移动喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统制造方法及图纸

技术编号:19108434 阅读:76 留言:0更新日期:2018-10-09 23:17
本申请公开了一种移动喷嘴平面清洗装置,避免了机械和超声振打导致的二次扬尘,不需要人工清洗和人工维护,每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态,提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工。由于不需要每个平面都配备喷嘴,是采用少量设备、低成本应对多个平面清洗的有效方案。该移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述移动喷嘴平面清洗装置包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴相对待清洗平面可移动,所述清洗喷嘴从至少一个待清洗区域移动至另一个待清洗区域。本申请还公开了一种采用上述移动喷嘴平面清洗装置的自清洗免维护静电净化系统及其嵌入式模块。

Mobile nozzle plane cleaning device and self cleaning and maintenance free electrostatic cleaning system

The application discloses a moving nozzle plane cleaning device, which avoids the secondary dust caused by mechanical and ultrasonic vibration, does not need manual cleaning and maintenance, can thoroughly clean the surface to be cleaned each time, restores the clean state, improves the cleaning effect and efficiency, reduces the cleaning cost, and avoids manual work. Since nozzles are not required for each plane, it is an effective scheme to adopt a small amount of equipment and to deal with multiple plane cleaning at low cost. The moving nozzle plane cleaning device is characterized in that the moving nozzle plane cleaning device comprises a cleaning nozzle, the cleaning nozzle is movable relative to the cleaning plane, and the cleaning nozzle moves from at least one area to another area to be cleaned. The application also discloses a self-cleaning and maintenance-free electrostatic cleaning system and an embedded module adopting the above-mentioned moving nozzle plane cleaning device.

【技术实现步骤摘要】
移动喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统
本申请涉及一种表面附着颗粒的清洗技术,属于流体流动领域。
技术介绍
高压静电净化器是以静电净化原理进行气体中微粒和液滴的装置。是空气净化的理想设备。它的净化工作主要依靠放电极和沉淀极这两个系统来完成,当两极间输入高压直流电时在电极空间,产生阴、阳离子,并作用于通过静电场的气体及粒子表面,在电场力的作用下向其极性相反的电极移动,并沉积于电极上,达到收尘目的。其中高压静电模块为特殊设计的双极平板百叶式,具有放电区和集尘区两个分区,相对传统的静电过滤网或蜂窝式电子空气净化器的净化效率最高。其主要原理是利用静电吸附颗粒物和吸附了细菌微生物的气溶胶,并击穿杀死通过电场的细菌和病毒。传统行业中的高压静电净化技术常见的清洗维护方式是机械振打、超声波振打或人工将设备取下来用水来冲洗。其中振打方式通过振打两极装置,使粘附在其上的粉尘被抖落,落入下部灰斗经排灰装置排出机外,传统的清洗维护方式会存在二次扬尘,而人工清洗由存在后期人工维护成本高以及维护时间长工作效率低等问题。对于多个待清洗面以一定间距排列的形式构成整体,现有技术中往往是对整体进行淋洗,无法做到每次彻底清洁每一个待清洗面,则一定会存在积尘积累问题,待积累到一定程度,即必须拆卸下来人工彻底清洗,即持续积尘又无法避免人工维护。
技术实现思路
根据本申请的一个方面,提供了一种移动喷嘴平面清洗装置,该移动喷嘴平面清洗装置应用于平面清洗领域,避免了机械和超声振打导致的二次扬尘,不需要人工清洗和人工维护,每次清洗均能彻底清洁待清洗面,恢复洁净状态,提高了清洗效果和效率、降低了清洗成本、避免了人工,该移动喷嘴平面清洗装置可以持续地同时保持多个待清洁表面的洁净,不需要每个平面或每个区域都配备喷嘴,是采用少量设备、低成本应对多个平面清洗的有效方案。该移动喷嘴平面清洗装置包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴相对待清洗平面可移动,所述清洗喷嘴从至少一个待清洗区域移动至另一个待清洗区域。本申请中,所述待清洗平面或所述待清洗表面为需要清洗的表面。对于一个平板,根据具体情况其可能需要单面清洗或双面清洗,当该平板需要双面清洗时,一个平板具有两个待清洗表面。本申请中,所述待清洗区域是指一个待清洗平面上的一个区域,当待清洗平面不是一次整体清洗时,可以分别对一个待清洗平面上的多个区域分次清洗。优选地,所述清洗喷嘴从一个待清洗平面的一个位置沿平行于所述待清洗平面的方向移动至所述待清洗平面的另一个位置;和/或,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述清洗喷嘴从一个待清洗平面一端的第一位置移动至任意一个待清洗平面一端的第二位置。进一步优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述清洗喷嘴从一个待清洗平面一端的第一位置沿垂直于多个所述待清洗平面的方向移动至任意一个待清洗平面一端的第二位置。优选地,所述第一位置与其所要清洗的待清洗平面的相对位置,和所述第二位置与其所要清洗的待清洗平面的相对位置一致。本申请中,所述相对位置,是指清洗喷嘴与与其所要清洗的待清洗平面在空间上的相对位置。所述相对位置一致,是指清洗喷嘴与一个待清洗平面的相对位置,在移动到另一个待清洗平面后仍处于与之前相同的相对位置。作为一个优选的方案,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨,所述第一滑轨垂直于所述待清洗平面;和/或,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第二滑轨,所述第二滑轨平行于所述待清洗平面。作为一个优选的方案,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接并沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动。作为一个优选的方案,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接并沿平行于所述待清洗平面的方向滑动。优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴的滑动路径途经任一个所述待清洗平面。进一步优选地,所述第一滑轨平行于所述待清洗平面,所述清洗喷嘴沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动。优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第一滑轨的两端与所述第二滑轨滑动连接,所述第一滑轨的滑动方向在平行于所述待清洗平面的方向上具有分量,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。作为一个优选的方案,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第一滑轨滑的两端与所述第二滑轨滑动连接,所述第一滑轨滑沿平行于所述待清洗平面的方向滑动,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第二滑轨的两端与所述第一滑轨滑动连接,所述第二滑轨的滑动方向在垂直于所述待清洗平面的方向上具有分量,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。作为一个优选的方案,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第二滑轨的两端与所述第一滑轨滑动连接,所述第二滑轨沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动。进一步优选地,所述第一滑轨垂直于所述待清洗平面,所述第二滑轨平行于所述待清洗平面。通过所述第一滑轨与所述第二滑轨组合联动的方式,可以让所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动,即可以让所述清洗喷嘴在平面上二维移动,以实现对不同待清洗平面、以及一个待清洗平面上的不同区域进行清洗。本申请中,所述“平行和/或垂直”,包括平行和垂直的技术方案,是指移动方向在平行于待清洗平面和垂直于待清洗平面的方向上都有移动分量,实际的移动方向由上述两个方向的移动分量合成得到。具体而言,可以是第一滑轨与第二滑轨同时有滑动,上述两个分量同时发生;也可以先沿平行或垂直方向移动,再沿垂直或平行方向移动,最终达到需要清洗的位置。优选地,所述清洗喷嘴的出液口的形状为狭缝。进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.1mm~2mm。进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度范围上限选自2mm、1.8mm、1.5mm、1.2mm、1mm、0.9mm、0.8mm;所述出液口的狭缝宽度范围下限选自0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.8mm、0.9mm、1mm。更进一步优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.3mm~1mm。进一步优选地,如所述出液口的狭缝的长度小于所述待清洗平面上的待清洗区域宽度。所述清洗喷嘴可从待清洗平面的一侧沿着平行于待清洗平面的方向移动至待清洗平面的该侧其他位置。优选地,在工作状态下,所述清洗喷嘴的最低部位高于任一个所述待清洗平面的顶端。优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端,所述导流部与待清洗面的距离大于1mm。进一步优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于出液口的出液端,所述导流部与待清洗面的距离为1mm~5mm。在产品实际应用中,导流部与待清洗面相邻之间的距离D的取值直接影响到导流部喷液方向与待清洗面之间的角度本文档来自技高网...
移动喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统

【技术保护点】
1.一种移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述移动喷嘴平面清洗装置包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴相对待清洗平面可移动,所述清洗喷嘴从至少一个待清洗区域移动至另一个待清洗区域。

【技术特征摘要】
1.一种移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述移动喷嘴平面清洗装置包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴相对待清洗平面可移动,所述清洗喷嘴从至少一个待清洗区域移动至另一个待清洗区域。2.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述清洗喷嘴从一个待清洗平面一端的第一位置移动至任意一个待清洗平面一端的第二位置;优选地,所述第一位置与其所要清洗的待清洗平面的相对位置,和所述第二位置与其所要清洗的待清洗平面的相对位置一致。3.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴的滑动路径途经任一个所述待清洗平面;优选地,所述第一滑轨平行于所述待清洗平面,所述清洗喷嘴沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动;优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第一滑轨的两端与所述第二滑轨滑动连接,所述第一滑轨的滑动方向在平行于所述待清洗平面的方向上具有分量,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动;优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第二滑轨的两端与所述第一滑轨滑动连接,所述第二滑轨的滑动方向在垂直于所述待清洗平面的方向上具有分量,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动;优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第一滑轨滑的两端与所述第二滑轨滑动连接,所述第一滑轨滑沿平行于所述待清洗平面的方向滑动,所述清洗喷嘴两端与所述第一滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动;优选地,所述待清洗平面为多个且相互平行,所述移动喷嘴平面清洗装置包括第一滑轨和第二滑轨,所述第二滑轨的两端与所述第一滑轨滑动连接,所述第二滑轨沿垂直于所述待清洗平面的方向滑动,所述清洗喷嘴两端与所述第二滑轨滑动连接,所述清洗喷嘴沿平行和/或垂直于所述待清洗平面的方向滑动;进一步优选地,所述第一滑轨垂直于所述待清洗平面,所述第二滑轨平行于所述待清洗平面。4.根据权利要求1所述的移动喷嘴平面清洗装置,其特征在于,所述清洗喷嘴的出液口的形状为狭缝;优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.1mm~2mm;优选地,所述出液口的狭缝宽度为0.3mm~1mm;优选地,所述出液口的狭缝的长度小于所述待清洗平面上的待清洗区域宽度;优选地,在工作状态下,所述清洗喷嘴的最低部位高于任一个所述待清洗平面的顶端;优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于所述清洗喷嘴的出液口的出液端下部,所述导流部控制喷液方向,在工作状态下,所述导流部与所述待清洗平面之间的角度为5°~90°;优选地,所述清洗喷嘴包括导流部,所述导流部位于所述清洗喷嘴的出液口的出液端下部,所述导流部控制喷液方向,在工作状态下,所述导流...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄谦秦毅任志超
申请(专利权)人:北京淘氪科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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