盥洗台下柜制造技术

技术编号:19013251 阅读:19 留言:0更新日期:2018-09-26 16:31
本发明专利技术涉及一种盥洗台下柜,所述盥洗台下柜包括:盥洗装置,具有洗脸盆、用于向所述洗脸盆供水的供水组件、以及用于排出供应到所述洗脸盆的水的排水组件;内箱体,配置于所述洗脸盆的下侧,在所述内箱体的内部形成有空间;模块,配置于所述内箱体的内部空间,以电方式运转;外箱体,覆盖所述内箱体的外侧;以及,框架,紧固连接所述内箱体和所述外箱体,支撑所述盥洗装置的荷重。

Washroom counter

The invention relates to a wash-table lower cabinet, which comprises a wash-basin, a water supply component for supplying water to the wash-basin, and a drainage component for discharging water supplied to the wash-basin; an inner box body arranged at the lower side of the wash-basin and formed within the inner box body. There is space; the module is arranged in the inner space of the inner box and operates electrically; the outer box covers the outer side of the inner box; and the frame fastens the inner box and the outer box to support the load of the washing device.

【技术实现步骤摘要】
盥洗台下柜
本专利技术涉及一种利用盥洗台的下部空间的盥洗台下柜,更具体地,涉及一种在内部容纳有模块的盥洗台下柜。
技术介绍
在浴室中,用于整理浴室用品的收纳空间相对不足,因此可以利用盥洗台的上侧或下侧的空间,以下柜或上柜的方式,形成收纳空间来进行管理。通常下柜将盥洗台的下侧的空间用作收纳空间,一般形成有收纳空间。然而,下柜作为安装于潮湿环境的浴室的结构,容易暴露于水分中,因此存在内部的收纳空间容易被污染的问题。此外,在下柜的内部空间容纳有用于供水/排水的装置,因此还存在如下问题,即,由于从供水/排水装置流出的水,下柜的内部空间容易被污染。另外,下柜配置于盥洗台的下侧,在支撑盥洗台的同时在下柜的内部形成空间的情况下,由于盥洗台的荷重或外部的影响,存在可能使内部的收纳空间容易变形的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种盥洗台下柜,能够安全地管理收纳空间。本专利技术的另一个目的在于提供一种盥洗台下柜,在盥洗台下柜的内部形成收纳空间,并稳定地支撑盥洗台。本专利技术不限于上述提及的问题,本领域技术人员可根据下面的记载,明确未提及的其他问题。作为用于解决上述问题的手段,本专利技术的盥洗台下柜包括:盥洗装置,具有洗脸盆、用于向所述洗脸盆供水的供水组件、以及用于排出供应到所述洗脸盆的水的排水组件;内箱体,配置于所述洗脸盆的下侧,在所述内箱体的内部形成有空间;模块,配置于所述内箱体的内部空间,以电方式运转;外箱体,覆盖所述内箱体的外侧;以及,框架,紧固连接所述内箱体和所述外箱体,支撑所述盥洗装置的荷重。由此,能够支撑盥洗装置,并能够防止配置于内箱体的内部的模块被污染的情况。在本专利技术的盥洗台下柜的内箱体的上部面,形成有格子型的加强突出部,还包括分区块,所述分区块将所述内箱体的所述模块容纳部划分为多个空间,所述分区块以插入形成于内箱体的内部的槽的方式,与所述内箱体相结合。由此,能够加强内箱体的内部的刚性。本专利技术的盥洗台下柜的框架形成为,包围所述内箱体的周围的四边形环状,框架的截面形成为,在所述框架的内部形成空间的字形,所述框架分为配置于内箱体的前方的前方框架、配置于内箱体的后方的后方框架。由此,能够能够加强盥洗台下柜的整体的刚性。本专利技术的盥洗台下柜的所述外箱体包括:侧面-外箱体,配置于所述内箱体的两侧面,后部面-外箱体,配置于所述内箱体的后部面,以及,底座-外箱体,配置于所述内箱体的下部面;在所述后部面-外箱体形成有外部连接部,所述供水组件和所述排水组件的一部分结构配置于所述外部连接部。在外部连接部的下部配置有支撑构件,所述支撑构件保持所述内箱体的后部面与所述后部面-外箱体之间的间隔。由此,能够加强盥洗台下柜的刚性。本专利技术具有如下效果。第一,本专利技术的盥洗台下柜包括内箱体和外箱体,在内箱体单独地形成用于容纳模块的空间,由此双重地阻断外部污染,而且在内箱体的内部也形成单独的模块容纳部,该模块容纳部将用于容纳模块的空间与用于配置盥洗装置的空间分开。由此具有如下优点:能够从外部污染中有效地管理容纳于内部的模块。第二,本专利技术的盥洗台下柜包括内箱体、外箱体以及框架,在盥洗台下柜的内部形成容纳空间,并且保持整体结构的刚性。由此,具有能够稳定地管理容纳于内部的模块的优点。附图说明图1是本专利技术的一实施例的盥洗台下柜的立体图。图2是本专利技术的一实施例的盥洗台下柜的后部面的立体图。图3是沿图1的线Ⅲ-Ⅲ’截取的剖视图。图4是本专利技术的一实施例的内箱体的立体图。图5是表示本专利技术的一实施例的框架、内箱体和下柜腿结合的状态的图。图6是本专利技术的一实施例的内箱体、框架和分区块结合的图。图7是图6的主视图。图8是本专利技术的一实施例的内箱体、框架、外箱体和下柜腿的分解图。图9是表示本专利技术的一实施例的除去模块后的盥洗台下柜的图。其中,附图标记说明如下:10:盥洗台下柜22:洗脸盆24:供水阀28:弹出阀40:空气调节装置50:第一模块60:第二模块70:第三模块80:上侧盖84:下柜腿100:内箱体122:模块容纳部124:外部连接部126:分区块140:框架142:主框架150:子框架160:外箱体168:贯通孔具体实施方式下面,参照附图,对于本专利技术的实施例的盥洗台下柜10进行说明。图1是本专利技术的一实施例的盥洗台下柜的立体图。图2是本专利技术的一实施例的盥洗台下柜的后部面的立体图。图3是沿图1的线Ⅲ-Ⅲ’截取的剖视图。下面,参照图1至图3,说明本实施例的盥洗台下柜的整体结构。本专利技术的盥洗台下柜10包括:盥洗装置,具有洗脸盆、用于向所述洗脸盆供水的供水组件、以及用于排出供应到所述洗脸盆的水的排水组件;内箱体100,配置于所述洗脸盆的下侧,在该内箱体100的内部形成有空间;模块,配置于所述内箱体的内部空间,以电方式运转;外箱体160,覆盖所述内箱体的外侧;以及,框架140,紧固连接所述内箱体和所述外箱体,支撑所述盥洗装置的荷重。参照图1,在本实施例的盥洗台下柜10中,将向箱体的外部取出模块的方向称作前方,将前方的相反方向称作后方,将配置有洗脸盆22的方向称作上方,将配置有下柜腿的方向称作下方。这是为了便于说明,并不限制专利技术的范围。盥洗装置是配置于卫生间或盥洗室的墙面来清洗手部或脸部的装置。盥洗装置包括:洗脸盆22,盛放能够洗脸的水;供水组件,向所述洗脸盆22供水;以及,排水组件,排出供应到所述洗脸盆22的水。洗脸盆22可以使用珐琅盥洗台、陶瓷盥洗台等。在本实施例中,优选使用:在形态上可实现多种变形、且盥洗台的下部容易与箱体结合的珐琅盥洗台。洗脸盆22配置于盥洗台下柜10的上部。供水组件包括:供水阀24,以向洗脸盆22供水的方式进行开闭;供水软管26,向所述供水阀24供水。供水阀24配置在洗脸盆22的一侧,来向洗脸盆22供水。供水软管26可以包括用于供应热水的热水软管、用于供应冷水的冷水软管。供水组件还可以包括用于净化流入供水软管26的水的净水过滤器76。净水过滤器76净化通过供水阀24排出到洗脸盆22的水。排水组件包括:排水管30,向外部排出存储在洗脸盆22的水;弹出阀28,将水存储在洗脸盆22,或将盛放的水输送到排水管30。在洗脸盆22的下侧,配置有用于形成盥洗台下柜10的外形的箱体。箱体保持盥洗台下柜10的刚性,在该箱体的内部提供用于容纳模块的空间。本实施例的箱体的内部所容纳的模块,可以是以电方式运转的装置,本实施例的箱体的内部为中空,箱体的前部面开放。本实施例的箱体包括:内箱体100,在该内箱体100的内部容纳模块;外箱体160,配置在内箱体100的外部,来保持刚性。在本实施例的盥洗台下柜10的内部配置的模块,可以区分为配置于内箱体100的内部的内部模块(或者模块50、60)、配置于内箱体的外部的附加模块70。本实施例的盥洗台下柜10包括内箱体100和外箱体160,从而双重地阻断水流入容纳在内箱体100的内部的模块。内箱体100和外箱体160可由框架140连接。下面,详细说明用于构成盥洗台下柜10结构的内箱体100、外箱体160和框架140。本实施例的盥洗台下柜10还可以包括:空气调节装置40,向连接到所述箱体的内部的吐出口吐出空气;第一模块50,配置于所述箱体的内部,利用所述空气调节装置40所吐出的空气,对容纳在该第一模块50的内部的用具进行干燥;以及,第二模块本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种盥洗台下柜,其中,包括:盥洗装置,具有洗脸盆、用于向所述洗脸盆供水的供水组件、以及用于排出供应到所述洗脸盆的水的排水组件;内箱体,配置于所述洗脸盆的下侧,在所述内箱体的内部形成有空间;外箱体,覆盖所述内箱体的外侧;以及,框架,紧固连接所述内箱体和所述外箱体,支撑所述盥洗装置的荷重。

【技术特征摘要】
2017.03.08 KR 10-2017-00297401.一种盥洗台下柜,其中,包括:盥洗装置,具有洗脸盆、用于向所述洗脸盆供水的供水组件、以及用于排出供应到所述洗脸盆的水的排水组件;内箱体,配置于所述洗脸盆的下侧,在所述内箱体的内部形成有空间;外箱体,覆盖所述内箱体的外侧;以及,框架,紧固连接所述内箱体和所述外箱体,支撑所述盥洗装置的荷重。2.根据权利要求1所述的盥洗台下柜,其中,包括至少一个模块,所述至少一个模块配置于所述内箱体的内部空间,以电方式运转。3.根据权利要求1所述的盥洗台下柜,其中,所述内箱体具有前部面开放的盒子形结构,从开放的所述前部面容纳以电方式运转的模块。4.根据权利要求1所述的盥洗台下柜,其中,在所述内箱体的上部面,形成有格子型的加强突出部。5.根据权利要求2所述的盥洗台下柜,其中,在以所述内箱体的后部面为基准时,在所述内箱体的前方形成有用于容纳所述模块的模块容纳部,在所述内箱体的后方形成有用于与外部连通的外部连接部。6.根据权利要求5所述的盥洗台下柜,其中,在所述内箱体的后部面形成有连通孔,所述连通孔使所述模块的内部与所述外部连接部连通。7.根据权利要求5所述的盥洗台下柜,其中,在所述外部连接部配置有所述供水组件和所述排水组件的一部分结构。8.根据权利要求5所述的盥洗台下柜,其中,还包括分区块,所述分区块将所述内箱体的所述模块容纳部划分为多个空间,所述分区块以插入形成于所述内箱体的内部的槽的方式,与所述内箱体相结合。9.根据权利要求1所述的盥洗台下柜,其中,还包括附加模块,所述附加模块配置于所述内箱体和所述洗脸盆之间,在...

【专利技术属性】
技术研发人员:金钟锡杨仁亨朴大润
申请(专利权)人:LG电子株式会社
类型:发明
国别省市:韩国,KR

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1