一种显示面板及其制作方法、工作方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种显示面板及其制作方法、工作方法和显示装置，其中，显示面板包括：衬底基板以及设置在衬底基板上的薄膜晶体管，薄膜晶体管包括：源漏电极和第一钝化层；其中，第一钝化层中设置有用于填充液晶分子的空间区域，源漏电极用于控制液晶分子的偏转。本发明专利技术实施例提供的技术方案将液晶分子填充在第一钝化层的空间区域中，无需对盒工艺，不仅能够简化制作工艺，保证液晶层在弯折过程中不易错位，而且还能够提高液晶显示装置的像素密度，从而达到较好的显示效果。

A display panel and its making method, working method and display device

The embodiment of the invention discloses a display panel and its manufacturing method, working method and display device, wherein the display panel comprises a substrate substrate and a thin film transistor arranged on the substrate substrate, and the thin film transistor comprises a source-drain electrode and a first passivation layer, wherein the first passivation layer is provided with a filling fluid. In the spatial region of the crystal molecule, the source drain electrode is used to control the deflection of the liquid crystal molecules. The technical scheme provided by the embodiment of the invention fills the liquid crystal molecule in the space area of the first passivation layer, does not need the box process, not only simplifies the manufacturing process, ensures that the liquid crystal layer is not easy to dislocate during the bending process, but also improves the pixel density of the liquid crystal display device, thereby achieving better display effect.

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制作方法、工作方法和显示装置
本专利技术实施例涉及显示
，具体涉及一种显示面板及其制作方法、工作方法和显示装置。
技术介绍
液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)是平板显示装置中的一种，液晶显示面板和背光模组是其中的重要部件，通过在液晶显示面板的一侧设置背光源，形成液晶显示装置，从而实现图像显示。其中，显示面板包括：阵列基板、彩膜基板以及设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，其具体通过将阵列基板与彩膜基板对盒形成。经专利技术人研究发现，现有的液晶显示装置不仅制作工艺复杂，液晶层在弯折过程中容易错位，而且像素密度较低，无法达到较好的显示效果。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种显示面板及其制作方法、工作方法和显示装置，不仅能够简化制作工艺，保证液晶层在弯折过程中不易错位，而且还能够提高液晶显示装置的像素密度，从而达到较好的显示效果。第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括：源漏电极和第一钝化层；其中，所述第一钝化层中设置有用于填充液晶分子的空间区域，所述源漏电极用于控制所述液晶分子的偏转。可选地，所述第一钝化层中还设置有用于向所述空间区域中填充液晶分子的灌晶孔。可选地，所述显示面板还包括：第二钝化层和平坦层；所述第二钝化层设置在所述第一钝化层远离所述衬底基板的一侧，用于密封所述灌晶孔；所述平坦层设置在所述第二钝化层远离所述衬底基板的一侧。可选地，所述显示面板还包括：彩色滤光片；所述彩色滤光片设置在所述平坦层远离所述衬底基板的一侧。可选地，所述显示面板还包括：第三钝化层；所述第三钝化层设置在所述彩色滤光片远离所述衬底基板的一侧，用于保护所述彩色滤光片。可选地，源漏电极之间的间距为10纳米～50微米，源漏电极的高度为10纳米～20微米。第二方面，本专利技术实施例还提供一种显示装置，包括：上述显示面板、背光模组、第一偏光片和第二偏光片。第三方面，本专利技术实施例还提供一种显示面板的制作方法，包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成包括源漏电极和第一钝化层的薄膜晶体管；其中，所述第一钝化层中设置有用于填充液晶分子的空间区域，所述源漏电极用于控制液晶分子的偏转。可选地，所述在衬底基板上形成包括源漏电极和第一钝化层的薄膜晶体管包括：在衬底基板上形成栅电极、有源层、绝缘层和源漏电极；在源漏电极上采用溅射工艺形成设置有用于填充液晶分子的空间区域的第一钝化层；在第一钝化层上形成用于向所述空间区域中填充所述液晶分子的灌晶孔；通过所述灌晶孔向所述空间区域填充液晶分子。可选地，所述在所述衬底基板上形成包括源漏电极和第一钝化层的薄膜晶体管之后，所述方法还包括：在第一钝化层上形成用于密封所述灌晶孔的第二钝化层；在所述第二钝化层上形成平坦层。可选地，所述在所述第二钝化层上形成平坦层之后，所述方法还包括：在平坦层上设置彩色滤光片。可选地，所述在平坦层上设置彩色滤光片之后，所述方法还包括：在彩色滤光片上设置用于保护所述彩色滤光片的第三钝化层。第四方面，本专利技术实施例还提供一种显示面板的工作方法，应用于上述显示面板中，包括：向所述源漏电极施加电压，使液晶分子发生偏转。本专利技术实施例提供一种显示面板及其制作方法、工作方法和显示装置，其中，显示面板包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括：源漏电极和第一钝化层；其中，所述第一钝化层中设置有用于填充液晶分子的空间区域，所述源漏电极用于控制所述液晶分子的偏转。本专利技术实施例提供的技术方案将液晶分子填充在第一钝化层的空间区域中，无需对盒工艺，不仅能够简化制作工艺，保证液晶层在弯折过程中不易错位，而且还能够提高液晶显示装置的像素密度，从而达到较好的显示效果。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明附图用来提供对本专利技术技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本专利技术的技术方案，并不构成对本专利技术技术方案的限制。图1为本专利技术实施例提供的显示面板的结构示意图一；图2为本专利技术实施例提供的显示面板的结构示意图二；图3为本专利技术实施例提供的显示面板的结构示意图三；图4为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的流程图；图5为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的示意图一；图6A为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的示意图二；图6B为图6A对应的俯视图；图7A为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的示意图三；图7B为图7A对应的俯视图；图8为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法的示意图四；图9为本专利技术实施例提供的显示装置的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本专利技术的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。除非另外定义，本专利技术实施例公开使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本专利技术实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述的对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。实施例一图1为本专利技术实施例提供的显示面板的结构示意图一，如图1所示，本专利技术实施例提供的显示面板，包括：衬底基板10以及设置在衬底基板10上的薄膜晶体管，薄膜晶体管包括：源漏电极14和第一钝化层15，其中，第一钝化层15中设置有用于填充液晶分子20的空间区域150，源漏电极14用于控制液晶分子20的偏转。可选地，衬底基板10的制作材料可以为玻璃、塑料、石英或聚酰亚胺等透明材料，本专利技术实施例对此不作任何限定。具体的，如图1所示，薄膜晶体管还包括：栅电极11、绝缘层12、有源层13，可选地，薄膜晶体管的结构可以为顶栅结构，还可以为底栅结构，需要说明的是，图1是以薄膜晶体管为底栅结构为例进行说明的，本专利技术实施例对此不作任何限定。可选地，第一钝化层15的制作材料可以为氧化硅和/或二氧化硅，本专利技术实施例对此不作任何限定。可选地，空间区域150可以设置在源漏电极之间，以使得源漏电极14用于控制液晶分子20的偏转。可选地，空间区域150的形状可以为方形、锥形或球形，具体根据实际需求确定，本专利技术实施例对此不作任何限定。可选地，源漏电极之间的间距w为10纳米～50微米，源漏电极的高度h为10纳米～20微米。本专利技术实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括：源漏电极和第一钝化层；其中，所述第一钝化层中设置有用于填充液晶分子的空间区域，所述源漏电极用于控制所述液晶分子的偏转。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板以及设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括：源漏电极和第一钝化层；其中，所述第一钝化层中设置有用于填充液晶分子的空间区域，所述源漏电极用于控制所述液晶分子的偏转。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一钝化层中还设置有用于向所述空间区域中填充液晶分子的灌晶孔。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：第二钝化层和平坦层；所述第二钝化层设置在所述第一钝化层远离所述衬底基板的一侧，用于密封所述灌晶孔；所述平坦层设置在所述第二钝化层远离所述衬底基板的一侧。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：彩色滤光片；所述彩色滤光片设置在所述平坦层远离所述衬底基板的一侧。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：第三钝化层；所述第三钝化层设置在所述彩色滤光片远离所述衬底基板的一侧，用于保护所述彩色滤光片。6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，源漏电极之间的间距为10纳米～50微米，源漏电极的高度为10纳米～20微米。7.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1～6任一项所述的显示面板、背光模组、第一偏光片和第二偏光片。8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡合合，马啸尘，袁广才，宁策，谷新，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11