track arrangement (130).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于基板的真空处理的设备、用于基板的真空处理的系统、及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法
本公开内容的实施方式涉及一种用于基板的真空处理的设备、一种用于基板的真空处理的系统及一种用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法。本公开内容的实施方式具体地涉及用于保持基板的载具和在有机发光二极管(OLED)装置的制造中使用的掩模。
技术介绍
在基板上沉积层的技术包括例如:热蒸发、物理气相沉积(PVD)及化学气相沉积(CVD)。受涂覆的基板可用在多种应用和多个
中。例如,受涂覆的基板可用于有机发光二极管(OLED)装置的领域中。OLED可用于制造电视屏幕、计算机显示器(computermonitor)、移动电话、其他手持装置及用于显示信息的类似物。OLED装置,诸如OLED显示器,可包括位于两个电极之间的一层或多层的有机材料,此两个电极均沉积在基板上。OLED装置的功能性可依赖于有机材料的涂层厚度。此涂层厚度必须在一预定范围内。为了实现高分辨率的OLED装置,在OLED装置的制造过程中,在蒸发材料的沉积方面存在一些技术挑战。尤其,基板载具和掩模载具通过处理系统的准确且平稳的输送仍存在挑战性。此外,基板相对于掩模的精确对准(alignment)对于获得高品质的处理结果(例如用于制造高分辨率的OLED装置)是至关重要的。鉴于上述情形,克服现有技术中的至少一些问题的新的用于基板的真空处理的载具、用于基板的真空处理的系统及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法是有益的。本公开内容具体地旨在提供可在真空腔室中被有效地输送的载具。
技术实现思路
鉴于上述内容,提供一种用于基板的真空处理的设备、一种用于基板的真空处理的系统及一种用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法。本公开内容的另外的方面、优点及特征可从权利要求书、说明书和附图中显而易见。根据本公开内容的一方面,提供一种用于基板的真空处理的设备。所述设备包括真空腔室、经配置以输送基板载具的第一轨道布置、经配置以输送掩模载具的第二轨道布置及经配置以将基板载具和掩模载具相对于彼此定位的保持布置。第一轨道布置包括经配置以在基板的第一端支撑基板载具的第一部分及经配置以在与基板的第一端相对的基板的第二端支撑基板载具的第二部分。第二轨道布置包括经配置以在掩模的第一端支撑掩模载具的另外第一部分及经配置以在与掩模的第一端相对的掩模的第二端支撑掩模载具的另外第二部分。在第一轨道布置的第一部分与第二部分之间的第一距离和在第二轨道布置的另外第一部分与另外第二部分之间的第二距离实质上相同。根据本公开内容的另一方面,提供一种用于基板的真空处理的系统。所述系统包括根据本文所述的实施方式的用于基板的真空处理的设备、基板载具及掩模载具。根据本公开内容的另一方面,提供一种用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法。所述方法包括非接触式输送在第一轨道布置上的基板载具和在第二轨道布置上的掩模载具,并且非接触式输送在第二轨道布置上的基板载具和在第一轨道布置上的掩模载具。根据本公开内容的一方面,提供一种用于基板的真空处理的设备。所述设备包括真空腔室、在第一方向上延伸并经配置以至少在第一方向上输送基板载具的第一轨道布置、在第一方向上延伸并经配置以至少在第一方向上输送掩模载具的第二轨道布置以及经配置以将基板载具和掩模载具相对于彼此定位的保持布置(holdingarrangement)。第一轨道布置的尺寸设置为亦能输送掩模载具,且第二轨道布置的尺寸设置为亦能输送基板载具。实施方式亦针对用于执行所披露的方法的设备,并且包括用于执行每个所描述的方法方面的设备部件。这些方法方面可以通过硬体部件、由适当软件编程的计算机及这两者的任何组合或以任何其他方式来执行。此外,根据本公开内容的实施方式亦针对用于操作所描述的设备的方法。用于操作所描述的设备的方法包括执行设备的每个功能的数个方法方面。附图说明可通过参照实施方式来对以上简要概述进行更具体的说明以详细理解本公开内容的所述特征。附图有关于本公开内容的实施方式且在下文中描述:图1A绘示根据本文所述实施方式的第一轨道布置和基板载具的示意图。图1B绘示根据本文所述实施方式的第二轨道布置和掩模载具的示意图。图2绘示根据本文所述实施方式的用于基板的真空处理的设备的示意图。图3A绘示根据本文所述实施方式的用于基板的真空处理并具有保持布置的设备的示意图。图3B绘示根据本文所述实施方式的用于基板的真空处理并具有保持布置的设备的示意图。图4A和图4B绘示根据本文所述另外的实施方式的用于基板的真空处理并具有保持布置的设备的示意图。图5A和图5B绘示根据本文所述实施方式的用于载具的输送的输送布置的示意图。图6绘示根据本文所述另外的实施方式的用于基板的真空处理的设备的示意图。图7绘示根据本文所述实施方式的用于基板的真空处理的系统的示意图。图8绘示根据本文所述实施方式的在真空腔室内输送基板载具和掩模载具的方法的流程图。具体实施方式现在将详细参照本公开内容的各种实施方式,附图绘示出其中的一个或多个示例。在附图的如下描述中,相同的附图标记表示相同的部件。一般而言,仅描述关于各个实施方式的差异。提供各个示例用以解释本公开内容而非视为对本公开内容的限制。此外,作为一个实施方式的一部分示出或描述的特征可用于其他实施方式中或与其他实施方式结合使用以产生另一实施方式。说明书旨在包括这样的修改和变化。本公开内容提供用于基板载具的第一轨道布置及用于掩模载具的第二轨道布置,其二者在至少一个维度(dimension)上尺寸相同。换言之,掩模载具适配到第一轨道布置中,而基板载具适配到第二轨道布置中。第一轨道布置和第二轨道布置可被灵活地使用,同时将这些载具精确且平稳地输送通过真空系统。保持布置允许基板相对于掩模的精确对准,反之亦然。可实现高品质的处理结果,例如是生产高分辨率的OLED装置。图1A绘示第一轨道布置110和基板载具120的示意图。图1B绘示第二轨道布置130和掩模载具140的示意图。图2绘示根据本文所描述的实施方式的用于基板10的真空处理的设备200的示意图。设备200包括真空腔室、经配置以输送基板载具120的第一轨道布置110、经配置以输送掩模载具140的第二轨道布置130、以及经配置以将基板载具120和掩模载具140相对于彼此定位的保持布置。第一轨道布置110包括经配置以在基板10的第一端12处支撑基板载具120的第一部分(例如是第一轨道112)及经配置以在与基板10的第一端12相对的基板10的第二端14处支撑基板载具120的第二部分(例如是第二轨道114)。第二轨道布置130包括经配置以在第一掩模20的第一端22处支撑掩模载具140的另外第一部分(例如是另外第一轨道132)以及经配置以在与掩模20的第一端22相对的掩模20的第二端24处支撑掩模载具140的另外第二部分(例如是另外第二轨道134)。在第一轨道布置110的第一部分与第二部分之间的第一距离D和在第二轨道布置130的另外第一部分与另外第二部分之间的第二距离D’实质上相等或实质上相同。第一距离D和第二距离D’可被定义在第二方向(y方向)上,该第二方向可以是实质上垂直的方向。通过在第一轨道布置110和第二轨道布置130处本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于基板的真空处理的设备,包括:真空腔室;第一轨道布置,经配置以输送基板载具,且包括经配置以在所述基板的第一端支撑所述基板载具的第一部分和经配置以在与所述基板的第一端相对的所述基板的第二端支撑所述基板载具的第二部分;第二轨道布置,经配置以输送掩模载具,且包括经配置以在掩模的第一端支撑所述掩模载具的另外第一部分和经配置以在与所述掩模的第一端相对的所述掩模的第二端支撑所述掩模载具的另外第二部分,其中在所述第一轨道布置的所述第一部分和所述第二部分之间的第一距离与在所述第二轨道布置的所述另外第一部分和所述另外第二部分之间的第二距离实质上相同;和保持布置,经配置以将所述基板载具和所述掩模载具相对于彼此定位。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于基板的真空处理的设备,包括:真空腔室;第一轨道布置,经配置以输送基板载具,且包括经配置以在所述基板的第一端支撑所述基板载具的第一部分和经配置以在与所述基板的第一端相对的所述基板的第二端支撑所述基板载具的第二部分;第二轨道布置,经配置以输送掩模载具,且包括经配置以在掩模的第一端支撑所述掩模载具的另外第一部分和经配置以在与所述掩模的第一端相对的所述掩模的第二端支撑所述掩模载具的另外第二部分,其中在所述第一轨道布置的所述第一部分和所述第二部分之间的第一距离与在所述第二轨道布置的所述另外第一部分和所述另外第二部分之间的第二距离实质上相同;和保持布置,经配置以将所述基板载具和所述掩模载具相对于彼此定位。2.如权利要求1所述的设备,其中所述第一轨道布置和所述第二轨道布置在第一方向上延伸,具体地其中所述第一轨道布置经配置以至少在所述第一方向上输送所述基板载具,且其中所述第二轨道布置经配置以至少在所述第一方向上输送所述掩模载具。3.如权利要求2所述的设备,其中所述第一部分和所述另外第一部分布置于由所述第一方向与垂直于所述第一方向的另一方向所限定的第一平面中,且其中所述第二部分和所述另外第二部分布置于由所述第一方向与其他方向所限定的第二平面中。4.如权利要求3所述的设备,其中所述第一方向为水平方向,且所述其他方向为另一水平方向或垂直方向。5.如权利要求4所述的设备,其中所述第一距离和所述第二距离限定在垂直于所述第一方向和所述其他方向的方向上。6.如权利要求2至5中任一项所述的设备,进一步包括经配置以在所述第一方向上非接触式移动所述基板载具和所述掩模载具的...

【专利技术属性】
技术研发人员:马蒂亚斯·海曼斯斯特凡·班格特奥利弗·海梅尔安德烈亚斯·索尔塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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