光阻涂布工艺与载料装置制造方法及图纸

一种光阻涂布工艺以及载料装置，其中，光阻涂布工艺包括：提供一载料台，并将待涂布光阻的衬底置于所述载料台上；将磁性光阻材料涂布在所述衬底上；以及在所述衬底的一侧产生磁场，所述磁性光阻材料在所述磁场的作用下分离为导电层与光阻层。采用该光阻涂布工艺与载料装置，能够减少光阻涂布制程的工序，提高效率，降低制造成本。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】PCT国内申请，说明书已公开。

【技术保护点】
PCT国内申请，权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】PCT国内申请，...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐顺龙，
申请(专利权)人：深圳市柔宇科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44