CMP设备腔室保湿用喷雾器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种CMP设备腔室保湿用喷雾器，CMP设备腔室保湿用喷雾器包括：储液罐；喷雾管座，喷雾管座设在储液罐上，喷雾管座上设有进液接头以向储液罐内注入液体；喷雾组件，喷雾组件与喷雾管座相连，喷雾组件包括：喷液吸管，喷液吸管的一端与储液罐连通；二流体喷雾头，二流体喷雾头设在喷液吸管的另一端以将储液罐内的液体雾化喷出。根据本实用新型专利技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器，通过喷雾组件便于将储液罐中的液体经由喷液吸管再由二流体喷雾头喷出，且二流体喷雾头的位置可以灵活设置，从而满足抛光腔室内部及各个模块表面保湿的需求。

【技术实现步骤摘要】
CMP设备腔室保湿用喷雾器
本技术涉及精密加工
，特别是涉及一种CMP设备腔室保湿用喷雾器。
技术介绍
相关技术中，采用喷液管路加喷嘴的形式对需要清洗保湿的表面进行定向喷洒DIW(DeionizedWater，去离子水)，从而达到保湿的作用。然而，上述技术方案存在一定的不足：例如，对喷嘴的喷射角度以及覆盖面积要求比较高，通常不能调节或仅能实现很小范围的调节，容易出现喷射不到的死角，且一般水流比较大，既消耗DIW形成浪费，还很容易顺着腔室周围的防护板流到机台外部。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种CMP设备腔室保湿用喷雾器，所述CMP设备腔室保湿用喷雾器的喷雾范围扩大，使用性能好。根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器，包括：储液罐；喷雾管座，所述喷雾管座设在所述储液罐上，所述喷雾管座上设有进液接头以向所述储液罐内注入液体；喷雾组件，所述喷雾组件与所述喷雾管座相连，所述喷雾组件包括：喷液吸管，所述喷液吸管的一端与所述储液罐连通；二流体喷雾头，所述二流体喷雾头设在所述喷液吸管的另一端以将所述储液罐内的液体雾化喷出。根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器，通过喷雾组件便于将储液罐中的液体经由喷液吸管再由二流体喷雾头喷出，且二流体喷雾头的位置可以灵活设置，从而满足抛光腔室内部及各个模块表面保湿的需求。另外，根据本技术上述实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器还具有如下附加的技术特征：根据本技术的一些实施例，所述喷雾组件还包括：活动空心软管，所述喷液吸管的至少一部分位于所述活动空心软管内，所述活动空心软管的一端与所述喷雾管座相连且另一端与所述二流体喷雾头相连。进一步地，所述喷雾组件包括至少两个，所述至少两个喷雾组件在所述喷雾管座上间隔布置。根据本技术的一些实施例，所述二流体喷雾头包括：喷雾座，所述喷雾座的中部形成有中心通孔；进气接头，所述进气接头通过所述喷雾座上的第一安装位与所述喷雾座相连；软管接头，所述软管接头通过所述喷雾座上的第二安装位与所述喷雾座相连；喷雾帽，所述喷雾帽通过所述喷雾座上的第三安装位与所述喷雾座相连，所述喷雾帽具有与所述中心通孔同轴设置的喷孔。更进一步地，所述喷雾座与所述喷雾帽之间还设有密封件，所述喷雾座与所述喷雾帽之间通过螺钉相连。进一步地，所述第三安装位的内底面的周缘设有密封件容纳槽，所述密封件的一部分位于所述密封件容纳槽外并止抵所述喷雾帽；其中，所述喷雾帽、所述密封件以及所述喷雾座之间形成有连通所述软管接头的液体流道。进一步地，所述喷雾座上设有连通孔，所述连通孔的一端与所述软管接头连通且另一端与所述液体流道连通。更进一步地，所述喷液吸管的所述另一端插接至所述连通孔内，且所述喷液吸管与所述连通孔过盈配合。具体地，所述进气接头内形成有进气通道，所述喷雾座邻近所述第一安装位处设有通气孔，所述通气孔的一端与所述进气通道连通且另一端与所述中心通孔连通；其中，所述中心通孔邻近所述喷孔的一端的径向尺寸小于所述中心通孔远离所述喷孔的一端的径向尺寸。可选地，所述喷雾管座上设有进液孔和溢流孔，所述进液孔与所述进液接头连通，当所述储液罐内的液体达到溢流水位时，液体通过所述溢流孔流出。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器的立体图；图2是根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器的一个示意图；图3是根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器的另一个示意图；图4是沿图3中B-B线的剖视图；图5是根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器的俯视图；图6是根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器的一个剖面图；图7是根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器中二流体喷雾头的立体图；图8是图7的一个剖面图。附图标记：CMP设备腔室保湿用喷雾器100，储液罐1，喷雾管座2，进液接头21，进液孔22，溢流孔23，固定板24，喷雾组件3，喷液吸管31，二流体喷雾头32，喷雾座321，中心通孔3211，第一安装位3212，第二安装位3213，第三安装位3214，连通孔3215，通气孔3216，进气接头322，进气通道3221，软管接头323，喷雾帽324，喷孔3241，密封件325，液体流道326，螺钉327，活动空心软管33。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。相关技术中，CMP(CMP即ChemicalMechanicalPlanarization，化学机械平坦化)设备腔室内部都需要保湿机构，对内部空间及各零部件表面进行保湿，主要目的是防止化学液干燥蒸发后留下的结晶掉落到抛光盘，修整器、抛光头等与晶圆接触的部件从而粘污晶圆，或者影响slurry(泥浆)成分，影响抛光效果。然而，相关技术中的保湿机构存在一定的不足，为此，本技术提供了一种CMP设备腔室保湿用喷雾器100，解决了一般喷雾管路无法进行任意方向调节以及喷雾范围有限的问题。下面结合附图描述根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器100。如图1-图8示，根据本技术实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器100，包括：储液罐1、喷雾管座2以及喷雾组件3。具体而言，喷雾管座2设在储液罐1上，喷雾管座2上设有进液接头21以向储液罐1内注入液体。例如，通过进液接头21可以向储液罐1内输送去离子水等。喷雾组件3与喷雾管座2相连，喷雾组件3包括：喷液吸管31和二流体喷雾头32。喷液吸管31的一端与储液罐1连通。例如，喷液吸管31的一端可以向下伸入储液罐1内，图4中示出了喷液吸管31的部分结构。二流体喷雾头32设在喷液吸管31的另一端，通过二流体喷雾头32可以将储液罐1内的液体雾化喷出。其中，二流体喷雾头32的位置可以灵活设置，从而能够有效本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种CMP设备腔室保湿用喷雾器，其特征在于，包括：储液罐；喷雾管座，所述喷雾管座设在所述储液罐上，所述喷雾管座上设有进液接头以向所述储液罐内注入液体；喷雾组件，所述喷雾组件与所述喷雾管座相连，所述喷雾组件包括：喷液吸管，所述喷液吸管的一端与所述储液罐连通；二流体喷雾头，所述二流体喷雾头设在所述喷液吸管的另一端以将所述储液罐内的液体雾化喷出。

【技术特征摘要】
1.一种CMP设备腔室保湿用喷雾器，其特征在于，包括：储液罐；喷雾管座，所述喷雾管座设在所述储液罐上，所述喷雾管座上设有进液接头以向所述储液罐内注入液体；喷雾组件，所述喷雾组件与所述喷雾管座相连，所述喷雾组件包括：喷液吸管，所述喷液吸管的一端与所述储液罐连通；二流体喷雾头，所述二流体喷雾头设在所述喷液吸管的另一端以将所述储液罐内的液体雾化喷出。2.根据权利要求1所述的CMP设备腔室保湿用喷雾器，其特征在于，所述喷雾组件还包括：活动空心软管，所述喷液吸管的至少一部分位于所述活动空心软管内，所述活动空心软管的一端与所述喷雾管座相连且另一端与所述二流体喷雾头相连。3.根据权利要求2所述的CMP设备腔室保湿用喷雾器，其特征在于，所述喷雾组件包括至少两个，所述至少两个喷雾组件在所述喷雾管座上间隔布置。4.根据权利要求1-3中任一项所述的CMP设备腔室保湿用喷雾器，其特征在于，所述二流体喷雾头包括：喷雾座，所述喷雾座的中部形成有中心通孔；进气接头，所述进气接头通过所述喷雾座上的第一安装位与所述喷雾座相连；软管接头，所述软管接头通过所述喷雾座上的第二安装位与所述喷雾座相连；喷雾帽，所述喷雾帽通过所述喷雾座上的第三安装位与所述喷雾座相连，所述喷雾帽具有与所述中心通孔同轴设置的喷孔。5.根据权利要求4所述的CMP设备腔室保湿...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾弘源，董兵超，许振杰，姚宇，尹士龙，崔凯，王同庆，李昆，路新春，
申请(专利权)人：清华大学，天津华海清科机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11