The invention discloses a substrate table for magnetron sputtering coating, which comprises a substrate base with an internal temperature control liquid channel and a rotating shaft assembly connected with the substrate at one end. The rotating shaft assembly comprises an inner shaft, an outer shaft and an insulating sleeve arranged sequentially from the inside to the outside, the inner shaft being a hollow structure and the temperature control thereof. The inlet of the liquid flow passage is connected, and there is a temperature-controlled liquid backflow gap between the outer shaft and the inner shaft, and the outlet of the temperature-controlled liquid flow passage is connected with the temperature-controlled liquid backflow gap, and there is a gap between the heat-insulated sleeve and the outer shaft, and the two ends of the heat-insulated sleeve are sealed and connected with the outer shaft, and the heat-insulated sleeve is on the heat-insulated sleeve. A vacuum interface is provided. The invention has the advantages of reducing heat loss and convenient temperature control.
【技术实现步骤摘要】
一种用于磁控溅射镀膜的基片台
本专利技术涉及半导体工艺设备,尤其涉及一种用于磁控溅射镀膜的基片台。
技术介绍
随着微电子工艺要求越来越复杂,磁控溅射镀膜时,基片除了需要旋转之外,很多工艺增加了对基片的加热或者制冷的特殊要求,在基片台内部通过控温液体对基片台盘面进行控温。目前常用的带控温功能的基片台由基片座和旋转轴焊接而成,基片座内设置控温液体流道用于控温,旋转轴在驱动机构的带动下带动基片座旋转。由于旋转轴和基片座直接与外界接触,对基片台内部的控温液体造成很大的热损失,当基片台目标温度偏离室温越大时,所需要进入基片台内部的控温液体温度就会要求越高。基片台在工艺过程中除了需要旋转运动之外,为了实现全自动装卸片,还需要实现基片在基片台与传送机械手之间的转移,也即基片台还能够从机械手上取放基片。现有的传片方式为基片(或基片盘)正面朝上,在基片台中心设计顶升机构,利用顶升机构将基片(或基片盘)从背面顶起一定高度,从而基片与基片台之间形成一定的间隙,方便机械手取放片。这种带顶升机构的可旋转基片台能满足大部分工艺生产需要,但是由于基片采用正面朝上的布置方式,工艺腔室内的膜层颗粒难免会掉落到基片表面,导致良品率降低。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种有利于减少热量损失,便于控温的用于磁控溅射镀膜的基片台。为解决上述技术问题,本专利技术采用以下技术方案:一种用于磁控溅射镀膜的基片台,包括内部带控温液体流道的基片座、以及一端与基片座相连的旋转轴组件,所述旋转轴组件包括由内至外依次布置的内轴、外轴以及隔热套管,所述内轴为中空结构并与所述控温液体 ...
【技术保护点】
1.一种用于磁控溅射镀膜的基片台,包括内部带控温液体流道(1)的基片座(2)、以及一端与基片座(2)相连的旋转轴组件(3),其特征在于:所述旋转轴组件(3)包括由内至外依次布置的内轴(31)、外轴(32)以及隔热套管(33),所述内轴(31)为中空结构并与所述控温液体流道(1)的入口连通,所述外轴(32)与所述内轴(31)之间具有控温液体回流间隙(34),所述控温液体流道(1)的出口与所述控温液体回流间隙(34)连通,所述隔热套管(33)与所述外轴(32)之间具有间隙、且隔热套管(33)两端与所述外轴(32)密封连接,所述隔热套管(33)上设有抽真空接口(331)。
【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射镀膜的基片台,包括内部带控温液体流道(1)的基片座(2)、以及一端与基片座(2)相连的旋转轴组件(3),其特征在于:所述旋转轴组件(3)包括由内至外依次布置的内轴(31)、外轴(32)以及隔热套管(33),所述内轴(31)为中空结构并与所述控温液体流道(1)的入口连通,所述外轴(32)与所述内轴(31)之间具有控温液体回流间隙(34),所述控温液体流道(1)的出口与所述控温液体回流间隙(34)连通,所述隔热套管(33)与所述外轴(32)之间具有间隙、且隔热套管(33)两端与所述外轴(32)密封连接,所述隔热套管(33)上设有抽真空接口(331)。2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射镀膜的基片台,其特征在于:所述隔热套管(33)远离所述基片座(2)的一端内壁与所述外轴(32)外壁之间的距离为d1,隔热套管(33)靠近基片座(2)的一端内壁与所述外轴(32)外壁之间的距离为d2,则d1<d2。3.根据权利要求2所述的用于磁控溅射镀膜的基片台,...
【专利技术属性】
技术研发人员:佘鹏程,龚俊,彭立波,罗超,范江华,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第四十八研究所,
类型:发明
国别省市:湖南,43
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