The utility model belongs to the manufacturing technical field of semiconductor devices and relates to a terminal structure with grooves, which comprises a collector metal for drawing out the collector and a first conductive type epitaxial layer located above the collector metal. A second conductive type well area and a package are arranged on the surface of the first conductive type epitaxial layer. A number of second conductive type field limiting rings surrounding the second conductive type well region are characterized in that a plurality of parallel grooves are arranged in the second conductive type well region, and a conductive polysilicon floating in the center region and a gate oxide layer encapsulating the conductive polysilicon are arranged in the groove region; the utility model passes through the gate oxide layer of the second conductive type well region. The groove structure is added in the well area to increase the potential at the main junction, reduce the number of field limiting rings, and then reduce the terminal width of the device. The utility model ensures the voltage-withstanding ability of the device, reduces the terminal area of the device, thereby reducing the area of the whole device, lowering the cost of the device and improving the performance-price ratio.
【技术实现步骤摘要】
一种带沟槽的终端结构
本技术涉及一种半导体器件的终端结构,具体是一种带沟槽的终端结构,属于半导体器件的制造
技术介绍
在功率半导体器件领域,终端的设计与器件的耐压及可靠性息息相关,终端承受的电压可分为横向电压与纵向电压,决定纵向电压的主要因素为器件外延层的厚度,决定横向电压的主要因素就是器件终端宽度,目前现有器件的终端结构均采用的是场限环结构的终端,如图2所示,以IGBT器件的终端结构为例,在所述集电极金属上设有第二导电类型外延层,在所述第二导电类型外延层上设有第一导电类型缓冲层,在所述第一导电类型缓冲层上设有第一导电类型外延层,在所述第一导电类型外延层表面设有一个第二导电类型阱区与若干个第二导电类型场限环,所述第二导电类型场限环位于终端结构的外围,并且包围着第二导电类型阱区,第二导电类型阱区边缘处的主结10处电势决定了器件终端结构的初始电势,初始电势越高,终端结构需要的场限环的个数就越少,终端结构的宽度就越窄,目前现有的终端结构的主结10处的电势较小,因此终端横向耐压基本都依赖于场限环,对于高压产品,必须增加场限环来提高耐压,大大增加了器件终端的面积,使得有源区面积减小,同时增加了生产成本,此外,这种终端结构靠近有源区的几个场限环的横向耐压效率偏低。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种带沟槽的终端结构,通过在阱区内增加沟槽结构来增大主结处的电势,减少场限环的数目,进而减少器件终端宽度,本技术在保证器件耐压能力的同时,减小了器件终端面积,进而减小了整个器件的面积,降低了器件制作成本,提高了性价比。为实现以上技术目的,本技术 ...
【技术保护点】
1.一种带沟槽的终端结构,包括用于引出集电极的集电极金属(1)及位于所述集电极金属(1)上方的第一导电类型外延层(4),在所述第一导电类型外延层(4)表面设有一个第二导电类型阱区(6)及包围所述第二导电类型阱区(6)的若干个第二导电类型场限环(5),其特征在于,在所述第二导电类型阱区(6)内设置若干个互相平行的沟槽(7),在所述沟槽(7)内设有位于中心区浮空的导电多晶硅(8)及包裹所述导电多晶硅(8)的栅氧层(9)。
【技术特征摘要】
1.一种带沟槽的终端结构,包括用于引出集电极的集电极金属(1)及位于所述集电极金属(1)上方的第一导电类型外延层(4),在所述第一导电类型外延层(4)表面设有一个第二导电类型阱区(6)及包围所述第二导电类型阱区(6)的若干个第二导电类型场限环(5),其特征在于,在所述第二导电类型阱区(6)内设置若干个互相平行的沟槽(7),在所述沟槽(7)内设有位于中心区浮空的导电多晶硅(8)及包裹所述导电多晶硅(8)的栅氧层(9)。2.根据权利要求1所述的一种带沟槽的终端结构,其特征在于,在所述第一导电类型外延层(4)上设有场氧层(13),在所述场氧层(13)上设有若干个场板(12),其中一个场板(12)可通过通孔与所述第二导电类型阱区(6)电连接,也可设置为浮空状态,剩余场板(12)可通过通孔与所述第二导电类型场限环(5)电连接,也可设置为浮空状态。3.根据权利要求1所述的一种带沟槽的终端结构,其特征在于,所述第二导电类型阱区(6)及第二导电类型场限环(5)均从所述第一导电类型外延层(4)表面延伸到其内部,且所述第二导电类型阱区(6)横跨器件的有源区(001)和终端区(0...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱袁正,周锦程,
申请(专利权)人:无锡新洁能股份有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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