电解水生成装置、水处理装置、透析液制备用水的制造装置以及富氢水供给器制造方法及图纸

技术编号:19127145 阅读:7 留言:0更新日期:2018-10-10 08:28
适用于电解水透析的电解水生成装置1具备配置有第1馈电体(41)的第1电极室(40A)和配置有第2馈电体(42)的第2电极室(40B)被隔膜(43)进行划分的电解槽(4)、用于向第1馈电体(41)及第2馈电体(42)供给用于电解的电流的电源部(5)、以及控制第1馈电体(41)及第2馈电体(42)的极性的控制单元(6)。当未被加热的水向电解槽(4)供给时,控制单元(6)将第1馈电体(41)设为阴极,当被加热的热水向电解槽(4)供给时,控制单元(6)将第1馈电体(41)设为阳极。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电解水生成装置、水处理装置、透析液制备用水的制造装置以及富氢水供给器
本专利技术涉及一种对水进行电解而生成电解氢水的电解水生成装置等。
技术介绍
以往,已知有具备包括由固体高分子电解质膜进行分隔的阳极室和阴极室的电解槽并对流入电解槽内的原水进行电解的电解水生成装置。在电解水生成装置的阴极室生成溶解有氢气的电解氢水。而且,近年来,由电解水生成装置生成的溶解氢水,在去除血液透析治疗时产生的活性氧、适于减轻患者的氧化应激方面受到关注(例如,参见专利文献1)。使用了电解水的血液透析被称为电解水透析。在原水中,含有微量的钙离子、镁离子等金属离子。这些金属离子难以被过滤器等彻底去除,在进入电解槽时,就会在包括馈电体的阴极室的内部或在与阴极室连接的水管的内部作为水垢而被析出。在水垢在馈电体的表面大量附着时,施加于馈电体上的用于电解的电压将上升,电解水生成装置的消耗电力将增大。另外,在水垢在出水管的内部大量附着时,存在出水管堵塞而电解氢水的排出量降低的可能。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2016-137421号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是鉴于以上这样的实际情况而做出的,其主要目的在于提供一种能够去除附着在馈电体的表面等的水垢的电解水生成装置等。用于解决课题的技术方案本专利技术的第1方面是对水进行电解而生成电解氢水的电解水生成装置,其特征在于,具备:配置有第1馈电体的第1电极室和配置有第2馈电体的第2电极室被隔膜进行划分的电解槽;向所述第1馈电体及所述第2馈电体供给用于电解的电流的电源部;以及控制所述第1馈电体及所述第2馈电体的极性的控制单元,当未被加热的水向所述电解槽供给时,所述控制单元将所述第1馈电体设为阴极并将所述第2馈电体设为阳极,当被加热的热水向所述电解槽供给时,所述控制单元将所述第1馈电体设为阳极并将所述第2馈电体设为阴极。本专利技术的第2方面的水处理装置的特征在于,具备所述电解水生成装置、以及生成所述热水并向所述电解水生成装置供给的前处理装置。本专利技术的第3方面的透析液制备用水的制造装置的特征在于,具备所述水处理装置,所述前处理装置能够使原水软水化并向所述电解水生成装置供给。优选地,在本专利技术的所述制造装置,还具备对所述电解氢水进行净化的后处理装置、以及使所述热水在所述前处理装置、所述电解水生成装置及所述后处理装置之间循环的循环水路。本专利技术的第4方面的富氢水供给器具备所述电解水生成装置、以及储存所述电解氢水的水箱,该富氢水供给器特征在于,还具备对所述水箱内的水进行加热的加热器、以及使所述热水在所述水箱及所述电解水生成装置之间循环的循环水路。专利技术效果在本专利技术的第1方面的电解水生成装置,当未被加热的水向电解槽供给时,控制单元将第1馈电体设为阴极并将所述第2馈电体设为阳极,进行电解电流的控制。由此,在第1电极室生成适用于电解水透析或饮用的电解氢水。另一方面,当被加热的热水向电解槽供给时,控制单元将第1馈电体设为阳极并将所述第2馈电体设为阴极,进行电解电流的控制。上述热水在对电解槽等进行杀菌时被向电解槽供给。在本专利技术中,在基于热水所进行的电解槽等的杀菌的同时,通过使各馈电体极性反转并对电解槽内的水进行电解,能够去除附着在第1馈电体的表面等的水垢。在本专利技术的第2方面的水处理装置,前处理装置生成热水并向电解水生成装置供给。因此,电解水生成装置的结构被简化。例如可以使用未搭载生成热水功能的以往结构的电解水生成装置来廉价地构成水处理装置。在本专利技术的第3方面的透析液制备用水的制造装置,前处理装置具有使原水软水化的功能。由此,能够容易地制造适用于透析液制备用的电解氢水。另外,在基于热水进行的制造装置内的水路的杀菌的同时,通过使各馈电体极性反转并对电解槽内的水进行电解,能够去除附着在馈电体的表面等的水垢。在本专利技术的第4方面的富氢水供给器,具备电解水生成装置、储存电解氢水的水箱、对水箱内的水进行加热的加热器、以及使热水在水箱及电解水生成装置之间循环的循环水路。由此,在基于热水所进行的富氢水供给器内的水路的杀菌的同时,通过使各馈电体极性反转并对电解槽内的水进行电解,能够去除附着在馈电体的表面等的水垢。附图说明图1是表示包括本专利技术的电解水生成装置的透析液制备用水的制造装置的一个实施方式的概略结构的框图。图2是表示包括图1的电解水生成装置的水处理装置的电气结构的框图。图3是表示在图1的制造装置,当未被加热的水向电解槽供给时的电解水生成装置等的动作的框图。图4是表示在图1的制造装置中,当被加热的水向电解槽供给时的电解水生成装置等的动作的框图。图5是表示包括本专利技术的电解水生成装置的富氢水供给器的一个实施方式的概略结构的框图。图6是表示在图5的富氢水供给器,未被加热的水向电解槽供给时的电解水生成装置等的动作的框图。图7是表示在图5的富氢水供给器,当被加热的水向电解槽供给时的电解水生成装置等的动作的框图。具体实施方式(第1实施方式)下面,基于附图对本专利技术的一个实施方式进行说明。图1表示包括本实施方式的电解水生成装置1的透析液制备用水的制造装置100(以下,仅记作制造装置100)的概略结构。制造装置100包括前处理装置200、电解水生成装置1以及后处理装置300。电解水生成装置1能够不与前处理装置200以及后处理装置300组合而单独实施,也能够与除前处理装置200以及后处理装置300之外的装置组合而实施。水处理装置250由前处理装置200和电解水生成装置1构成。水处理装置250由原水生成电解氢水并向后处理装置300供给。水处理装置250能够不与后处理装置300组合而单独实施,也能够与除后处理装置300之外的装置组合而实施。前处理装置200设置在电解水生成装置1的上游侧。前处理装置200包括水箱201、软水化装置202、活性炭处理装置203、以及加热器204。水箱201储存从前处理装置200的外部供给的原水。原水一般使用自来水,但除此之外,例如也可以使用井水、地下水等。软水化装置202从原水中去除钙离子以及镁离子等硬度成分进行软水化。活性炭处理装置203使用微细的多孔物质即活性炭从软水中去除吸附、去除氯等。通过前处理装置200处理后的水经由水路501被向电解水生成装置1供给。此外,在水路501配置有用于将在上游侧的连接目的地切换为活性炭处理装置203或加热器204的阀510。加热器204将从水箱201供给的水加热到例如75℃以上,生成热水。电解水生成装置1对从前处理装置200供给的水进行电解,生成电解氢水。电解水生成装置1具备配置有第1馈电体41的第1电极室40A和配置有第2馈电体42的第2电极室40B被隔膜43进行划分的电解槽4。第1馈电体41与第2馈电体42的极性不同。即,第1馈电体41以及第2馈电体42中的一方被用作阳极馈电体,另一方被用作阴极馈电体。通过向电解室40的第1电极室40A以及第2电极室40B双方供给水,并向第1馈电体41以及第2馈电体42施加直流电压,在电解室40内发生水的电解。关于隔膜43,例如适宜使用包括由具有磺酸基的氟类的树脂组成的固体高分子膜等。在隔膜43的双面,形成有由铂组成的镀层。隔膜43的镀层与第1馈电体41以及第2馈电体42抵接并电连接。隔膜43使由电解产生的离子通过。第1馈电体41与第2本文档来自技高网...
电解水生成装置、水处理装置、透析液制备用水的制造装置以及富氢水供给器

【技术保护点】
1.一种电解水生成装置,其对水进行电解而生成电解氢水,其特征在于,具备:配置有第1馈电体的第1电极室和配置有第2馈电体的第2电极室被隔膜进行划分的电解槽;向所述第1馈电体及所述第2馈电体供给用于电解的电流的电源部;以及控制所述第1馈电体及所述第2馈电体的极性的控制单元,当未被加热的水向所述电解槽供给时,所述控制单元将所述第1馈电体设为阴极并将所述第2馈电体设为阳极,当被加热的热水向所述电解槽供给时,所述控制单元将所述第1馈电体设为阳极并将所述第2馈电体设为阴极。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.18 JP 2017-0065421.一种电解水生成装置,其对水进行电解而生成电解氢水,其特征在于,具备:配置有第1馈电体的第1电极室和配置有第2馈电体的第2电极室被隔膜进行划分的电解槽;向所述第1馈电体及所述第2馈电体供给用于电解的电流的电源部;以及控制所述第1馈电体及所述第2馈电体的极性的控制单元,当未被加热的水向所述电解槽供给时,所述控制单元将所述第1馈电体设为阴极并将所述第2馈电体设为阳极,当被加热的热水向所述电解槽供给时,所述控制单元将所述第1馈电体设为阳极并将所述第2馈电体设为阴极。2.一种水处理装置,其特征在于,具备:权利要求1所述的所述电...

【专利技术属性】
技术研发人员:仲西直树
申请(专利权)人:日本多宁股份有限公司
类型:发明
国别省市:日本,JP

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