压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片技术

本发明专利技术提供一种压延铜遮光圈片制备方法，所述方法包括如下步骤：提供已成型的由压延铜材料制成的遮光圈片；对遮光圈片进行除油处理；对遮光圈片进行抛光处理；对遮光圈片进行电镀处理，使遮光圈片表面电镀一层铜瘤层增加遮光圈片表面的粗糙度；对遮光圈片进行活化处理；对遮光圈片进行黑化处理，以改变遮光圈片表面的色泽；对遮光圈片进行干燥处理，得到压延铜遮光圈片的成品。本发明专利技术还提供一种压延铜遮光圈片。本发明专利技术提供的压延铜遮光圈片制备方法步骤简单、可实施性强，制得的压延铜遮光圈片的哑黑结构稳定、不易脱落，而且本发明专利技术的压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片还具有容易黑化、工艺简单、黑化后反射率低的特点。

【技术实现步骤摘要】
压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片
本专利技术涉及摄像
，尤其涉及一种压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片。
技术介绍
随着科学技术的快速发展，数码照相机和带数码照相机的手机迅速普及，这些光学仪器所使用的光学零件逐渐得到改进。遮光圈片是光学系统中用于调控光通量的光学元件，外界光线进入镜头时，经由在镜片之间设置的遮光圈片可阻挡不需要的光线进入，来防止在摄像图像中产生耀斑或重影。相关技术中，遮光圈片采用日本SOMA遮光材料制成，该种材料为双哑黑的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PolyethyleneterepHthalate，PET)，而该材料制成的遮光圈片存在不易导电、不耐高温等缺陷，而且遮光圈片表面的哑光结构容易老化脱落，影响遮光性能。因此，有必要提供一种新的压延铜遮光圈片制备方法及压延铜遮光圈片。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种步骤简单、可实施性强的压延铜遮光圈片制备方法及一种性能稳定的压延铜遮光圈片。为了达到上述目的，本专利技术提供一种压延铜遮光圈片制备方法，所述方法包括如下步骤：提供已成型的遮光圈片，所述遮光圈片由压延铜材料制成；对所述遮光圈片进行除油处理，以去除所述遮光圈片表面附着的轧制油膜；使用抛光液对经过除油处理的所述遮光圈片进行抛光处理，以去除所述遮光圈片表面的凹凸结构；将经过抛光处理的所述遮光圈片置于电镀液中进行电镀处理，以在所述遮光圈片表面附着一层铜瘤层增加所述遮光圈片表面的粗糙度，其中，所述电镀处理的温度为20～50℃，时间为30秒～5分钟，电流密度为0.5～3.5A/dm2，所述电镀液的pH值9～12，所述电镀液包括如下组分：五水硫酸铜、硫酸锌、酒石酸钾钠和柠檬酸钠，所述五水硫酸铜的含量为2.5～25g/L，所述硫酸锌与所述五水硫酸铜与的质量浓度之比为(1～10)：1，所述酒石酸钾钠的含量为50～200g/L，所述柠檬酸钾钠的含量为10～30g/L；使用活化剂对经过电镀处理的所述遮光圈片进行活化处理，以增加所述遮光圈片表面的活性；使用黑化液对活化后的所述遮光圈片进行黑化处理，以改变所述遮光圈片表面的色泽；在小于200℃的真空条件下对经过黑化处理的所述遮光圈片进行干燥处理，得到所述压延铜遮光圈片的成品。优选的，所述电镀处理中需要对所述电镀液进行空气搅拌。优选的，所述电镀处理之后需要将所述遮光圈片在小于150℃的真空条件下干燥10～30分钟。优选的，所述电镀处理之后还包括去合金处理，以去除所述遮光圈片表面附着的金属锌或者锌铜合金，所述去合金处理具体包括如下两种方法：(1)将所述遮光圈片置于一定浓度的硫酸或盐酸溶液中腐蚀1～48小时；(2)将所述遮光圈片置于电解液中进行电化学腐蚀，其中，所述电化学腐蚀的温度为20～50℃，时间为30秒～5分钟，电流密度为0.5～4A/dm2，所述电解液为氯化钠溶液。优选的，所述黑化处理的时间为5秒～20分钟，温度为50℃～100℃，所述黑化液由黑化剂与水按质量配比而成，黑化剂与水的质量比值范围为0.1～5，其中，所述黑化剂包括以质量百分比计的如下组分：85～95％的氢氧化钠、5～8％的过硫酸钾和2～7％的碳酸氢铵，以所述黑化剂总重百分百计。优选的，所述除油处理具体为：采用丙酮超声波清洗10～30分钟，乙醇超声波清洗20～60分钟。优选的，所述抛光液为铜质抛光液。优选的，所述活化剂由浓度为98％的浓硫酸与水按照1：3的质量比配置而成，所述活化处理的时间为10秒～10分钟。优选的，在相邻两步骤之间还包括水洗过程，所述水洗过程持续1～3遍。本专利技术还提供一种压延铜遮光圈片，所述压延铜遮光圈片采用所述压延铜遮光圈片制备方法制备而成。与相关技术相比，本专利技术提供的压延铜遮光圈片制备方法，采用压延铜材料制成遮光圈片，并经过除油、抛光、电镀、活化、黑化、干燥等流程，得到压延铜遮光圈片的成品，所述压延铜遮光圈片规避了相关技术中PET遮光圈片不易导电、不耐高温的缺点，具有易于黑化、反射率低的优点；同时压延铜遮光圈片表面通过附着铜瘤层增加了所述遮光圈片表面的粗糙度，使得哑黑结构稳定、不易脱落。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：图1为本专利技术提供的压延铜遮光圈片制备方法的流程图；图2a为本专利技术实施例一电镀处理后所得到的遮光圈片表面在电镜下放大1万倍的微观结构图；图2b为本专利技术实施例一所得到的压延铜遮光圈片表面在电镜下放大5万倍的微观结构图；图3a本专利技术实施例二电镀处理后所得到的遮光圈片表面在电镜下放大1万倍的微观结构图；图3b为本专利技术实施例二所得到的压延铜遮光圈片表面在电镜下放大5万倍的微观结构图；图4a为本专利技术实施例三电镀处理后所得到的遮光圈片表面在电镜下放大1万倍的微观结构图；图4b为本专利技术实施例三所得到的压延铜遮光圈片表面在电镜下放大5万倍的微观结构图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，本专利技术提供一种压延铜遮光圈片制备方法，其包括如下步骤：S1：提供已成型的遮光圈片，所述遮光圈片由压延铜材料制成。压延铜是用铜锭碾压，再经锻火、抗氧化、粗化处理等过程制作而成，压延铜厚度一般在5um～135um，分子之间连接紧密，具有柔性好，强度高，弯曲性、延展性、电镀性、导电性好，表面光泽优等特点；而且，压延铜箔具有低表面氧气特性，可以附着与各种不同基材，如金属，绝缘材料等，拥有较宽的温度使用范围。由压延铜材料制成的遮光圈片可以规避相关技术中PET材料遮光圈片不耐老化、易变形、不耐高温的缺点，同时具有尺寸稳定、容易黑化、工艺简单、黑化后反射率低的特点。所述遮光圈片需要进行水洗以清除表面附着的灰尘、杂质或颗粒性物质，所述水洗过程持续1～3遍，然后进行后续工序。S2：对所述遮光圈片进行除油处理，以去除所述遮光圈片表面附着的轧制油膜。由于压延铜其本身在生产轧制过程的固有特性，决定了其双表面附有较大量的轧制油膜，其双表面的含油量可达5mg/m2以上，严重影响了其产品出厂要求和其后续所需的化学和电化学表面处理工序的进行。由压延铜材料制成的遮光圈片需要对其表面的轧制油膜进行除油处理，以方便后续工序的进行。所述除油处理具体为：采用丙酮超声波清洗10～30分钟，乙醇超声波清洗20～60分钟。丙酮及乙醇均为环保型的有机溶剂，可以重复利用，而且除油效率高、效果好，辅以超声波可以加强清洗除油效果，不仅使除油清洗效率得以大幅提高，也使除油清洗时间大大缩短。除油处理完成后，需要对所述遮光圈片进行水洗1～3遍，以去除所述遮光圈片表面附着的丙酮/乙醇溶液。S3：使用抛光液对经过除油处理的所述遮光圈片进行抛光处理，以去除所述遮光圈片表面的凹凸结构。抛光处理可以使所述遮光圈表面平整、光亮。优选的，所述抛光液为铜质抛光液，采用现有市售的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种压延铜遮光圈片制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：提供已成型的遮光圈片，所述遮光圈片由压延铜材料制成；对所述遮光圈片进行除油处理，以去除所述遮光圈片表面附着的轧制油膜；使用抛光液对经过除油处理的所述遮光圈片进行抛光处理，以去除所述遮光圈片表面的凹凸结构；将经过抛光处理的所述遮光圈片置于电镀液中进行电镀处理，以在所述遮光圈片表面附着一层铜瘤层增加所述遮光圈片表面的粗糙度，其中，所述电镀处理的温度为20～50℃，时间为30秒～5分钟，电流密度为0.5～3.5A/dm2，所述电镀液的pH值9～12，所述电镀液包括如下组分：五水硫酸铜、硫酸锌、酒石酸钾钠和柠檬酸钠，所述五水硫酸铜的含量为2.5～25g/L，所述硫酸锌与所述五水硫酸铜与的质量浓度之比为(1～10)：1，所述酒石酸钾钠的含量为50～200g/L，所述柠檬酸钾钠的含量为10～30g/L；使用活化剂对经过电镀处理的所述遮光圈片进行活化处理，以增加所述遮光圈片表面的活性；使用黑化液对活化后的所述遮光圈片进行黑化处理，以改变所述遮光圈片表面的色泽；在小于200℃的真空条件下对经过黑化处理的所述遮光圈片进行干燥处理，得到所述压延铜遮光圈片的成品。...

【技术特征摘要】
1.一种压延铜遮光圈片制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：提供已成型的遮光圈片，所述遮光圈片由压延铜材料制成；对所述遮光圈片进行除油处理，以去除所述遮光圈片表面附着的轧制油膜；使用抛光液对经过除油处理的所述遮光圈片进行抛光处理，以去除所述遮光圈片表面的凹凸结构；将经过抛光处理的所述遮光圈片置于电镀液中进行电镀处理，以在所述遮光圈片表面附着一层铜瘤层增加所述遮光圈片表面的粗糙度，其中，所述电镀处理的温度为20～50℃，时间为30秒～5分钟，电流密度为0.5～3.5A/dm2，所述电镀液的pH值9～12，所述电镀液包括如下组分：五水硫酸铜、硫酸锌、酒石酸钾钠和柠檬酸钠，所述五水硫酸铜的含量为2.5～25g/L，所述硫酸锌与所述五水硫酸铜与的质量浓度之比为(1～10)：1，所述酒石酸钾钠的含量为50～200g/L，所述柠檬酸钾钠的含量为10～30g/L；使用活化剂对经过电镀处理的所述遮光圈片进行活化处理，以增加所述遮光圈片表面的活性；使用黑化液对活化后的所述遮光圈片进行黑化处理，以改变所述遮光圈片表面的色泽；在小于200℃的真空条件下对经过黑化处理的所述遮光圈片进行干燥处理，得到所述压延铜遮光圈片的成品。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述电镀处理中需要对所述电镀液进行空气搅拌。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述电镀处理之后需要将所述遮光圈片在小于150℃的真空条件下干燥10～30分钟。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍雷，
申请(专利权)人：瑞声科技新加坡有限公司，
类型：发明
国别省市：新加坡,SG