涂布机构、涂布装置、涂有涂布材料的对象物的制造方法以及基板的制造方法制造方法及图纸

涂布材料容器具有固定部(21b)和容器部(21a)。固定部(21b)构成为能够固定至涂布机构所包括的固定构件(69)。在容器部(21a)的上部和下部设置有供涂布针(24)贯穿的孔(71)和孔(72)。上述容器部(21a)的侧面具有第一凸缘(80)。第一凸缘(80)的下表面与固定部(21b)的上表面接触。在容器部(21a)的侧面上的比第一凸缘(80)低的部分和固定部(21b)的侧面之间设置有间隙。容器部(21a)能够在间隙的范围内水平地移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂布机构、涂布装置、涂有涂布材料的对象物的制造方法以及基板的制造方法
本专利技术涉及一种涂布机构、涂布装置、涂有涂布材料的对象物的制造方法以及基板的制造方法。特别地，本专利技术涉及一种在安装诸如LED(发光二极管)或MEMS(微电子机械系统)等微电子元器件的工序中采用涂布针涂布黏附剂的液滴的涂布机构、涂布装置、涂有涂布材料的对象物的制造方法以及基板的制造方法。
技术介绍
安装LED或MEMS的工序包括为了包装而精细地涂布黏附剂的步骤。作为精细涂布的常规方法，有分配方法和喷墨方法等。使用涂布针的方法也是一种选择，因为这种方法能够精细地涂布粘度范围大的材料。作为采用涂布针进行精细涂布的方法，有采用日本专利特许第4802027号公报(专利文献1)中描述的使用涂布机构的方法。上述涂布机构旨在修正精细图案中的缺陷，并且能够精细地涂布粘度范围大的涂布材料。另一方面，随着电子元件近些年来越变越细微，要求更细微且稳定的涂布量的用途也逐渐增加。例如，需要具有大致数纳升±1纳升的精度的稳定涂布。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特许第4802027号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题但是，在一些情况下，专利文献1中所述的装置不能可靠地满足上述要求。其原因是，在专利文献1所述的装置中，涂布材料容器通过采用涂布材料容器上孔和涂布针轴作为引导件进行定位，并且通过磁铁固定，因而，当涂布材料容器被附连时，涂布针轴可能偏移与附连孔和涂布针轴之间的间隙相应的量。其结果是，涂布量略微发生变化，因而，上述要求无法再得到满足，或者虽然能够满足上述要求，但该要求无法充分地得到满足。因而，本专利技术的目的是提供一种能够当涂布材料容器被附连时防止涂布针轴相对于附连孔偏移的涂布机构、涂布装置、涂有涂布材料的对象物的制造方法以及基板的制造方法。解决技术问题所采用的技术方案为了解决上述问题，本专利技术的涂布机构包括：涂布针；以及涂布材料容器，该涂布材料容器构成为收容并保持涂布材料。上述涂布材料容器具有固定部和容器部。上述固定部构成为能够固定至上述涂布机构所包括的固定构件。在上述容器部的上部和下部设置有供上述涂布针贯穿的孔。上述容器部的侧面具有第一凸缘。上述第一凸缘的下表面与上述固定部的上表面接触。在上述容器部的侧面上的比上述第一凸缘低的部分和上述固定部的侧面之间设置有间隙。上述容器部能够在上述间隙的范围内水平地移动。较为理想的是，上述容器部的侧面具有位于上述第一凸缘下方的第二凸缘。上述第二凸缘的上表面与上述固定部的下表面接触，由此使上述固定部夹在上述第一凸缘和上述第二凸缘之间。本专利技术的涂布装置具有安装于该涂布装置的上述涂布机构。本专利技术的涂有涂布材料的对象物的制造方法使用上述涂布单元和上述涂布装置中的任意一个。本专利技术的基板的制造方法包括：使用上述涂布装置，将涂布材料涂于待涂布材料涂布的基板表面，以绘制上述基板的电路图案。专利技术效果根据本专利技术，能够防止当涂布材料容器被附连时，涂布针轴相对于附连孔移位。附图说明图1是涂布装置的示意立体图。图2的(A)是涂布机构的主视图，图2的(B)的涂布机构的侧视图。图3的(A)和图3的(B)是从侧面观察到的包括凸轮表面的凸缘部的展开图。图4是从侧面观察到的附连于构件的常规涂布材料容器的剖视图。图5表示在使用常规涂布材料容器的情况下，涂布针被放置在正确位置的一例。图6表示在使用常规涂布材料容器的情况下，涂布针被放置在偏置位置的一例。图7表示在使用常规涂布材料容器的情况下，涂布针被放置在偏置位置的另一例。图8的(A)是从侧面观察到的、附连于构件的第一实施方式中的涂布材料容器的剖视图，图8的(B)示出了从底部观察到的上述涂布材料容器。图9表示在使用第一实施方式中的涂布材料容器的情况下，涂布针被放置在偏置位置的一例。图10表示容器部已经从图9所示的状态移动至右侧的状态。图11的(A)是从侧面观察到的、附连于构件的第二实施方式中的涂布材料容器的剖视图，图11的(B)示出了从底部观察到的上述涂布材料容器。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行描述。第一实施方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行描述。在以下说明中，对相同的部件标注相同的符号。它们的名称和功能也相同。因而，不重复进行上述构件的详细说明。涂布装置的整体构造图1是根据本专利技术一实施方式的涂布装置200的示意立体图。参照图1，本专利技术的第一实施方式中的涂布装置200包括：配置于地面的基座12；X轴工作台1；Y轴工作台2；Z轴工作台3；涂布机构4；观察光学系统6；与观察光学系统6连接的CCD相机7；以及控制器11。以能够在图1中的Y轴方向上移动的方式构成的Y轴工作台2被放置在基座12的上表面上。具体而言，引导部被放置在Y轴工作台2的下表面上，并且以能够沿着放置在基座12的上表面上的导轨滑动的方式连接。滚珠丝杠也连接至Y轴工作台2的下表面。通过诸如马达这样的驱动构件对滚珠丝杠进行操作，Y轴工作台2能够沿导轨(在Y轴方向上)移动。Y轴工作台2的上表面部是供基板5安装的安装面，该基板5是涂有涂布材料的对象物。以延伸并穿过Y轴工作台2的导轨的方式放置的门型结构设置在基座12上。能够在X轴方向上移动的X轴工作台1安装在上述结构上。X轴工作台1能够通过例如滚珠丝杠在X轴方向上移动。Z轴工作台3安装在X轴工作台1的移动体上，并且涂布机构4和观察光学系统6安装在Z轴工作台3上。涂布机构4和观察光学系统6能够与Z轴工作台3一起在X轴方向上移动。涂布机构4被设置成使用设置于涂布机构4中的涂布针，将涂布材料涂在基板5的待涂布材料涂布的表面(上表面侧)上。观察光学系统6被设置成对基板5的待涂布材料涂布的涂布位置进行观察。观察光学系统6的CCD相机7将观察到的图像转换成电信号。Z轴工作台3以使涂布机构4和观察光学系统6能够在Z轴方向上移动的方式对涂布机构4和观察光学系统6进行支承。控制单元11包括控制面板8、监测器9以及控制计算机10。控制单元11对X轴工作台1、Y轴工作台2、Z轴工作台3、涂布机构4以及观察光学系统6进行控制。控制面板8用于向控制计算机10输入指令。监测器9将通过观察光学系统6的CCD相机7转换而成的图像数据显示，并且将从控制计算机10输出的数据显示。当从一开始要在基板5上形成电路图案时，或是当形成在基板5上的电路图案中的缺陷部分被修复时，使用X轴工作台1和Y轴工作台2，使基板5的涂有涂布材料的绘制位置移动至观察光学系统6正下方的位置，使用观察光学系统6观察并确认绘制开始位置，以确定该绘制开始位置。接着，基于所确定的绘制开始位置绘制电路图案。使用X轴工作台1和Y轴工作台2，使基板5从绘制开始位置移动，使得绘制位置位于涂布机构4的正下方。当移动完成时，驱动涂布机构4以涂布液体材料。能够通过连续重复地进行上述动作，来绘制上述电路图案。涂布针24的下降端位置与观察光学系统6的对焦位置之间的关系被预先储存，并且在绘制时，使用Z轴工作台，使由观察光学系统6进行对焦的图像的位置移动到涂布针24在Z轴方向上与基板5接触的高度，然后，进行涂布材料的涂布。当绘制好的电路图案的面积较大且在绘制过程中供涂布材料涂布的基板5的基板表面高度显著变化时，根据需要确认绘制期间的对焦位置并且修正Z轴方向上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂布机构，包括：涂布针；以及涂布材料容器，该涂布材料容器构成为收容并保持涂布材料，所述涂布材料容器具有固定部和容器部，所述固定部构成为能够固定至所述涂布机构所包括的固定构件，在所述容器部的上部和下部设置有供所述涂布针贯穿的孔，所述容器部的侧面具有第一凸缘，所述第一凸缘的下表面与所述固定部的上表面接触，在所述容器部的侧面上的比所述第一凸缘低的部分和所述固定部的侧面之间设置有间隙，并且所述容器部能够在所述间隙的范围内水平地移动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.27 JP 2016-0130031.一种涂布机构，包括：涂布针；以及涂布材料容器，该涂布材料容器构成为收容并保持涂布材料，所述涂布材料容器具有固定部和容器部，所述固定部构成为能够固定至所述涂布机构所包括的固定构件，在所述容器部的上部和下部设置有供所述涂布针贯穿的孔，所述容器部的侧面具有第一凸缘，所述第一凸缘的下表面与所述固定部的上表面接触，在所述容器部的侧面上的比所述第一凸缘低的部分和所述固定部的侧面之间设置有间隙，并且所述容器部能够在所述间隙的范围内水平地移动。2.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：山中昭浩，
申请(专利权)人：NTN株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP