气体喷射装置、衬底加工设施以及衬底加工方法制造方法及图纸

技术编号:19025249 阅读:30 留言:0更新日期:2018-09-26 19:32
一种气体喷射装置、包括气体喷射装置的衬底加工设施、及使用衬底加工设施来加工衬底的方法。根据本发明专利技术实施例的一种气体喷射装置包括:喷射部件,在衬底的宽度方向上设置并对齐在位于所述衬底的外侧的一侧上,且具有多个喷嘴,所述多个喷嘴用于朝所述衬底喷射气体;以及喷射控制单元,用于自动地控制以下中的至少一者:是否多个喷嘴中的每一者均喷射气体,使得通过所述多个喷嘴喷射的所述气体在所述衬底的所述宽度方向上的气体密度分布变为目标气体密度分布类型。因此,根据本发明专利技术的实施例,使用多种类型的工艺类型或多种类型的气体密度分布类型使得易于施行所述工艺,且用于调整所述多个喷嘴的开启或关闭操作的时间可缩短。

【技术实现步骤摘要】
气体喷射装置、衬底加工设施以及衬底加工方法
本专利技术涉及一种气体喷射装置、包括所述装置的衬底加工设施、及使用所述设施来加工衬底的方法,且更具体来说涉及一种能够轻易地控制衬底上的气体密度分布的气体喷射装置、包括所述装置的衬底加工设施、及使用所述设施来加工衬底的方法。
技术介绍
使用工艺气体来加工衬底的衬底加工装置大体包括:腔室,具有内部空间;平台,设置在所述腔室中且将所述衬底安放在所述平台的上部部分上;发光单元,被定位成面对平台的上侧并发射光以对安放在所述平台上的衬底执行热处理;以及多个喷嘴,在一个方向上对齐及设置以对应于衬底的延伸方向且从平台的上侧朝所述衬底喷射气体。同时,根据所要执行的衬底加工工艺,在衬底的延伸方向上从所述衬底的上侧开始的气体密度分布可为不同的。举例来说,衬底的边缘区中的气体密度可低于所述衬底的中心区中的气体密度,或者相反,所述衬底的边缘的气体密度可高于所述衬底的中心区的气体密度。为控制此种气体密度分布,应将多个喷嘴中的一些喷嘴打开以喷射气体,且应将一些喷嘴关断以不喷射气体。然而,在现有技术中,存在工艺切换效率及生产率由于根据所要加工的工艺类型对多个喷嘴中的每一者进行手动打开及关断控制而降低的问题。[现有技术文献][专利文献](专利文献1)韩国专利申请公开第10-2016-0122523号
技术实现思路
本专利技术提供一种能够轻易地控制气体密度分布的气体喷射装置、包括所述装置的衬底加工设施、及使用所述设施来加工衬底的方法。根据示例性实施例,一种气体喷射装置包括:喷射部件,在衬底的宽度方向上对齐并设置在位于所述衬底的外侧的一侧上,且具有多个喷嘴,所述多个喷嘴朝所述衬底喷射气体;喷射控制单元,被配置成自动地控制以下中的至少一者:是否所述多个喷嘴中的每一者均喷射气体,以及使得通过所述多个喷嘴喷射的所述气体在所述衬底的所述宽度方向上的气体密度分布变为目标气体密度分布。在实施例中,所述喷射控制单元可包括:气体密度分布类型存储部件,被配置成存储不同的气体密度分布类型;喷射类型存储部件,被配置成存储能够实现所述多个气体密度分布类型中的每一者的多个喷射控制类型;以及喷射控制部件,根据所要执行的衬底工艺,被配置成选择所述气体密度分布类型存储部件中的所述气体密度分布类型中的一者、以及选择所述喷射类型存储部件中的一个喷射控制类型以使得实现所选择的所述气体密度分布类型,且控制所述喷射部件的操作以进行控制来使得所述喷射部件变为所选择的所述喷射控制类型。在实施例中,所述喷射控制单元可包括存储多个不同工艺类型的工艺类型存储部件,且所述喷射控制部件可选择所述工艺类型存储部件中的工艺类型中的任一者并可选择所述气体密度分布类型存储部件中的所述气体密度分布类型中的任一者以执行所选择的所述工艺类型。在实施例中,所述喷射部件可包括:喷射区块,设置在位于所述衬底的外侧的一侧上,通过在所述衬底的所述宽度方向上延伸而形成,且所述多个喷嘴设置在所述喷射区块中;多个供应管道,被配置成将气体分别供应到所述多个喷嘴中的每一者;以及喷射阀门,安装在所述多个供应管道中的每一者上,以控制所述供应管道与所述喷嘴之间的连通、以及气体量。在实施例中,所述喷射控制部件可与所述喷射阀门联锁,以根据所选择的所述喷射控制类型来控制所述多个喷射阀门中的每一者的操作。在实施例中,所述气体喷射装置还可包括:输送部件,被配置成将气体输送到所述多个供应管道中的每一者;壳体,被设置成在所述输送部件的延伸路径的至少一个位置上容纳所述输送部件的至少一部分;传感器,安放在所述壳体上以感测所述壳体内的所述气体,且从而监测所述气体是否从所述输送部件泄露。根据另一示例性实施例,一种衬底加工设施包括:安放部分,将衬底安放在其一个表面上;加热单元,面对所述安放部分以提供热量来加热所述衬底;以及气体喷射装置,设置在所述安放部分的上表面之上,被设置成定位在安放于所述安放部分上的所述衬底的外侧的一侧上,具有朝所述衬底喷射气体的多个喷嘴,且所述气体喷射装置自动地控制以下中的至少一者:是否从所述多个喷嘴中的每一者喷射所述气体、以及所述多个喷嘴中的每一者的气体喷射量。在实施例中,所述气体喷射装置可包括:喷射部件,连接到所述多个喷嘴及所述多个喷嘴中的每一者,具有多个阀门,所述多个阀门被配置成控制以下中的至少一者:所述气体是否从所述多个喷嘴中的每一者喷射、以及所述多个喷嘴中的每一者的气体喷射量;气体密度分布类型存储部件,被配置成存储不同的气体密度分布类型;喷射类型存储部件,被配置成存储能够实现所述多个气体密度分布类型中的每一者的多个喷射控制类型;以及喷射控制部件,被配置成在所述气体密度分布类型存储部件中根据所要执行的衬底工艺来选择所述气体密度分布类型中的任一者,并从所述喷射类型存储部件中选择所述喷射控制类型中的一者以实现所选择的所述气体密度分布类型,且控制所述喷射部件的操作以进行控制而使得所述喷射部件变为所选择的所述喷射控制类型。在实施例中,所述喷射部件可包括:喷射区块,设置在位于所述衬底的外侧的一侧上,通过在所述衬底的宽度方向上延伸而形成,且所述多个喷嘴设置于所述喷射区块中;以及多个供应管道,分别连接到所述多个喷嘴中的每一者,以将气体供应到所述多个喷嘴中的每一者,其中所述多个喷射阀门分别安放在所述多个供应管道上,且所述喷射控制部件与所述喷射阀门联锁以根据所选择的所述喷射控制类型来控制所述多个喷射阀门中的每一者的操作。在实施例中,所述衬底加工设施还可包括:输送部件,被配置成将所述气体输送到所述多个供应管道中的每一者;壳体,被设置成在所述输送部件的延伸路径的至少一个位置上容纳所述输送部件的至少一部分;传感器,安放在所述壳体上以感测所述壳体内的所述气体,且从而监测从所述输送部件泄露的所述气体。在实施例中,所述安放部分可包括:平台,将所述衬底安放在所述平台的上侧上;以及盖构件,与所述平台的所述上侧间隔开,且具有开口以至少暴露出安放在所述平台上的所述衬底,且其中所述喷射部件可从所述平台的所述上侧定位在所述盖构件的一侧上;可设置有排放部件,所述排放部件可被设置成位于所述安放部分的另一外侧面对所述喷射区块,以排放气体;所述平台的一侧与所述盖构件之间的间隔空间可为气体供应通道,从所述喷射部件喷射的所述气体通过所述气体供应通道在所述衬底的定位方向上供应;且所述平台的另一侧与所述盖构件之间的间隔空间可为气体排放通道,穿过所述衬底的上侧的所述气体通过所述气体排放通道在所述排放部件的定位方向上被排放出。在实施例中,所述加热单元可包括多个灯,所述多个灯被定位成与所述安放部分的上侧相对以在至少一个方向上对齐,并发射光。在实施例中,所述加热单元可包括定位于所述多个灯与所述安放部分之间的窗口。根据又一示例性实施例,一种加工衬底的方法包括:将衬底安放在安放部分上;以及从设置在位于所述衬底的外侧的一侧上的多个喷嘴朝所述衬底喷射气体,以处理所述衬底,其中所述从所述多个喷嘴朝所述衬底喷射所述气体可被控制成使得在所述衬底的宽度方向上的气体密度分布变为通过所述多个喷嘴喷射的所述气体的预先存储的多个气体密度分布类型中的一者。在实施例中,所述从所述多个喷嘴朝所述衬底喷射所述气体可包括:选择在气体密度分布类型存储部件中存储的多个气体密度分布类型本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体喷射装置,其特征在于,包括:喷射部件,在衬底的宽度方向上对齐并设置在位于所述衬底的外侧的一侧上,且具有多个喷嘴,所述多个喷嘴被配置成朝所述衬底喷射气体;以及喷射控制单元,被配置成自动地控制以下中的至少一者:所述多个喷嘴中的每一者均喷射气体、以及所述多个喷嘴中的每一者的气体喷射量,使得通过所述多个喷嘴喷射的所述气体在所述衬底的所述宽度方向上的气体密度分布变为目标气体密度分布类型。

【技术特征摘要】
2017.03.07 KR 10-2017-00290011.一种气体喷射装置,其特征在于,包括:喷射部件,在衬底的宽度方向上对齐并设置在位于所述衬底的外侧的一侧上,且具有多个喷嘴,所述多个喷嘴被配置成朝所述衬底喷射气体;以及喷射控制单元,被配置成自动地控制以下中的至少一者:所述多个喷嘴中的每一者均喷射气体、以及所述多个喷嘴中的每一者的气体喷射量,使得通过所述多个喷嘴喷射的所述气体在所述衬底的所述宽度方向上的气体密度分布变为目标气体密度分布类型。2.根据权利要求1所述的气体喷射装置,其特征在于,所述喷射控制单元包括:气体密度分布类型存储部件,被配置成存储不同的气体密度分布类型;喷射类型存储部件,被配置成存储能够实现所述多个气体密度分布类型中的每一者的多个喷射控制类型;以及喷射控制部件,根据所要执行的衬底工艺,被配置成选择所述气体密度分布类型存储部件中的所述气体密度分布类型中的一者、以及选择所述喷射类型存储部件中的一个所述喷射控制类型以使得实现所选择的所述气体密度分布类型,且控制所述喷射部件的操作以进行控制来使得所述喷射部件变为所选择的所述喷射控制类型。3.根据权利要求2所述的气体喷射装置,其特征在于,所述喷射控制单元包括存储多个不同工艺类型的工艺类型存储部件,且所述喷射控制部件选择所述工艺类型存储部件中的工艺类型中的任一者并选择所述气体密度分布类型存储部件中的所述气体密度分布类型中的任一者以执行所选择的所述工艺类型。4.根据权利要求1到3中任一项所述的气体喷射装置,其特征在于,所述喷射部件包括:喷射区块,设置在位于所述衬底的所述外侧的所述一侧上,通过在所述衬底的所述宽度方向上延伸而形成,且所述多个喷嘴设置在所述喷射区块中;多个供应管道,分别连接到所述多个喷嘴,且被配置成将气体分别供应到所述多个喷嘴;以及喷射阀门,安装在所述多个供应管道中的每一者上,且被配置成控制所述供应管道与所述多个喷嘴之间的连通、以及气体量。5.根据权利要求4所述的气体喷射装置,其特征在于,所述喷射控制部件与所述喷射阀门联锁,以根据所选择的所述喷射控制类型来控制所述多个喷射阀门中的每一者的操作。6.根据权利要求4所述的气体喷射装置,其特征在于,还包括:输送部件,被配置成将气体输送到所述多个供应管道中的每一者;壳体,被设置成在所述输送部件的延伸路径的至少一个位置上容纳所述输送部件的至少一部分;以及传感器,安装在所述壳体上以感测所述壳体内的所述气体,且从而监测所述气体是否从所述输送部件泄露。7.一种衬底加工设施,其特征在于,包括:安放部分,被配置成将衬底安放在所述安放部分的一个表面上;加热单元,被定位成面对所述安放部分并被配置成提供热量来加热所述衬底;以及气体喷射装置,设置在所述安放部分的上表面之上,被装设成定位在安放于所述安放部分上的所述衬底的外侧的一侧上,具有朝所述衬底喷射气体的多个喷嘴,并自动地控制以下中的至少一者:从所述多个喷嘴中的每一者喷射所述气体、以及所述多个喷嘴中的每一者的气体喷射量,使得通过所述多个喷嘴喷射的所述气体在所述衬底的宽度方向上的气体密度分布变为多个预先存储的气体密度分布类型中的目标气体密度分布类型。8.根据权利要求7所述的衬底加工设施,其特征在于,所述气体喷射装置包括:喷射部件,连接到所述多个喷嘴,且具有多个阀门,所述多个阀门被配置成控制以下中的至少一者:所述气体从所述多个喷嘴中的每一者喷射、以及所述多个喷嘴中的每一者的气体喷射量;气体密度分布类型存储部件,被配置成存储不同的气体密度分布类型;喷射类型存储部件,被配置成存储能够实现所述多个气体密度分布类型中的每一者的多个喷射控制类型;以及喷射控制部件,被配置成在所述气体密度分布类型存储部件中根据所...

【专利技术属性】
技术研发人员:池尙炫金昌敎
申请(专利权)人:AP系统股份有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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