电子设备壳体及其制备方法以及电子设备技术

本发明专利技术提供了电子设备壳体及其制备方法以及电子设备。其中，电子设备壳体包括：基材，所述基材包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材的上表面上具有凹槽，所述凹槽构成第一图案；阳极氧化膜层，所述阳极氧化膜层覆盖所述基材的外表面；镀膜图案，所述镀膜图案设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层，所述光学膜层设置在所述阳极氧化膜层的上表面上，且覆盖所述镀膜图案。发明专利技术人发现，该电子设备壳体所呈现出的图案比较立体，图案比较多样化，具有金属质感，且可以实现幻彩效果，外观效果丰富，美观好看，可以满足消费者的消费体验。

【技术实现步骤摘要】
电子设备壳体及其制备方法以及电子设备
本专利技术涉及电子设备
，具体的，涉及电子设备壳体及其制备方法以及电子设备。
技术介绍
目前，针对电子设备外壳的表面处理工艺比较单一，使得其外观效果相对有限且同质化严重，多数为单一的雾面或者亮面效果，容易引起消费者的审美疲劳。随着用户对电子设备外壳的表面效果多样化的追求，目前的电子设备外壳已无法满足消费者的需求。因而，目前的电子设备外壳仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种电子设备壳体，其具有立体效果的多层图案、图案叠加之后视觉冲击较强、图案丰富、色彩多变或者可以实现幻彩效果。在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种电子设备壳体。根据本专利技术的实施例，该电子设备壳体包括：基材，所述基材包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材的上表面上具有凹槽，所述凹槽构成第一图案；阳极氧化膜层，所述阳极氧化膜层覆盖所述基材的外表面；镀膜图案，所述镀膜图案设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层，所述光学膜层设置在所述阳极氧化膜层的上表面上，且覆盖所述镀膜图案。专利技术人发现，该电子设备壳体所呈现出的图案比较立体，具备多层图案且图案比较多样化，多层图案叠加之后对消费者的视觉冲击较强，具有金属质感，且可以实现幻彩效果，外观效果丰富，美观好看，可以满足消费者的消费体验。在本专利技术的另一方面，本专利技术提供了一种电子设备。根据本专利技术的实施例，该电子设备包括前面所述的电子设备壳体。由此，该电子设备具备前面所述的电子设备壳体的所有特征和优点，且该电子设备具备较强的市场竞争力。在本专利技术的另一方面，本专利技术提供了一种制备前面所述的电子设备壳体的方法。根据本专利技术的实施例，该方法包括：在基材的上表面形成凹槽，所述凹槽构成第一图案；对所述基材进行阳极氧化处理，以在所述基材的外表面形成阳极氧化膜层；在所述阳极氧化膜层的上表面依次形成镀膜图案和光学膜层，所述光学膜层覆盖所述镀膜图案。由此，操作简单、方便，易于实现，且制备得到的电子设备壳体具备前面所述的所有特质和优点，在此不再过多赘述。附图说明图1是本专利技术一个实施例中电子设备外壳的结构示意图。图2是本专利技术一个实施例中第一图案的示意图。图3是本专利技术另一个实施例中第一图案的示意图。图4是本专利技术另一个实施例中电子设备外壳的结构示意图。图5是本专利技术一个实施例中光学膜层的结构示意图。图6是本专利技术另一个实施例中电子设备外壳的结构示意图。图7是本专利技术一个实施例中制备电子设备外壳的方法流程示意图。图8是本专利技术一个实施例中电子设备的结构示意图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种电子设备壳体。根据本专利技术的实施例，参照图1，该电子设备壳体包括：基材100，所述基材100包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材100的上表面上具有凹槽110，所述凹槽110构成第一图案；阳极氧化膜层200，所述阳极氧化膜层200覆盖所述基材100的外表面；镀膜图案300，所述镀膜图案300设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层400，所述光学膜层400设置在所述阳极氧化膜层300的上表面上，且覆盖所述镀膜图案300。专利技术人发现，该电子设备壳体所呈现出的图案比较立体，具备多层图案且图案比较多样化，多层图案叠加之后对消费者的视觉冲击较强，具有金属质感，且可以实现幻彩效果，外观效果丰富，美观好看，可以满足消费者的消费体验。需要说明的是，上述上表面是指使用时朝向用户的表面，即采用该壳体的电子设备的外表面。根据本专利技术的实施例，所述凹槽的深度不均匀设置，凹槽在其延伸的方向上的形状可以为长条形、Z字型、弓字形或者S形等，凹槽在其延伸的方向上其深度可以为逐渐变浅或者逐渐变深设置，也可以为先变浅后变深设置等，由此，凹槽可以呈现出渐变的效果，外观效果比较丰富、美观。根据本专利技术的实施例，凹槽构成第一图案的是指以在电子设备壳体上方的视角从上往下观察时看到的凹槽的形状，具体的，凹槽形成的第一图案的形状包括渐变图案，例如可以包括但不限于渐变点、渐变线或者光栅图案等，其中，“渐变点”是指渐变纹理呈点状，其大小或分布密度逐渐发生变化；“渐变线”是指渐变纹理呈线状，线的粗细或分布密度逐渐发生变化。其中，渐变点的具体大小和密度分布没有限制要求，对渐变点的具体形状也不作限制要求，也就是说，所述点状可以为圆形、三角形或四边形等规则多边形或不规则多边形，也可以为五角星等纹理图案，本领域技术人员可以根据实际纹理图案的需求灵活设计，在此不作限制要求，在一些实施例中，渐变点的纹理示意图可参照图2(以圆形为例)中的(a)、(b)和(c)，其中，图2中的(a)和(b)是改变圆形的大小，图2中的(c)是改变圆形的分布密度；渐变线的具体形状(弯曲或直线)和粗细也没有限制要求，本领域技术人员根据实际纹理图案的需求灵活选择即可，在本专利技术的一些实施例中，渐变线的纹理示意图可参照图3(以直线为例，图3中的(a)的线条的粗细逐渐发生变化，图3中的(b)的线条的分布密度逐渐发生变化，图3中的(c)是改变同一条线的粗细)，其中线与线之间的距离没有限制要求，本领域技术人员可以根据实际需求灵活设计。由此，第一图案变化多样，形状美观好看，极易受到消费者的喜爱，有利于提高电子设备外壳的市场竞争力。根据本专利技术的实施例，所述阳极氧化膜层的厚度为5-8微米。由此，阳极氧化膜层的厚度较为合适，当光线照射在阳极氧化膜层上时可以使得光线产生色散，进而形成七彩幻彩效果，色彩绚丽，美观好看。相对于上述厚度范围，当阳极氧化膜层的厚度过薄时，则阳极氧化膜层对光线的色散效果相对不佳，外观效果相对不佳；当阳极氧化膜层的厚度过厚时，则会使得电子设备壳体的厚度较厚，且外观相对不美观。根据本专利技术的实施例，阳极氧化膜层的颜色可以根据实际需求进行合理设置。在本专利技术的一些实施例中，阳极氧化膜层的至少一部分具有渐变颜色，例如可以是不同颜色的排列形成的渐变颜色，也可以是同一种颜色深浅的变化实现的渐变颜色。由此，电子设备壳体的外观美观好看，具有较强的市场竞争力。根据本专利技术的实施例，阳极氧化膜层也具备渐变图案，且渐变图案的具体形状可以与前面第一图案的形状一致。由此，电子设备壳体的外观效果更加美观好看。根据本专利技术的实施例，所述镀膜图案包括渐变图案，且所述渐变图案的具体形状可以参照前面所述的渐变图案的具体形状，在此不再过多赘述。由此，镀膜层的外观效果较佳，且镀膜层与阳极氧化膜层的外观效果叠加之后对消费者具有强烈的视觉冲击，立体感更强，使得电子设备外壳美观好看且具备较强的市场竞争力。根据本专利技术的实施例，形成镀膜层的材料包括铟、铝和铟锡合金中的至少之一。由此，材料来源广泛，且可使得镀膜层具备亮银色的外观，金属质感较强，美观好看。根据本专利技术的实施例，镀膜层的厚度为1-3微米。由此，镀膜层具备较强的立体感，极易与阳极氧化膜层形成叠加的效果，对消费者的视觉冲击较强。而相对于上述厚度范围，当本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子设备壳体，其特征在于，包括：基材，所述基材包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材的上表面上具有凹槽，所述凹槽构成第一图案；阳极氧化膜层，所述阳极氧化膜层覆盖所述基材的外表面；镀膜图案，所述镀膜图案设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层，所述光学膜层设置在所述阳极氧化膜层的上表面上，且覆盖所述镀膜图案。

【技术特征摘要】
1.一种电子设备壳体，其特征在于，包括：基材，所述基材包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材的上表面上具有凹槽，所述凹槽构成第一图案；阳极氧化膜层，所述阳极氧化膜层覆盖所述基材的外表面；镀膜图案，所述镀膜图案设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层，所述光学膜层设置在所述阳极氧化膜层的上表面上，且覆盖所述镀膜图案。2.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，还包括第一透明层和第二透明层中的至少一种，其中，所述第一透明层设置在所述镀膜图案和所述光学膜层之间，所述第二透明层设置在所述光学膜层的上表面上。3.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述第一图案和所述镀膜图案各自独立的包括渐变图案。4.根据权利要求1或3所述的电子设备壳体，其特征在于，所述凹槽的深度不均匀设置。5.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述阳极氧化膜层满足以下条件的至少一种：厚度为5-8微米；至少一部分具有渐变颜色。6.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述镀膜图案满足以下条件的至少一种：厚度为1-3微米；形成材料包括铟、铝和铟锡合金中的至少之一。7.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述光学膜层满足以下条件的至少一种：厚度在200-400纳米之间；厚度不均匀设置；包括多个自子膜层，且所述多个子膜层的折射率不完全相同。8.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的电子设备壳体。...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈颖，杨光明，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44