基于色阻颜色的对位方法及对位系统技术方案

技术编号:19009970 阅读:66 留言:0更新日期:2018-09-22 09:44
本发明专利技术公开了一种基于色阻颜色的对位方法及对位系统,所述方法包括:S1、获取各子色阻在光源下的光阻特征值,根据光阻特征值设定画素阙值;S2、根据画素阙值对画素进行二值化处理,得到二值化画素;S3、根据二值化画素计算对位位置,根据对位位置进行色阻的对位。本发明专利技术可有效避免COA产品金属线和图形形貌的干扰,提升COA产品量测稳定性;可应对多种形态像素对位,测量位置计算逻辑可编辑,像素不规则时,可选用合理逻辑定义测量位置;二值化处理,可突显色阻特征,颜色识别准确性高。

Counterpoint method and counterpoint system based on color resistance color

The invention discloses a method and a system of color-resistance-based alignment. The method comprises: S1, acquiring the light-resistance characteristic values of each sub-color-resistance under the light source, setting the picture element threshold value according to the light-resistance characteristic value, S2, binarizing the picture element according to the picture element threshold value, obtaining the binarized picture element; The element calculates the counterpart position and carries out the color blocking counterpoint according to the position of the counterpart. The invention can effectively avoid the interference of the metal line and the graphical morphology of the COA product and improve the measurement stability of the COA product; can deal with the alignment of pixels of various shapes, the calculation logic of the measurement position can be edited, and the measurement position can be reasonably defined when the pixels are irregular; the binary processing can highlight the color resistance characteristics, and the color recognition is accurate. High sex.

【技术实现步骤摘要】
基于色阻颜色的对位方法及对位系统
本专利技术涉及液晶显示
,特别是涉及一种基于色阻颜色的对位方法及对位系统。
技术介绍
面板行业的彩膜(CF:ColorFilter)工艺过程中,红色R、绿色G、蓝色B的色饱和度(简称色度)是LCD产品光学特性的重要参数,直接影响客户体验,故各工艺环节均需进行不同色阻色度监控。目前量测特定色阻色度时,依靠图形比对(patternmatch)进行定位,由于受COA产品金属线和图形形貌的干扰,容易发生图形抓取错误的情况,定位准确性较低,导致量测数据波动严重,影响制程判断,出现批量异常的风险非常高。为了进行色度有效监控,提升色阻定位准确性是面临的首要难题。因此,针对上述技术问题,有必要提供一种基于色阻颜色的对位方法及对位系统。
技术实现思路
为克服现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种LCD显示面板及其制造方法。为了实现上述目的,本专利技术一实施例提供的技术方案如下:一种基于色阻颜色的对位方法,所述方法包括:S1、获取各子色阻在光源下的光阻特征值,根据光阻特征值设定画素阙值;S2、根据画素阙值对画素进行二值化处理,得到二值化画素;S3、根据二值化画素计算对位位置,根据对位位置进行色阻的对位。作为本专利技术的进一步改进,所述步骤S2中的二值化处理为:全局固定二值化处理或局部自适应二值化处理。作为本专利技术的进一步改进,所述全局固定二值化处理具体为:按照画素阙值T1将整个画素上的各个像素点的灰度值设置为0或255;若像素点的像素值大于画素阙值T1则将该像素点的像素值设置为255,否则将该像素点的像素值设置为0。作为本专利技术的进一步改进,所述局部自适应二值化处理具体为:根据像素点所在窗口的像素局部特征计算该像素点对应的画素阙值T2;若该像素点的像素值大于画素阙值T2则将该像素点的像素值设置为255,否则将该像素点的像素值设置为0。作为本专利技术的进一步改进,所述局部自适应二值化中画素阙值T2为:T2=a*E+b*P+c*Q;其中,a、b、c是自由参数,E为窗口中像素值的平均值,P为窗口中像素值之间的差平方,Q为窗口中像素值之间的均方根值。作为本专利技术的进一步改进,所述步骤S3中二值化画素计算对位位置具体为:根据二值化画素的形状确定其几何重心位置,以几何重心位置作为该二值化画素的对位位置。作为本专利技术的进一步改进,所述色阻包括红色子色阻、绿色子色阻、蓝色子色阻。作为本专利技术的进一步改进,所述画素阙值根据红色子色阻的光阻特征值进行设定。本专利技术另一实施例提供的技术方案如下:一种基于色阻颜色的对位系统,所述系统包括:阙值设定单元,获取各子色阻在光源下的光阻特征值,根据光阻特征值设定画素阙值;画素处理单元,用于根据画素阙值对画素进行二值化处理,得到二值化画素;定位单元,用于根据二值化画素计算对位位置,根据对位位置进行色阻的对位。作为本专利技术的进一步改进,所述画素处理单元还用于根据画素阙值对画素进行全局固定二值化处理或局部自适应二值化处理,得到二值化画素。本专利技术具有以下优点:可有效避免COA产品金属线和图形形貌的干扰,提升COA产品量测稳定性;可应对多种形态像素对位,测量位置计算逻辑可编辑,像素不规则时,可选用合理逻辑定义测量位置;二值化处理,可突显色阻特征,颜色识别准确性高。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术基于色阻颜色的对位方法的流程示意图。图2为本专利技术基于色阻颜色的对位系统的模块示意图。图3a、3b、3c分别为本专利技术一实施例中原始画素、根据画素阙值处理后的画素、及二值化处理后的画素的示意图。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本专利技术中的技术方案,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本专利技术保护的范围。参图1所示,本专利技术公开了一种基于色阻颜色(PixelColor)的对位方法,该包括以下步骤:S1、获取各子色阻在光源下的光阻特征值,根据光阻特征值设定画素阙值;S2、根据画素阙值对画素进行二值化处理,得到二值化画素;S3、根据二值化画素计算对位位置,根据对位位置进行色阻的对位。相应地,参图2所示,本专利技术还公开了一种基于色阻颜色的对位系统,该系统包括:阙值设定单元10,获取各子色阻在光源下的光阻特征值,根据光阻特征值设定画素阙值;画素处理单元20,用于根据画素阙值对画素进行二值化处理,得到二值化画素;定位单元30,用于根据二值化画素计算对位位置,根据对位位置进行色阻的对位。本申请中的对位方法及定位系统中主要依靠色阻颜色(pixelColor)来实现对位功能,色阻颜色对位主要包括颜色识别和中心对位两个步骤,以下进行详细说明。正常的彩膜中色阻包括红色子色阻R、绿色子色阻G、蓝色子色阻B,R、G、B色阻在光源下的光阻特征值存在显著差异,通常情况下G色阻的光阻特征值远高于R色阻和B色阻,通过设定各光阻特征值的阈值和画素的二值化处理,可准确进行色阻定位。因此,首先根据光阻特征值设定画素阙值T,然后根据画素阙值对画素进行二值化处理,得到二值化画素,最后根据二值化画素计算对位位置,根据对位位置进行色阻的对位。其中,本专利技术中的二值化处理可以为全局固定二值化处理或局部自适应二值化处理。全局固定二值化处理就是对整个画素都采用一个统一的画素阙值来进行二值化。具体为:按照画素阙值T1将整个画素上的各个像素点的灰度值设置为0或255;若像素点的像素值大于画素阙值T1则将该像素点的像素值设置为255,否则将该像素点的像素值设置为0。自适应二值化处理则是根据像素点所在窗口的像素值分布来确定该像素位置上的画素阙值。这样做的好处在于每个像素位置处的画素阙值不是固定不变的,而是由其窗口内像素的分布来决定的。具体为:根据像素点所在窗口的像素局部特征计算该像素点对应的画素阙值T2;若该像素点的像素值大于画素阙值T2则将该像素点的像素值设置为255,否则将该像素点的像素值设置为0。优选地,局部自适应二值化中画素阙值T2为:T2=a*E+b*P+c*Q;其中,a、b、c是自由参数,E为窗口中像素值的平均值,P为窗口中像素值之间的差平方,Q为窗口中像素值之间的均方根值。通过对该窗口的局部特征:窗口中像素值的平均值E,窗口中像素值之间的差平方P,窗口中像素值之间的均方根值Q,设定一个参数方程进行阈值的计算,例如:T2=a*E+b*P+c*Q,这样得出来的二值化画素就更能表现出图像中的细节。进一步地,二值化处理后的画素,逻辑计算量测位置,以几何重心为例说明,二值化画素计算对位位置具体为:根据二值化画素的形状确定其几何重心位置,以几何重心位置作为该二值化画素的对位位置。例如,在三角形中,几何重心位置为两条中线的交点;四边形中,几何重心位置为由一条对角线划分的两个三角心的重心的连线与一条中线的交点;平行本文档来自技高网
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基于色阻颜色的对位方法及对位系统

【技术保护点】
1.一种基于色阻颜色的对位方法,其特征在于,所述方法包括:S1、获取各子色阻在光源下的光阻特征值,根据光阻特征值设定画素阙值;S2、根据画素阙值对画素进行二值化处理,得到二值化画素;S3、根据二值化画素计算对位位置,根据对位位置进行色阻的对位。

【技术特征摘要】
1.一种基于色阻颜色的对位方法,其特征在于,所述方法包括:S1、获取各子色阻在光源下的光阻特征值,根据光阻特征值设定画素阙值;S2、根据画素阙值对画素进行二值化处理,得到二值化画素;S3、根据二值化画素计算对位位置,根据对位位置进行色阻的对位。2.根据权利要求1所述的基于色阻颜色的对位方法,其特征在于,所述步骤S2中的二值化处理为:全局固定二值化处理或局部自适应二值化处理。3.根据权利要求2所述的基于色阻颜色的对位方法,其特征在于,所述全局固定二值化处理具体为:按照画素阙值T1将整个画素上的各个像素点的灰度值设置为0或255;若像素点的像素值大于画素阙值T1则将该像素点的像素值设置为255,否则将该像素点的像素值设置为0。4.根据权利要求2所述的基于色阻颜色的对位方法,其特征在于,所述局部自适应二值化处理具体为:根据像素点所在窗口的像素局部特征计算该像素点对应的画素阙值T2;若该像素点的像素值大于画素阙值T2则将该像素点的像素值设置为255,否则将该像素点的像素值设置为0。5.根据权利要求4所述的基于色阻颜色的对位方法,其特征在于,所述局部自适应二值化中画素阙值T2为:...

【专利技术属性】
技术研发人员:严道波
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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