The present disclosure provides a device for vacuum treatment of a substrate (10) (200). The equipment (200) includes a vacuum chamber, a first track arrangement (110) of a conveying base plate carrier (120), a second track arrangement (130) of a conveying mask carrier (140), and a retention arrangement of a base plate carrier (120) and a mask carrier (140) relative to each other. The first track arrangement (110) includes the first part of the base plate carrier (120) supported at the first end (12) of the base plate (10) and the second part of the base plate carrier (120) supported at the second end (14) of the base plate carrier (12) opposite to the first end (12) of the base plate (10). The second track arrangement (120) includes another part of the mask carrier (140) supported at the first end (22) of the mask (20) and another part of the mask carrier (140) supported at the second end (24) of the mask (20) opposite to the first end (22) of the mask (20). The first distance (D) between the first part and the second part of the first track arrangement (110) is substantially the same as the second distance (D') between the other part of the second track arrangement (130).
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于基板的真空处理的设备、用于基板的真空处理的系统、及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法
本公开内容的实施方式涉及一种用于基板的真空处理的设备、一种用于基板的真空处理的系统及一种用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法。本公开内容的实施方式具体地涉及用于保持基板的载具和在有机发光二极管(OLED)装置的制造中使用的掩模。
技术介绍
在基板上沉积层的技术包括例如:热蒸发、物理气相沉积(PVD)及化学气相沉积(CVD)。受涂覆的基板可用在多种应用和多个
中。例如,受涂覆的基板可用于有机发光二极管(OLED)装置的领域中。OLED可用于制造电视屏幕、计算机显示器(computermonitor)、移动电话、其他手持装置及用于显示信息的类似物。OLED装置,诸如OLED显示器,可包括位于两个电极之间的一层或多层的有机材料,此两个电极均沉积在基板上。OLED装置的功能性可依赖于有机材料的涂层厚度。此涂层厚度必须在一预定范围内。为了实现高分辨率的OLED装置,在OLED装置的制造过程中,在蒸发材料的沉积方面存在一些技术挑战。尤其,基板载具和掩模载具通过处理系统的准确且平稳的输送仍存在挑战性。此外,基板相对于掩模的精确对准(alignment)对于获得高品质的处理结果(例如用于制造高分辨率的OLED装置)是至关重要的。鉴于上述情形,克服现有技术中的至少一些问题的新的用于基板的真空处理的载具、用于基板的真空处理的系统及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法是有益的。本公开内容具体地旨在提供可在真空腔室中被有效地输送的载具。
技术实现思路
鉴于上述内容 ...
【技术保护点】
1.一种用于基板的真空处理的设备,包括:真空腔室;第一轨道布置,经配置以输送基板载具,且包括经配置以在所述基板的第一端支撑所述基板载具的第一部分和经配置以在与所述基板的第一端相对的所述基板的第二端支撑所述基板载具的第二部分;第二轨道布置,经配置以输送掩模载具,且包括经配置以在掩模的第一端支撑所述掩模载具的另外第一部分和经配置以在与所述掩模的第一端相对的所述掩模的第二端支撑所述掩模载具的另外第二部分,其中在所述第一轨道布置的所述第一部分和所述第二部分之间的第一距离与在所述第二轨道布置的所述另外第一部分和所述另外第二部分之间的第二距离实质上相同;和保持布置,经配置以将所述基板载具和所述掩模载具相对于彼此定位。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于基板的真空处理的设备,包括:真空腔室;第一轨道布置,经配置以输送基板载具,且包括经配置以在所述基板的第一端支撑所述基板载具的第一部分和经配置以在与所述基板的第一端相对的所述基板的第二端支撑所述基板载具的第二部分;第二轨道布置,经配置以输送掩模载具,且包括经配置以在掩模的第一端支撑所述掩模载具的另外第一部分和经配置以在与所述掩模的第一端相对的所述掩模的第二端支撑所述掩模载具的另外第二部分,其中在所述第一轨道布置的所述第一部分和所述第二部分之间的第一距离与在所述第二轨道布置的所述另外第一部分和所述另外第二部分之间的第二距离实质上相同;和保持布置,经配置以将所述基板载具和所述掩模载具相对于彼此定位。2.如权利要求1所述的设备,其中所述第一轨道布置和所述第二轨道布置在第一方向上延伸,具体地其中所述第一轨道布置经配置以至少在所述第一方向上输送所述基板载具,且其中所述第二轨道布置经配置以至少在所述第一方向上输送所述掩模载具。3.如权利要求2所述的设备,其中所述第一部分和所述另外第一部分布置于由所述第一方向与垂直于所述第一方向的另一方向所限定的第一平面中,且其中所述第二部分和所述另外第二部分布置于由所述第一方向与其他方向所限定的第二平面中。4.如权利要求3所述的设备,其中所述第一方向为水平方向,且所述其他方向为另一水平方向或垂直方向。5.如权利要求4所述的设备,其中所述第一距离和所述第二距离限定在垂直于所述第一方向和所述其他方向的方向上。6.如权利要求2至5中任一项所述的设备,进一步包括经配置以在所述第一方向上非接触式移动所述基板载具和所述掩模载具的...
【专利技术属性】
技术研发人员:马蒂亚斯·海曼斯,斯特凡·班格特,奥利弗·海梅尔,安德烈亚斯·索尔,塞巴斯蒂安·巩特尔·臧,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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