本发明专利技术涉及调色剂。提供具有良好的显影耐久性、贮存稳定性、环境稳定性和低温定影性的调色剂。所述调色剂含有各自包括包含有机硅聚合物的表面层的调色剂颗粒。所述有机硅聚合物含有特定单元。在通过调色剂颗粒的THF不溶成分的29Si‑NMR测量得到的图中，归属于特定结构的峰面积与有机硅聚合物的总峰面积之比为0.40以上。
【技术实现步骤摘要】
调色剂本申请是申请日为2013年12月27日、申请号为201310741658.3、专利技术名称为“调色剂”的中国专利申请的分案申请。
本专利技术涉及用于图像形成方法如电子照相法和静电印刷法中使静电潜像显影的调色剂。
技术介绍
随着计算机和多媒体越来越先进，对显影方式的需求出现增加，以输出满足家庭和办公室的各种需求的高清晰度全色图像。在进行大批量复印和打印输出的办公室中，期望图像形成设备具有高的耐久性，从而甚至当进行大量的复印和打印输出时也抑制图像品质的劣化。与此相反，在小型办公室和家庭中，期望图像形成设备能够产生高品质的图像，并且期望较小以节省空间和能耗并降低重量。为了满足这些需求，期望其中所用的调色剂具有改进的性能，如环境稳定性、低温定影性、显影耐久性、贮存稳定性和较低的装置的污染部件的倾向(在下文中，将这种倾向称为“非污染性质”)。特别地，全色图像通过叠加彩色调色剂形成。除非所有的彩色调色剂同等地显影，否则颜色再现性变差，并且产生颜色不均匀。如果用作调色剂的着色剂的颜料或染料在调色剂颗粒的表面上析出，则显影性能受到影响并且可能导致颜色不均匀。在形成全色图像时，在定影期间的定影性和混色性很重要。例如，为了实现高速图像形成，选择适用于低温定影的粘结剂树脂。这样的粘结剂树脂对显影性能和耐久性的影响也较大。此外，还需要配置成输出高清晰度的全色图像和在涉及宽范围的温度和湿度的各种环境中长期使用的装置、机构等。为了满足这样的需要，期望解决一些挑战，如抑制调色剂的表面性质的变化和由操作环境变化引起的调色剂的带电量的变化，并尽量减少如显影辊、充电辊、调节刮板和感光鼓等部件的污染。在这方面，热切期待开发尽管长期贮存在各种各样的环境中仍显示稳定的带电性并具有不引起部件污染的稳定的显影耐久性的调色剂。由于温度和湿度导致调色剂的带电量和贮存稳定性变化的原因之一是称为渗出的现象，在所述现象中调色剂中的脱模剂和树脂成分从调色剂颗粒的内部渗出到调色剂颗粒的表面，从而改变调色剂的表面性质。解决这一难题的一种方法是用树脂覆盖调色剂颗粒的表面。日本专利特开2006-146056公开了具有良好的高温贮存稳定性并且当在常温常湿的环境中或高温高湿的环境中进行印刷时表现出良好的印刷耐久性的调色剂。该调色剂包括牢固地固着到调色剂颗粒表面的无机细颗粒。然而，即使无机细颗粒牢固地固着到调色剂颗粒，仍发生脱模剂和树脂组分通过无机细颗粒之间的间隙渗出，并且由于耐久性劣化导致无机细颗粒可能剥离。因此，期望进一步改进在严酷的环境中的耐久性，并期望解决部件污染的问题。日本专利特开03-089361公开了一种生产聚合调色剂的方法，其中将硅烷偶联剂添加到反应体系中，以尽量防止着色剂和极性物质露出调色剂颗粒表面，并获得具有窄的带电量分布和具有非常低的带电量对湿度的依赖性的调色剂。然而，按照这种方法，调色剂颗粒表面上的硅烷化合物的析出量和水解缩聚是不充分的。期望进一步改善环境稳定性和显影耐久性。日本专利特开09-179341公开了一种在表面部分上含有以连续薄膜形式的硅化合物的聚合调色剂。用该调色剂，可以控制带电量，并且无论环境中的温度和湿度都可以打印高品质的图像。然而，有机官能团的极性高，调色剂颗粒表面上硅烷化合物的水解缩聚和析出量不足，并且交联度低。因此，期望进一步改进由于在高温高湿环境中带电量的变化引起的耐久性劣化和图像浓度变化所造成的部件的污染。日本专利特开2001-75304公开了改进流动性、低温定影性和结块性(blockingproperty)并且抑制流动化剂的剥离的调色剂。该调色剂是聚合调色剂，其包括其中含有硅化合物的粒状块体彼此固着的涂层。然而，通过含有硅化合物的粒状块体之间的间隙发生脱模剂和树脂成分的渗出。由于水解缩聚不足和在调色剂颗粒表面上的硅烷化合物析出量不足导致的在高温高湿环境中带电性的变化，使得图像浓度变化。此外，部件被调色剂熔着污染。期望解决这些问题并进一步改进贮存稳定性。
技术实现思路
本专利技术提供能够解决上述挑战的调色剂。特别地，本专利技术提供具有良好的显影耐久性、贮存稳定性、环境稳定性和低温定影性的调色剂。本专利技术的专利技术人已经进行了广泛的研究，并基于该发现进行本专利技术。本专利技术提供一种调色剂，其包括调色剂颗粒，所述调色剂颗粒各自包括含有有机硅聚合物的表面层，所述有机硅聚合物包括由下式(1)或(2)表示的单元：(在式(2)中，L表示亚甲基、亚乙基或亚苯基)。在通过调色剂颗粒的THF不溶成分的29Si-NMR测量得到的图中，归属于由下式(Q3)表示的结构的峰面积与有机硅聚合物的总峰面积的比率SQ3满足以下数学式(3)：RF-SiO3/2(Q3)(在式(Q3)中，RF表示由以下式(i)至(iv)表示的结构之一：CH2＝CH-*(i)CH2＝CH-L-*(ii)(在式(i)至(iv)中，*表示键合到硅原子的键合部。在式(ii)和(iv)中，L独立地表示亚甲基、亚乙基或者亚苯基))，并且SQ3≥0.40(3)。参照附图本专利技术进一步的特征从以下示例性实施方案的说明将变得显而易见。附图说明图1是显示用TEM观察的调色剂颗粒的截面图像的一个例子的图。图2是通过调色剂颗粒的29Si-NMR测量并包括以下部分的图：表示通过从测量结果(d)减去合成峰(b)得到的合成峰差的部分(a)，表示其中将分离的峰合成的合成峰的部分(b)，表示通过分离合成峰得到的分离峰的部分(c)，和表示测量结果的峰的部分(d)。图3是显示根据用差示扫描量热计(DSC)测量的本专利技术实施方案的调色剂的可逆热流曲线的图。图4是在实施例中使用的图像形成设备的示意图。具体实施方式现在将详细描述本专利技术。根据本专利技术的一个实施方案的调色剂包括各自包括含有机硅聚合物的表面层的调色剂颗粒。有机硅聚合物含有由下式(1)或(2)所示的单元：(在式(2)中，L表示亚甲基、亚乙基或亚苯基。)在通过调色剂颗粒的THF不溶成分的29Si-NMR测量得到的图中，归属于由下式(Q3)表示的结构的峰面积与有机硅聚合物的总峰面积的比率SQ3满足以下数学式(3)：RF-SiO3/2(Q3)(在式(Q3)中，RF表示由以下式(i)至(iv)表示的结构之一：CH2＝CH-*(ii)CH2＝CH-L-*(ii)(在式(i)至(iv)中，*表示键合到硅原子的键合部。在式(ii)和(iv)中，L独立地表示亚甲基、亚乙基或者亚苯基)SQ3≥0.40(3)有机硅聚合物由于调色剂颗粒具有含具有由上式(1)或(2)所示的单元的有机硅聚合物的表面层，所以调色剂颗粒的表面的疏水性可以得到改善，并且可以获得具有良好的环境稳定性的调色剂。在由式(1)或(2)所示的单元中的有机结构对硅原子显示高的结合能。因此，具有含此类有机硅聚合物的表面层的调色剂颗粒可以显示良好的显影耐久性。在通过调色剂颗粒的THF不溶成分的29Si-NMR测量得到的图中，当归属于由下式(Q3)表示的结构的峰面积与有机硅聚合物的总峰面积的比率SQ3满足以下数学式(3)时，可以降低调色剂颗粒的表面的表面自由能，因此可以提高环境稳定性：RF-SiO3/2(Q3)(在式(Q3)中，RF表示由以下式(i)至(iv)表示的结构之一(下文将这种结构称为“Q3结构”)CH2＝CH-*(i)CH2＝CH-本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种调色剂，其特征在于，其包含：各自包括含有有机硅聚合物的表面层的调色剂颗粒，所述有机硅聚合物包括由下式(1)或(2)表示的单元：
【技术特征摘要】
2012.12.28 JP 2012-2882271.一种调色剂，其特征在于，其包含：各自包括含有有机硅聚合物的表面层的调色剂颗粒，所述有机硅聚合物包括由下式(1)或(2)表示的单元：在式(2)中，L表示亚甲基、亚乙基或亚苯基，其中，在通过对所述调色剂颗粒的THF不溶成分进行的29Si-NMR测量得到的图中，归属于由下式(Q3)表示的结构的峰面积与所述有机硅聚合物的总峰面积的比率SQ3满足以下数学式(3)：RF-SiO3/2(Q3)在式(Q3)中，RF表示由下式(i)至(iv)表示的结构之一：CH2＝CH-*(i)CH2＝CH-L-*(ii)在式(i)至(iv)中，*表示键合到硅原子的键合部，在式(ii)和(iv)中，L独立地表示亚甲基、亚乙基或者亚苯基，和SQ3≥0.40(3)，其中相对于在所述调色剂颗粒的表面上进行的光电子能谱法测定的硅浓度dSi、氧浓度dO和碳浓度dC的总和即dSi+dO+dC，在所述调色剂颗粒的表面的调色剂的硅浓度dSi为2.5原子％以上。2.根据权利要求1所述的调色剂，其中在通过对所述调色剂颗粒的THF不溶成分进行的29Si-NMR测量得到的图中，所述比率SQ3和归属于由下式(Q2)表示的结构的峰面积与所述有机硅聚合物的总峰面积的比率SQ2满足以下数学式(4)：在式(Q2)中，RG和RH各自独立地表示选自由上述式(i)至(iv)表示的结构的至少一种，和(SQ3/SQ2)≥1.00(4)。3.根据权利要求1或2所述的调色剂，其中所述有机硅聚合物通过将含有由下式(Z)表示的化合物的可聚合单体聚合而获得：在式(Z)中，R1表示由式(i)或(ⅱ)表示的结构，并且R2、R3和R4各自独立地表示卤...
【专利技术属性】
技术研发人员：阿部浩次，矶野直也，桂大侍，照井雄平，野中克之，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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