密封装置制造方法及图纸

密封装置(10)包括：导电构件(31)，沿密封唇(24)的周向方向与密封唇(24)成一体，且被构造成使得对导电构件(31)施加电压；和基准构件，相对于导电构件(31)以预定间隔设置。检查密封唇(24)的变形程度，使得由检测单元(50)检测与在导电构件(31)和基准构件之间的间隔的变化相关联的导电构件(31)的电感(L)的变化。

【技术实现步骤摘要】
密封装置
本专利技术涉及一种密封装置。
技术介绍
为了防止异物侵入旋转轴与壳体之间的空间中以及防止诸如润滑脂的润滑剂流出，使用密封装置用于工业产品或工业机械中的旋转构件。密封装置的一个示例是包括密封唇的密封装置，该密封唇可滑动地与旋转轴紧密接触。广泛使用油封作为这种密封装置。
技术实现思路
当密封唇的内周上的密封表面与旋转轴的邻接表面紧密接触时，密封表面相对于旋转轴滑动。密封表面由于摩擦而逐渐磨损。随着磨损，密封唇在接近旋转轴的方向上逐渐变形。当密封唇由于密封表面的磨损而使密封唇变形预定量时，密封表面与旋转轴之间的接触压力变得不足，使得密封性能下降，从而导致异物侵入环形空间中或导致润滑剂流出到环形空间的外部。一般来说，这个问题可以通过定期更换密封装置来解决。即，对密封装置的更换以比密封性能下降期间短的间隔进行，以防止异物侵入旋转构件中以及防止润滑剂流出。然而，在这种方法中，密封装置的更换周期短，使得花费时间来执行密封装置的维护。另外，在预定更换时机到来之前，在密封唇发生异常变形的情况下，难以抑制异物侵入环形空间中并且难以抑制润滑剂流出到环形空间外部。鉴于此，可以想到通过使用日本未审查专利申请公布特开2014-74469(JP2014-74469A)中公开的检查设备来检查密封唇的变形程度，即检查变形是否达到预定量。JP2014-74469A中所公开的检查设备被构造成通过将油封配合到检查设备来检测是否将卡紧弹簧附接到油封的密封唇的预定位置上。当密封唇变形时，附接卡紧弹簧的位置也变化。因此，通过使用在JP2014-74469A中公开的检查设备，通过检测附接有卡紧弹簧的位置是否从预定位置变化了预定量，大概能够检查密封唇是否已经变形达到预定量。但是，在通过使用JP2014-74469A所公开的检查设备进行检查的情况下，需要停止旋转构件的操作，拆下油封，将油封配合到检查设备。这因此降低了旋转构件的操作效率。本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种密封装置，该密封装置包括密封唇，所述密封唇具有与旋转构件的旋转轴紧密接触的密封表面，该密封装置能够检查由于密封表面的磨损而引起的密封唇的变形程度，而不降低旋转构件的操作效率。本专利技术的一种形态涉及一种密封装置，所述密封装置被设置在外部构件的内周表面的径向内方。所述密封装置包括：附接部，所述附接部具有环形形状且被附接到所述外部构件；密封唇，所述密封唇具有环形形状，并且所述密封唇被固定到所述附接部，并且所述密封唇在所述密封唇的内周部分中具有密封表面，所述密封表面与被设置在所述外部构件的所述内周表面的径向内方的轴接触。所述密封装置也包括导电构件，所述导电构件沿所述密封唇的周向方向与所述密封唇成一体，所述导电构件被构造成使得对所述导电构件施加电压。所述密封装置也包括基准构件，所述基准构件被放置成使得在所述导电构件与所述基准构件之间设置预定间隔。所述密封装置也包括检测单元。所述检测单元检测所述导电构件的电感的变化，所述导电构件的所述电感的变化与在所述导电构件和所述基准构件之间的所述间隔的变化相关联。在本专利技术的以上形态中，所述基准构件可以是具有导电性的构件，并且在所述构件与所述导电构件相距所述预定间隔的状态下，所述构件被设置在所述密封唇或所述附接部中。利用密封装置，当密封唇随着密封表面的磨损而变形时，在导电构件与基准构件(具有导电性的构件)之间的间隔改变。此外，当电压被施加到导电构件时，导电构件用作磁传感器。因此，在导电构件与作为感测对象的基准构件之间的间隔的变化被检测为导电构件的电感的变化。由此，能够通过简单的构造来检查密封唇的变形程度。此外，即使在附接有密封装置的旋转构件旋转时，也能够检查密封唇的变形程度。由此，能够在不降低操作效率的情况下检查密封唇的变形程度。所述导电构件可以沿着所述密封唇的所述周向方向环形地设置成与所述密封唇同心。所述基准构件可以沿着所述密封唇的所述周向方向环形地设置成与所述密封唇同心。利用密封装置，在密封唇的全周上感测密封唇的变形。作为结果，能够提高密封唇的变形程度的检查精度。所述导电构件和所述基准构件可以是被放置在所述密封唇中的环形金属线。每一个所述环形金属线的截面的直径可以等于或小于预定直径。在导电构件和基准构件是粗金属线的情况下，密封唇的变形由于导电构件和基准构件的刚性而受到干扰。作为结果，不能精确地检查密封唇的变形程度。另一方面，在使用具有预定直径或预定直径以下的直径的截面的金属线作为导电构件和基准构件的情况下，因为金属线的刚性低，所以妨碍与密封表面的磨损相关联的密封唇的变形的可能性是低的。这使得能够以高精度检查密封唇的变形程度。所述基准构件可以是被设置在所述附接部中的芯构件。所述基准构件可以是环形弹簧，所述环形弹簧被构造成将所述密封唇的内周紧固到所述轴。当具有导电性且构成密封装置的构件兼作基准构件时，能够抑制待放置在密封装置中的构件的数目。这使得能够容易地制造密封装置。所述芯构件可以具有L形截面，所述L形截面具有与所述密封唇面对的一条边。所述检测单元可以被放置在所述芯构件的内表面上。当通过这样有效地使用密封装置中的空间来设置检测单元时，能够抑制密封装置的大型化。可以对所述基准构件施加电压。利用密封装置，在基准构件的周围也产生磁场，由此能够增大它对导电构件周围的磁场的影响。即，当在导电构件和基准构件之间的间隔改变时，能够大大地改变导电构件周围的磁阻。作为结果，能够更准确地检查密封唇的变形程度。在本专利技术的前述形态中，基准构件可以是轴。在具有这种结构的密封装置中，当密封唇随着密封表面的磨损而变形时，在导电构件与基准构件(轴)之间的间隔改变。此外，当电压被施加到导电构件时，导电构件用作磁传感器。因此，在导电构件与作为感测对象的基准构件之间的间隔的变化被检测为导电构件的电感的变化。由此，能够通过简单的构造来检查密封唇的变形程度。此外，即使在附接有密封装置的旋转构件在旋转的同时，也能够检查密封唇的变形程度。由此，能够在不降低操作效率的情况下检查密封唇的变形程度。所述导电构件可以沿所述密封唇的所述周向方向环形地设置成与所述密封唇同心。利用密封装置，在密封唇的全周上感测密封唇的变形。作为结果，能够提高密封唇的变形程度的检查精度。所述导电构件可以是被放置在所述密封唇中的环形金属线。所述环形金属线的截面的直径可以等于或小于预定直径。在导电构件是粗金属线的情况下，密封唇的变形由于导电构件的刚性而受到干扰。作为结果，不能精确地检查密封唇的变形程度。另一方面，在使用具有预定直径或预定直径以下的直径的截面的金属线作为导电构件和的情况下，因为金属线的刚性低，所以妨碍与密封表面的磨损相关联的密封唇的变形的可能性是低的。这使得能够以高精度检查变形程度。所述附接部可以设有芯构件，所述芯构件具有L形截面，所述L形截面具有与所述密封唇面对的一条边。所述检测单元可以被放置在所述芯构件的内表面上。当通过这样有效地使用密封装置中的空间来设置检测单元时，能够抑制密封装置的大型化。所述检测单元可以被构造成输出由所述检测单元检测到的结果。由此，能够容易地找到检查结果。所述检测单元可以被构造成当所述导电构件的所述电感的变化大于预定阈值时输出所述结果。在该密封装置中，在将电感值减小至使密封装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种密封装置，所述密封装置被设置在外部构件的内周表面的径向内方，所述密封装置的特征在于包括：附接部(12)，所述附接部(12)具有环形形状且被附接到所述外部构件；密封唇(24)，所述密封唇(24)具有环形形状，所述密封唇(24)被固定到所述附接部(12)，并且所述密封唇(24)在所述密封唇(24)的内周部分中具有密封表面(23a)，所述密封表面(23a)与被设置在所述外部构件的所述内周表面的径向内方的轴(5)接触；导电构件(31)，所述导电构件(31)沿所述密封唇(24)的周向方向与所述密封唇(24)成一体，所述导电构件(31)被构造成使得对所述导电构件(31)施加电压；基准构件，所述基准构件被放置成使得在所述导电构件(31)与所述基准构件之间设置预定间隔；和检测单元(50)，其中所述检测单元(50)检测所述导电构件(31)的电感(L)的变化，所述导电构件(31)的所述电感(L)的变化与在所述导电构件(31)和所述基准构件之间的所述间隔的变化相关联。

【技术特征摘要】
2017.03.21 JP 2017-054627;2017.03.21 JP 2017-054861.一种密封装置，所述密封装置被设置在外部构件的内周表面的径向内方，所述密封装置的特征在于包括：附接部(12)，所述附接部(12)具有环形形状且被附接到所述外部构件；密封唇(24)，所述密封唇(24)具有环形形状，所述密封唇(24)被固定到所述附接部(12)，并且所述密封唇(24)在所述密封唇(24)的内周部分中具有密封表面(23a)，所述密封表面(23a)与被设置在所述外部构件的所述内周表面的径向内方的轴(5)接触；导电构件(31)，所述导电构件(31)沿所述密封唇(24)的周向方向与所述密封唇(24)成一体，所述导电构件(31)被构造成使得对所述导电构件(31)施加电压；基准构件，所述基准构件被放置成使得在所述导电构件(31)与所述基准构件之间设置预定间隔；和检测单元(50)，其中所述检测单元(50)检测所述导电构件(31)的电感(L)的变化，所述导电构件(31)的所述电感(L)的变化与在所述导电构件(31)和所述基准构件之间的所述间隔的变化相关联。2.根据权利要求1所述的密封装置，其特征在于所述基准构件是具有导电性的构件(32)，并且在所述构件(32)与所述导电构件(31)相距所述预定间隔的状态下，所述构件(32)被设置在所述密封唇(24)或所述附接部(12)中。3.根据权利要求2所述的密封装置，其特征在于所述导电构件(31)沿着所述密封唇(24)的所述周向方向环形地设置成与所述密封唇(24)同心。4.根据权利要求2或3所述的密封装置，其特征在于所述基准构件(32)沿着所述密封唇(24)的所述周向方向环形地设置成与所述密封唇同心。5.根据权利要求2或3所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：清水阳平，
申请(专利权)人：株式会社捷太格特，
类型：发明
国别省市：日本,JP