The invention discloses a face detection method and a device for attendance, including obtaining images of two bands in the visible and infrared light range, extracting and sampling the image of the face region, and judging the attendance status by comparing the reference ratio of the facial brightness and the individual ratio. The embodiment of the invention can help to determine whether the real face is more accurately.
【技术实现步骤摘要】
用于考勤的面部检测方法和装置
本专利技术关于人脸识别的领域,更具体地关于用于考勤的面部检测方法和装置。
技术介绍
通过人脸识别方法进行考勤是近期出现的新考勤方法,有别于传统的密码考勤、指纹考勤、GPS定位考勤等可以提供更为准确的是否出勤的判断。人脸识别考勤通过图像识别技术判断在工位上出现的人脸是否为预先登记在册的员工的脸,从而可以在不占用员工个人时间用于各自分别签到打卡的情况下,从办公室中安装的摄像机所捕捉的图像准确且快速地判断全体员工中是否有员工出现了迟到早退等情况。但由于人脸识别方法多是基于摄像机所捕捉的图像的视觉特征与人脸特征模板进行比较来完成识别,即使员工特地使用打印出的照片或者平板电脑上显示的照片来进行考勤,仍然会被判断为考勤通过,这就造成了考勤状态判断的一大漏洞。该漏洞为人脸识别方法的固有缺陷,需要一种新机制来在不占用员工额外时间的前提下正确识别工位上是考勤人员还是打印出的照片。
技术实现思路
本专利技术的目的之一是克服现有技术中的上述问题,并提供一种能将真正的人脸与照片、面具等区分开的更准确的考勤系统。本专利技术公开了一种用于考勤的面部检测方法,其包括对固定区域分别在645纳米至655纳米的第一波长范围和1060纳米至1070纳米的第二波长范围进行成像以得到第一图像和第二图像,对于第一图像和第二图像进行面部区域提取以得到第一面部区域分布图和第二面部区域分布图,分别提取第一面部区域分布图和第二面部区域分布图中每个面部的相同位置的多个采样点的亮度以计算每个面部的多个采样点亮度的第一平均亮度和第二平均亮度,计算所有面部的第一平均亮度之和与第二平均亮度之 ...
【技术保护点】
1.一种用于考勤的面部检测方法,其特征在于包括:对一固定区域分别在645纳米至655纳米的第一波长范围和1060纳米至1070纳米的第二波长范围进行成像以得到第一图像和第二图像;对于所述第一图像和第二图像进行面部区域提取以得到第一面部区域分布图和第二面部区域分布图;分别提取所述第一面部区域分布图和第二面部区域分布图中每个面部的相同位置的多个采样点的亮度以计算每个面部的多个采样点亮度的第一平均亮度和第二平均亮度;计算所有面部的第一平均亮度之和与第二平均亮度之和的基准比值;计算每个面部的第一平均亮度与第二平均亮度的个别比值;以及通过将每个面部的所述个别比值与所述基准比值对比来确认面部所对应的人员的考勤状态。
【技术特征摘要】
1.一种用于考勤的面部检测方法,其特征在于包括:对一固定区域分别在645纳米至655纳米的第一波长范围和1060纳米至1070纳米的第二波长范围进行成像以得到第一图像和第二图像;对于所述第一图像和第二图像进行面部区域提取以得到第一面部区域分布图和第二面部区域分布图;分别提取所述第一面部区域分布图和第二面部区域分布图中每个面部的相同位置的多个采样点的亮度以计算每个面部的多个采样点亮度的第一平均亮度和第二平均亮度;计算所有面部的第一平均亮度之和与第二平均亮度之和的基准比值;计算每个面部的第一平均亮度与第二平均亮度的个别比值;以及通过将每个面部的所述个别比值与所述基准比值对比来确认面部所对应的人员的考勤状态。2.权利要求1所述的方法,其特征在于还包括构建包括每个面部的个别比值与基准比值的差值图像,计算所述差值图像中每个面部差值的平均值和标准差,并将差值与所述平均值差别的绝对值为所述标准差两倍以上的面部所对应的人员的考勤状态判断为未出勤。3.权利要求1所述的方法,其特征在于如果面部的个别比值为所述基准比值的两倍以上,则将该面部所对应的人员的考勤状态判断为未出勤。4.权利要求1所述的方法,其特征在于其中每个面部的所述多个采样点包括三个成等边三角形的采样点。5.权利要求1所述的方法,其特征在于其中每个面部的所述多个采样点包括四个成正方形的采样点。6.一种用于考勤的面部检测装置,其特征在于包括使645纳米至655纳米的第一...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨建军,
申请(专利权)人:安徽质在智能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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