本发明专利技术提供能够抑制容器内的细菌的繁殖的水供给装置。本发明专利技术的水供给装置的特征在于，具有：装入有水的容器；电解槽，其将装入所述容器的水作为原水并对该原水进行电解，从阴极生成氢，从阳极生成氧；原水供给部，其将装入所述容器的水供给至所述电解槽；富氢水排出部，其将含有所述氢的富氢水排出；返回部，其使所述原水中的至少一部分作为回送水而返回至所述容器；以及细菌抑制部，其对所述容器内的水中的细菌的繁殖进行抑制。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】水供给装置、富氢水供给装置以及富氢水生成方法
本专利技术涉及例如生成用于饮用的富氢水的富氢水生成装置以及富氢水生成方法。
技术介绍
当前，适于饮用的富氢水生成装置得到广泛应用(例如，参照专利文献1)。作为上述富氢水生成装置，自来水利用过滤器对自来水进行过滤而形成高纯度水，并使用该高纯度水作为原水。另外，还存在使用作为原水而装入容器的水作为原水的富氢水生成装置(例如，参照专利文献2)。例如，如图1所示，在这样的富氢水生成装置1000中，暂时利用过滤部1003对从装入有水的容器1001供给的水进行过滤而形成高纯度水，并将该高纯度水作为原水而供给至电解槽1004。在电解槽1004中，在阴极生成含有氢的富氢水并将其供给至贮存箱1006，从而将富氢水贮存于贮存箱1006。在贮存箱1006中，利用用于照射紫外线的UV照射部1007抑制杂菌的繁殖。而且，对于富氢水而言，与使用者借助操作部1009的操作相应地从富氢水供给口1010供给富氢水。另一方面，在电解槽1004的阳极所生成的、含氧的富氧水中，作为氧而含有氧气以及对人体有害的臭氧气体。因此，富氧水被供给至臭氧除去部1011，在将臭氧气体除去的基础上将其排出至排出瓶1020。此外，在富氢水生成装置1000中，通过控制部1005的控制而执行一系列处理。专利文献专利文献1：日本专利第5361325号专利文献2：日本专利第5335741号
技术实现思路
但是，在上述富氢水生成装置中装入至容器内的水在该容器内滞留一定时间以上，因此，存在细菌容易繁殖的问题。本专利技术是为了解决上述问题而提出的，其目的在于，提供一种能够抑制容器内的细菌的繁殖的水供给装置、富氢水供给装置以及富氢水生成方法。本专利技术的水供给装置的特征在于，具有：装入有水的容器；配管，其对装入所述容器的水进行汲取；泵，其形成汲取所述水的动力；水排出部，其将所述水排出；以及细菌抑制部，其对所述容器内的水中的细菌的繁殖进行抑制。另外，本专利技术的富氢水供给装置的特征在于，具有：装入有水的容器；第1配管，其对装入所述容器的水进行汲取；泵，其成为汲取所述水的动力；电解槽，其将装入所述容器的水作为原水并对该原水进行电解，从阴极生成氢，从阳极生成氧；富氢水排出部，其将含有所述氢的富氢水排出；第2配管，其使所述汲取到的水的一部分作为回送水而返回至所述容器；以及细菌抑制部，其对所述容器内的水中的细菌的繁殖进行抑制。并且，本专利技术的富氢水生成方法的特征在于，将装入容器的水作为原水并对所述原水进行电解，从阴极生成氢，从阳极生成氧，将含有所述氢的富氢水从富氢水提供部排出，将所述氧向所述容器供给。另外，本专利技术的水供给装置的特征在于，具有：装入有水的容器；泵，其成为对装入所述容器的水进行汲取的动力；水排出部，其将所述水排出；细菌抑制部，其对所述容器内的水中的细菌的繁殖进行抑制；以及控制部，其对所述细菌抑制部进行控制，所述细菌抑制部是用于照射UV(UltraViolet)的UV照射部，所述控制部进行如下控制，当将所述水排出时，在使UV对所述汲取到的水进行照射之后，将所述水供给至所述水排出部，当未将所述水排出时，在汲取所述容器内的水并使所述UV对其进行照射之后，使水返回至所述容器。专利技术的效果本专利技术能够实现能够抑制容器内的细菌的繁殖的水供给装置、富氢水供给装置以及富氢水生成方法。附图说明图1是表示现有的富氢水生成装置的结构的示意图。图2是表示第1实施方式涉及的富氢水生成装置的结构的示意图。图3是表示电解槽的结构的示意图。图4是表示第2实施方式涉及的富氢水生成装置的结构的示意图。图5是用于说明富氢水供给时的回送水的流动的示意图。图6是用于说明富氢水供给停止时的原水的循环杀菌的示意图。图7是表示其他实施方式涉及的富氢水生成装置的结构(1)的示意图。图8是表示其他实施方式涉及的富氢水生成装置的结构(2)的示意图。图9是表示其他实施方式涉及的富氢水生成装置的结构(3)的示意图。图10是用于说明水杀菌处理流程的流程图。具体实施方式下面参照附图对用于实施本专利技术的方式进行说明。＜第1实施方式＞图2所示的1的整体表示富氢水生成装置。富氢水生成装置1形成为由控制部2统一对富氢水生成装置1的整体进行控制，该控制部2构成为包括未图示的MPU(MicroProcessingUnit)、ROM(ReadOnlyMemory)以及RAM(RandomAccessMemory)。容器3装入有预先利用过滤器等过滤后的高纯度水。作为高纯度水，并不特别限制，但优选有机物、钙、镁等硬度成分为10ppm以下。作为传导率，优选为50μS/cm以下。通过使用这种高纯度水作为原水，无需设置过滤器便能够防止电极、配管的钙化(积垢化)，并且能够提供适于作为饮用水的富氢水。作为电解槽4，只要是能够对高纯度水进行电解而生成含氢的富氢水的结构即可，并未特别限制。例如，如表示电解槽4的剖面的图3所示，可以使用下述电解槽4，即，在透水性的阳极44以及阴极43之间填充有离子交换树脂作为固态的电解质，具有与阳极44相邻地设置有氧透过性的隔膜46(例如，氟类阳离子交换膜)的3槽式的结构。该电解槽4在电解槽4的底面附近设置有对阴极室51供给原水的第1原水供给口41，同样地，在电解槽4的底面附近设置有对阳极室52供给原水的第2原水供给口42。另外，在电解槽4的顶面设置有供富氢水排出的富氢水排出口48，同样地，在电解槽4的顶面设置有供富氧水排出的富氧水排出口49。第1原水供给口41以及富氢水排出口48、和第2原水供给口42以及富氧水排出口49分别设置于对角线上，从原水供给口41以及42供给的原水被电解，并且作为气体的氢以及氧向上侧移动而从富氢水排出口48以及富氧水排出口49高效地排出，可以作为高浓度的富氢水以及富氧水而排出。此外，在本说明书中，氧设为含有氧气(O2)以及臭氧气体(O3)。专利文献1中记载了该电解槽的详情。此外，作为电解槽，只要能够对高纯度水进行电解即可，可以利用其他结构的电解槽。例如，也可以使用专利文献3(日本专利第4601612号)所记载的电解槽。从富氢水排出口48供给的富氢水经由配管而供给至贮存箱6。在贮存箱6设置有水位传感器(未图示)，控制部2根据贮存箱6内的富氢水的剩余量而从容器3向电解槽4供给原水并使电解槽4运转。在贮存箱6的内部设置有照射紫外线的UV(UltraViolet)照射部6A，定期地或者根据富氢水的供给量等而向贮存箱6的内部照射紫外线，由此抑制贮存箱6内部的细菌的繁殖。此外，贮存箱6优选由使得氢难以脱逸的例如铝等形成。另外，还能够形成环流、或进行加压，以使得从富氢水脱逸的氢再次溶入水中。另外，还可以设置如下机构，即，使所贮存的富氢水和氢气一边高速旋转一边进行混合，由此使得贮存电解水中含有包括纳米级的气泡的纳米气泡。例如，专利文献4(日本特开2015-100735号)中记载了该旋转槽的结构。在该旋转槽中，使通过电解而产生的氢中的、未溶解于电解后的水中的氢暂时分离，并使其旋转而再次含有氢，由此能够提高富氢水中的氢浓度。操作部9例如是机械式的旋塞(cock)或电动式的按钮。如果使用者对操作部9进行操作，则设置于对贮存箱6和富氢水提供部10进行连接的配管(未图示)的阀被打开，从富氢水提供部1本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种水供给装置，其特征在于，具有：装入有水的容器；配管，其对装入所述容器的水进行汲取；泵，其成为汲取所述水的动力；水排出部，其将所述水排出；以及细菌抑制部，其对所述容器内的水中的细菌的繁殖进行抑制。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.19 JP 2016-029951;2016.06.11 JP 2016-116721.一种水供给装置，其特征在于，具有：装入有水的容器；配管，其对装入所述容器的水进行汲取；泵，其成为汲取所述水的动力；水排出部，其将所述水排出；以及细菌抑制部，其对所述容器内的水中的细菌的繁殖进行抑制。2.根据权利要求1所述的水供给装置，其特征在于，所述配管具有：供给路径，其与所述水排出部相连；循环路径，其使从所述容器汲取到的水向所述容器返回；以及切换部，其对所述供给路径和所述循环路径进行切换，所述细菌抑制部设置于所述供给路径和所述循环路径的共用部分。3.一种富氢水供给装置，其特征在于，具有：装入有水的容器；第1配管，其对装入所述容器的水进行汲取；泵，其成为汲取所述水的动力；电解槽，其将装入所述容器的水作为原水并对该原水进行电解，从阴极生成氢，从阳极生成氧；富氢水排出部，其将含有所述氢的富氢水排出；第2配管，其使所述汲取到的水的一部分作为回送水而返回至所述容器；以及细菌抑制部，其对所述容器内的水中的细菌的繁殖进行抑制。4.根据权利要求3所述的富氢水供给装置，其特征在于，具有控制部，该控制部对所述细菌抑制部进行控制，进行如下控制，当将所述富氢水排出时，使所述UV对所述回送水进行照射，当未将所述富氢水排出时，汲取所述容器内的水并使所述UV对该水进行照射。5.根据权利要求3或4所述的富氢水供给装置，其特征在于，具有对所述容器内的水进行过滤的过滤部，所述第2配管至少使未利用所述过滤部进行过滤的浓缩水作为所述回送水而返回至所述容器。6.根据权利要求5所述的富氢水供给装置，其特征在于，还具有切换部，该切换部对供给路径和循环路径进行切换，该供给路径从所述第1配管、所述过滤部、所述第2配管通过，该循环路径从所述第1配管、相对于所述第1配管和所述第2配管而分支出的旁通管、以及所述第2配管通过，所述UV设置于所述供给路径和所述循环路径的共用部分，所述控制部进行如下控制，当将所述富氢水排出时，使所述UV对来自所述供给路径的所述回送水进行照射，当未将所述富氢水排出时，使所述UV对来自所述循环路径的循环水进行照射。7.根据权利要求6所述的富氢水供给装置，其特征在于，所述切换部是控制阀，该控制阀通...
【专利技术属性】
技术研发人员：中本义范，
申请(专利权)人：铁克股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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