The invention provides an automatic control device and system for electroforming coating thickness. The device comprises an electroforming cylinder, a hanging plating bracket, a controller and a current detecting unit, wherein the hanging plating bracket is placed in the electroforming cylinder, and the current detecting unit detects the current of each hanging plating sample of the hanging plating bracket, according to which the controller obtains the charges already used in the plating process on the hanging plating interface plate. Quantity. If the number of charges reaches the desired number of charges for the sample to be plated, the controller stops supplying power to the corresponding sample to be plated, and the total current of the programmable power source adjusts the total current instantly according to the number of samples currently energized. By adopting the above technical scheme, the invention can greatly improve the efficiency and quality control of pure gold electroforming on-line production.
【技术实现步骤摘要】
电铸镀层厚度自动控制装置和系统
本专利技术涉及电铸
,特别涉及一种电铸镀层厚度自动控制装置和系统。
技术介绍
电铸有别于电镀,需要在样品表面电镀厚度超过100微米的镀层,在珠宝首饰行业比较流行电铸纯金以及K金。电铸是一种比电镀工艺更复杂的电镀方案。当前的贵金属电铸制造主要依赖于人的经验控制,以氰化金钾与铜盐溶液发生电化学反应,在基材上电镀18K~24K黄金,依赖人的经验和电镀电流大小和电镀时间来控制镀层的厚度以及成分。但这里有几大问题无法得到有效的解决。1.低效率以经验来控制电镀镀层厚度,镀厚了则生产商损失较大,镀薄了则无法满足客户需求。经常需要返工,且无法保证批量产品的电镀的厚度统一。另外镀完一批再取出成品检测,发现问题则再重新电镀,效率非常低。2.低品质控制对于同一批样品无法做到完全统一的电镀厚度的准确控制。无法保证批量的产品品质相同且都符合严格标准。
技术实现思路
本专利技术中的电铸镀层厚度自动控制装置和系统,主要解决当前的黄金电铸制造镀层厚度控制的低效率、低品质控制等问题。为解决上述问题,作为本专利技术的一个方面,提供了一种电铸镀层厚度自动控制装置,包括电铸缸、挂镀支架、控制器和电流检测单元,所述挂镀支架置于所述电铸缸中,所述电流检测单元检测所述挂镀支架的每个挂镀样品的电流,所述控制器根据所述电流得到该挂镀接口板上电镀过程中已经采用的电荷数量,如果该电荷数量达到待电镀样品所预期的电荷数量,则所述控制器停止向相应的待电镀样品供电,同时可编程电源的总电流根据当前仍然通电的样品数量即时调整总电流。优选地,所述电荷数量通过对所述电流的时间积分得到。优选地 ...
【技术保护点】
1.一种电铸镀层厚度自动控制装置,其特征在于,包括电铸缸(1)、挂镀支架(2)、控制器(3)和电流检测单元(4),所述挂镀支架(2)置于所述电铸缸(1)中,所述电流检测单元(4)检测所述挂镀支架(2)的每个挂镀样品(5)的电流,所述控制器(3)根据所述电流得到该挂镀接口板(5)上电镀过程中已经采用的电荷数量,如果该电荷数量达到待电镀样品(14)所预期的电荷数量,则所述控制器停止向相应的待电镀样品(14)供电。
【技术特征摘要】
1.一种电铸镀层厚度自动控制装置,其特征在于,包括电铸缸(1)、挂镀支架(2)、控制器(3)和电流检测单元(4),所述挂镀支架(2)置于所述电铸缸(1)中,所述电流检测单元(4)检测所述挂镀支架(2)的每个挂镀样品(5)的电流,所述控制器(3)根据所述电流得到该挂镀接口板(5)上电镀过程中已经采用的电荷数量,如果该电荷数量达到待电镀样品(14)所预期的电荷数量,则所述控制器停止向相应的待电镀样品(14)供电。2.根据权利要求1所述的电铸镀层厚度自动控制装置,其特征在于,所述电荷数量通过对所述电流的时间积分得到。3.根据权利要求3所述的电铸镀层厚度自动控制装置,其特征在于,镀层厚度通过下式确定:其中,T为电镀厚度;C为电化学当量;η为电流效率%;J为电流密度A/m2;τ为电镀时间;γ为沉积金属的比重g/cm2;C和γ均为常量。4.根据权利要求1所述的电铸镀层厚度自动控制装置,其特征在于,镀层厚度通过下式确定:其中,T为电镀厚度,I为电流,τ为电镀时间;C为电化学当量;η为电流效率%;γ为沉积金属的比重g/cm2;S为截面积。5.根据权利要求1所述的电铸镀层厚度自动控制装置,其特征在于,所述电铸镀层厚度自动控制装置还包括用于向每个挂镀样品(14)供电的可编辑直流电源,所述电流检测单元(4)检测所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:邵波,邓启华,黄玉光,
申请(专利权)人:深圳市西凡谨顿科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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