一种掩膜板、阵列基板制造技术

本发明专利技术提供一种掩膜板及阵列基板，所述掩膜板包括遮光区域，所述遮光区域包括相互交叉的横向遮光条和纵向遮光条；其中，所述横向遮光条与所述纵向遮光条的交汇处设置有辅助遮光块，所述辅助遮光块由第一边、第二边以及第三边围合形成，所述第一边对应所述交汇处的部分所述横向遮光条的边界，所述第二边对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条的边界，所述第三边连接所述横向遮光条和所述纵向遮光条；所述辅助遮光块的所述第三边与所述第一边之间的夹角大于或小于45度，或者，所述辅助遮光块的所述第三边与所述第二边之间的夹角大于或小于45度。

A mask plate and array substrate

The invention provides a mask plate and an array substrate, the mask plate comprises a light-shielding area, the light-shielding area comprises a cross-sectional transverse light-shielding strip and a longitudinal light-shielding strip, wherein an auxiliary light-shielding block is arranged at the intersection of the transverse light-shielding strip and the longitudinal light-shielding strip, and the auxiliary light-shielding block is provided by the first side and the second side. The first side corresponds to the boundary of the transverse light-shielding bar at the intersection part, the second side corresponds to the boundary of the longitudinal light-shielding bar at the intersection part, the third side connects the transverse light-shielding bar and the longitudinal light-shielding bar, and the third side of the auxiliary light-shielding block corresponds to the boundary of the longitudinal light-shielding bar at the intersection part. The angle between the first side is greater than or less than 45 degrees, or the angle between the third side of the auxiliary shading block and the second side is greater or less than 45 degrees.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板、阵列基板
本专利技术涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种掩膜板及阵列基板。
技术介绍
对比度(contrastratio)是LCD显示品质的一个重要指标，其等于LCD最大亮度与最暗亮度的比值。所以提高对比度的方式无外乎尽可能提高显示器的最大亮度和降低暗态亮度。由于显示器的最大亮度受到背光模块，穿透率，功耗等因素的限制，所以显示器提高对比度的方法重点是如何降低其暗态亮度。OLED显示器的一大优点之一便是奇高的对比度，理论上，暗态亮度可以达到0，所以面板对比度理论上可以达到无穷大。这样便可以使OLED显示器层次感更分明，暗态细节表现的更好。一般像素的漏光区域集中在栅极线或数据线周围，因为这里的电场会由于信号线的信号传输而发生剧烈变化，导致液晶倒向不均匀，所以容易出现漏光情况。传统上，我们会采用BM遮光的办法，把漏光的区域用黑色矩阵层进行遮挡，这样可以有效降低像素的暗态亮度。最新的曲面显示器，由于在数据线正上方位置会有上下基板的左右偏移(shift)，如图1所示，下基板的数据线101与上基板的BM102发生偏移导致漏光。由此，采用数据线上方无BM的设计，如图2所示，用一块ComITO金属202在阵列基板侧覆盖数据线201上方，所述ComITO金属202电压与CF侧ITO保持一致，液晶因无电压差而不发生转动而屏蔽该处漏光。但缺点是会造成所述数据线201的加负载(loading)相对增大一些，而且遮光效果不如传统的黑色矩阵好。采用此种方式的显示器，array侧所述ComITO金属202会受CF的光阻交叠形成的牛角影响液晶倾倒，对比度一般会相对小一些，由于其不是物理性遮光原理，所以更容易发生漏光情况。此外，如图3所示，我们发现在像素显示区域，COM金属线301交叉区域302会发生漏光情况，以及周边交叉区域303、304也会发生漏光。经过对比，金属交叉处都会发生类似衍射图样的漏光情况。原因为该COM金属线301虽然设计是十字垂直交叉，但是经过曝光蚀刻等制程后，该COM金属线301交叉位置会出现类似45度的楔形形状。综上所述，现有技术的LCD显示面板暗态亮度较高，尤其像素区域漏光导致显示面板对比度降低，其中像素电极金属线交叉区域也存在漏光，从而影响显示面板的品质。
技术实现思路
本专利技术提供的一种掩膜板、阵列基板，能够避免像素区域漏光，从而降低暗态亮度，提高对比度，进而提高显示面板的品质。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种掩膜板，包括板体，以及阵列分布于所述板体表面的掩膜区域，每一所述掩膜区域包括：透光区域，对应待实施光罩制程的显示器件的刻蚀区域；遮光区域，对应所述待实施光罩制程的显示器件的预设图案区域，所述遮光区域包括相互交叉的横向遮光条和纵向遮光条；其中，所述横向遮光条与所述纵向遮光条的交汇处设置有辅助遮光块，所述辅助遮光块由第一边、第二边以及第三边围合形成，所述第一边对应所述交汇处的部分所述横向遮光条的边界，所述第二边对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条的边界，所述第三边连接所述横向遮光条和所述纵向遮光条；所述辅助遮光块的所述第三边与所述第一边形成的第一夹角以及所述第三边与所述第二边形成的第二夹角均为非直角；所述第一夹角和所述第二夹角不等于45度，且不等于135度。根据本专利技术一优选实施例，所述辅助遮光块是由所述交汇处的所述横向遮光条和/或所述纵向遮光条向所述透光区域延伸形成的；其中，所述辅助遮光块的所述第三边为直线或折线。根据本专利技术一优选实施例，所述横向遮光条与所述纵向遮光条形成的夹角对应的所述辅助遮光块的面积均相等。根据本专利技术一优选实施例，所述第一夹角为60度～75度，所述第二夹角为15度～30度；或者，所述第一夹角为15度～30度，所述第二夹角为60度～75度。本专利技术还提供一种阵列基板，包括：衬底基板；金属交叉电极，制备于所述衬底基板上，所述金属交叉电极包括横向电极条与纵向电极条；其中，在所述金属交叉电极的交汇处设置有凸起的呈预设角度的辅助电极块；或者，所述金属交叉电极的所述交汇处设置有呈预设角度的凹陷。根据本专利技术一优选实施例，所述辅助电极块由第四边、第五边以及第六边围合形成，所述第四边对应所述交汇处的部分所述横向电极条的边界，所述第五边对应所述交汇处的部分所述纵向电极条的边界，所述第六边连接所述横向电极条和所述纵向电极条；所述辅助电极块的所述第六边与所述第四边之间形成的第三夹角以及所述第六边与所述第五边形成的第四夹角均为非直角；所述第三夹角和所述第四夹角不等于45度，且不等于135度。根据本专利技术一优选实施例，所述第三夹角为60度～75度，所述第四夹角为15度～30度；或者，所述第三夹角为15度～30度，所述第四夹角为60度～75度。根据本专利技术一优选实施例，所述金属交叉电极的所述交汇处形成的所述凹陷包括对应所述横向电极条边界的第七边，以及对应所述纵向电极条边界的第八边，所述第七边与所述第八边之间形成的第五夹角为非直角，所述第五夹角不等于45度且不等于135度。根据本专利技术一优选实施例，所述第五夹角为60度～75度或15度～30度。根据本专利技术一优选实施例，所述横向电极条与所述纵向电极条形成的夹角对应的所述辅助电极块或所述凹陷的面积均相等。本专利技术的有益效果为：相较于现有的LCD显示面板，本专利技术的掩膜板及阵列基板，通过采用金属交叉电极设计时，即像素电极交叉位置设计时，不用直角交叉，而是采用大于或小于45度的设计角度；可以避免直角设计在蚀刻之后产生45度楔形，从而减轻漏光的发生。或者在金属交叉电极的交汇处通过增加特定角度的辅助遮光块或者在金属交叉电极的交汇处形成特定角度的凹陷，以避免交汇处产生45度楔形，从而减轻漏光的发生。同时，本专利技术通过在数据线上方设置与CF侧电极一致的公共电极，以及在该公共电极上方增设一层PFA层进行平坦化，从而进一步减少漏光发生，降低暗态亮度，进而提高对比度，改善显示面板的品质。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术的显示面板产生漏光的示意图；图2为现有技术中解决图1产生漏光的显示面板结构示意图；图3为现有技术的显示面板像素显示区域漏光示意图；图4为本专利技术实施例一提供的掩膜板结构示意图；图5a为本专利技术实施例二提供的掩膜板结构示意图；图5b为本专利技术实施例二提供的另一种掩膜板结构示意图；图6为本专利技术实施例三提供的掩膜板结构示意图；图7为本专利技术提供的阵列基板局部结构示意图；图8为本专利技术提供的另一种阵列基板局部结构示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有技术的LCD显示面板的像素区域漏光导致显示面板对比度降低，其中像素电极金属线交叉区域也存在漏光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括板体，以及阵列分布于所述板体表面的掩膜区域，每一所述掩膜区域包括：透光区域，对应待实施光罩制程的显示器件的刻蚀区域；遮光区域，对应所述待实施光罩制程的显示器件的预设图案区域，所述遮光区域包括相互交叉的横向遮光条和纵向遮光条；其中，所述横向遮光条与所述纵向遮光条的交汇处设置有辅助遮光块，所述辅助遮光块由第一边、第二边以及第三边围合形成，所述第一边对应所述交汇处的部分所述横向遮光条的边界，所述第二边对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条的边界，所述第三边连接所述横向遮光条和所述纵向遮光条；所述辅助遮光块的所述第三边与所述第一边形成的第一夹角以及所述第三边与所述第二边形成的第二夹角均为非直角；所述第一夹角和所述第二夹角不等于45度，且不等于135度。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括板体，以及阵列分布于所述板体表面的掩膜区域，每一所述掩膜区域包括：透光区域，对应待实施光罩制程的显示器件的刻蚀区域；遮光区域，对应所述待实施光罩制程的显示器件的预设图案区域，所述遮光区域包括相互交叉的横向遮光条和纵向遮光条；其中，所述横向遮光条与所述纵向遮光条的交汇处设置有辅助遮光块，所述辅助遮光块由第一边、第二边以及第三边围合形成，所述第一边对应所述交汇处的部分所述横向遮光条的边界，所述第二边对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条的边界，所述第三边连接所述横向遮光条和所述纵向遮光条；所述辅助遮光块的所述第三边与所述第一边形成的第一夹角以及所述第三边与所述第二边形成的第二夹角均为非直角；所述第一夹角和所述第二夹角不等于45度，且不等于135度。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述辅助遮光块是由所述交汇处的所述横向遮光条和/或所述纵向遮光条向所述透光区域延伸形成的；其中，所述辅助遮光块的所述第三边为直线或折线。3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述横向遮光条与所述纵向遮光条形成的夹角对应的所述辅助遮光块的面积均相等。4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一夹角为60度～75度，所述第二夹角为15度～30度；或者，所述第一夹角为15度～30度，所述第二夹角为60度～75度。5.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板；金属交叉电极，制备于所述衬底基板上，...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶成亮，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44