一种基材加工方法和目标基材、电子设备技术

本发明专利技术实施例提供了一种基材加工方法和目标基材、电子设备，所述方法包括：将初始基材固定于镀膜挂架上；其中，所述镀膜挂架位于镀炉内；调节所述镀炉内的真空度；当所述镀炉内真空度符合预设真空度时，在镀炉内通入氩气，以及，控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转；在接通预设频率的振荡电源的条件下，将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序沉积至所述初始基材，获得目标基材；本发明专利技术实施例的基材加工方法，不会对环境造成污染，在使用过程中，对移动终端的信号没有影响，提高通信的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种基材加工方法和目标基材、电子设备
本专利技术涉及镀膜
，特别是涉及一种基材加工方法和一种目标基材、一种电子设备。
技术介绍
随着消费类电子产品的日新月异，各品牌之间的电子产品竞争激烈，消费者对于消费类电子产品(如移动终端)的要求也越来越高，除了移动终端的硬件规格(例如处理器、屏幕尺寸与像素、网络制式、相机像素等)外，消费者也非常看重移动终端的外观设计。以移动终端的外置的透明保护壳为例，要做到明亮的彩色金属质感效果，目前常用的工艺有在透明保护壳上喷涂金属漆或真空金属镀膜等表面处理工艺，但市场同质化严重，缺乏新颖性。进一步地，经过喷涂金属漆工艺处理后的透明保护壳质感较普通，且处理过程会对环境造成污染；而经过真空镀金属膜工艺处理后的透明保护壳达不到明亮颜色的效果，且壳体在使用过程会对移动终端的信号产生干扰，有氧化发黑的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种基材的加工方法和一种目标基材、一种电子设备，而经过真空镀金属膜工艺处理后的保护壳在使用过程会对移动终端的信号产生干扰，有氧化发黑的上述问题。为了解决上述问题，本专利技术实施例公开了一种基材的加工方法，所述方法包括：将初始基材固定于镀膜挂架上；其中，所述镀膜挂架位于镀炉内；调节所述镀炉内的真空度；当所述镀炉内真空度符合预设真空度时，在镀炉内通入氩气，以及，控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转；在接通预设频率的振荡电源的条件下，将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序沉积至所述初始基材，获得目标基材。本专利技术实施例还公开了一种目标基材，包括：壳体层和/或PET膜层、交替叠加的多层低折射率膜层及多层高折射率膜层；所述壳体层和/或PET膜层、所述交替叠加的多层低折射率膜层及多层高折射率膜依次由上自下排列；其中，所述交替叠加的多层低折射率膜层及多层高折射率膜层由低折射率靶材及高折射率靶材在接通预设频率的振荡电源的条件下按照预设顺序沉积而成的。本专利技术实施例还公开了一种电子设备，包括上述的目标基材。本专利技术实施例包括以下优点：本专利技术实施例中，所述方法应用于镀膜设备，所述镀膜设备包括镀膜挂架及镀炉，所述方法包括：将初始基材固定于所述镀膜挂架上；其中，所述镀膜挂架位于所述镀炉内；调节所述镀炉内的真空度；当所述镀炉内真空度符合预设真空度时，在镀炉内通入氩气，以及，控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转；在接通预设频率的振荡电源的条件下，将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序沉积至所述初始基材，获得目标基材；本专利技术实施例的基材加工方法，不会对环境造成污染，在使用过程中，对移动终端的信号没有影响，提高通信的效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图；图1是本专利技术实施例的一种基材加工方法实施例一的步骤流程图；图2是本专利技术实施例的一种基材加工方法实施例二的步骤流程图；图3是本专利技术实施例的一种目标基材的结构框图；图4是本专利技术实施例的另一种目标基材的结构框图；图5是本专利技术实施例的另一种目标基材的结构框图；图6是本专利技术实施例的另一种目标基材的结构框图。具体实施方式为了使本专利技术实施例所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术实施例进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。参照图1，示出了本专利技术实施例的一种基材加工方法实施例一的步骤流程图，应用于镀膜设备，所述镀膜设备包括镀膜挂架及镀炉，具体可以包括如下步骤：步骤101，将初始基材固定于所述镀膜挂架上；其中，所述镀膜挂架位于所述镀炉内；本专利技术实施例中，所述基材加工方法可以应用于所述镀膜设备，所述镀膜设备可以包括镀膜挂架及镀炉，需要说明的是，所述镀膜挂架可以为圆盖形的挂架，其上包括旋转轴及圆盖；所述圆盖中具有设置有多条环形的水冷管；所述水冷管用于在沉积时针对所述初始基材进行冷却；能够有效地减少因镀膜时产生的热量而引起膜材料变形的缺陷，提高加工工艺效率。进一步地，镀膜设备首先可以将初始基材固定于所述镀膜挂架上，其中，所述初始基材包括膜材料和/或壳体材料；优选地，所述膜材料可以包括PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯，Polyethyleneterephthalate)膜层；所述壳体材料可以包括PC(Polycarbonate，聚碳酸酯)材质的壳体；进一步地，所述初始基材还可以同时由膜材料及壳体材料贴合而成；如将PET膜层覆盖于PC壳体之上组成初始基材。步骤102，调节所述镀炉内的真空度；实际应用到本专利技术实施例中，所述镀膜设备可以在初始基材固定于所述镀膜挂架之后，再行调节所述镀炉内的真空度；即针对所述镀炉进行抽真空操作，具体而言，所述镀膜设备可以采用真空泵或压缩机调节所述镀炉内的真空度，本专利技术实施例对此不作限制。步骤103，当所述镀炉内真空度符合预设真空度时，在镀炉内通入氩气，以及，控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转；进一步应用到本专利技术实施例中，当所述镀膜设备判定所述镀炉内真空度符合预设真空度时，则向镀炉内通入氩气，同时，所述镀膜设备控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转，镀膜挂架旋转时可以在一定程度上释放膜层的内在应力，使靶材形成的膜层与初始基材结合得更牢固，提高目标基材的使用性能。需要说明的是，所述预设真空度可以是本领域技术人员根据实际情况而设定的任何数值，如1×10-4Pa等，本专利技术实施例对此不作限制。具体应用到本专利技术实施例中，所述预设速率同样可以是本领域技术人员根据实际情况而设定的任何数值，如1转每分钟，或5转每分钟，或10转每分钟，本专利技术实施例对此不作限制。步骤104，在接通预设频率的振荡电源的条件下，将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序沉积至所述初始基材，获得目标基材。实际应用到本专利技术实施例中，当所述镀膜设备判定所述镀炉内真空度符合预设真空度，并向镀炉内通入氩气且所述镀膜挂架以预设速率开始旋转后，在接通预设频率的振荡电源的条件下，所述镀膜设备将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序依次沉积至所述初始基材，获得目标基材。具体地，所述预设频率的振荡电源可以为大于10MHz的超高频振荡电源，如20MHz或30MHz等，本专利技术实施例对此不作限制；进一步地，所述镀膜设备可以将高折射率靶材及低折射率靶材交替叠加地沉积至所述初始基材，电源频率越高，镀膜效率越高，膜层也越致密，膜层附着力更强，同时温度也更低；需要说明的是，所述高折射率靶材可以包括铟、锡、铝、镍等材料，本专利技术实施例对此不作限制，而所述低折射率靶材可以包括二氧化硅、二氧化钛等材料，本专利技术实施例对此不作过多的限制。需要说明的是，所述镀膜设备可以在初始基材的基础上先采用低折射率靶材沉积一层低折射率膜层，进一步地，在低折射率膜层的基础上采用高折射率靶材沉积一层高折射率膜层，如此交替叠加进行沉积，形成低折射率膜层与高折射率膜层交替分布的目标基材。本专利技术实施例中，所述方法应用于镀膜设备，所述镀膜设备包括镀膜挂架及镀炉，所述方法包括：将初始基材固定于所述镀膜挂架上；其中，所述镀膜挂架位于所述镀炉内；调节所述镀炉内的真空本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基材的加工方法，其特征在于，所述方法包括：将初始基材固定于镀膜挂架上；其中，所述镀膜挂架位于镀炉内；调节所述镀炉内的真空度；当所述镀炉内真空度符合预设真空度时，在镀炉内通入氩气，以及，控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转；在接通预设频率的振荡电源的条件下，将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序沉积至所述初始基材，获得目标基材。

【技术特征摘要】
1.一种基材的加工方法，其特征在于，所述方法包括：将初始基材固定于镀膜挂架上；其中，所述镀膜挂架位于镀炉内；调节所述镀炉内的真空度；当所述镀炉内真空度符合预设真空度时，在镀炉内通入氩气，以及，控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转；在接通预设频率的振荡电源的条件下，将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序沉积至所述初始基材，获得目标基材。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述初始基材包括膜材料和/或壳体材料。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述当所述镀炉内真空度符合预设真空度时，在镀炉内通入氩气，以及，控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转的步骤包括：当所述镀炉内真空度下降至1×10-4Pa时，在镀炉内通入氩气，以及，控制所述镀膜挂架以预设速率进行旋转；其中，所述预设速率为1至10转每分钟。4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述将初始基材固定于所述镀膜挂架上的步骤之前，还包括：针对所述初始基材进行纹理转印。5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述在接通预设频率的振荡电源的条件下，将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序沉积至所述初始基材，获得目标基材的步骤包括：在接通大于10MHz的超高频振荡电源的条件下，将高折射率靶材及低折射率靶材按照预设顺序沉积至所述初始基材，获得目标...

【专利技术属性】
技术研发人员：莫博宇，林四亮，
申请(专利权)人：维沃移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44