超薄玻璃蚀刻液配方组成比例

本发明专利技术公开了一种超薄玻璃蚀刻液配方，包括按重量份计的以下组分：氢氟酸8‑12份、硫酸4‑6份和水70‑74份。本发明专利技术产出的超薄玻璃厚薄均匀、水波纹清晰，同时通过加入硫酸，极大程度上改善了蚀刻玻璃的表面光亮度。

Formulation of ultra-thin glass etching solution

The invention discloses an ultra-thin glass etching solution formula, which comprises the following components by weight: 8_12 phr of hydrofluoric acid, 4_6 phr of sulfuric acid and 70_74 phr of water. The ultra-thin glass produced by the invention has uniform thickness and clear water ripple, and the surface brightness of the etched glass is greatly improved by adding sulfuric acid.

【技术实现步骤摘要】
超薄玻璃蚀刻液配方
本专利技术属于玻璃生产加工
，具体涉及一种超薄玻璃蚀刻液配方。
技术介绍
目前没有准确、具体的超薄玻璃蚀刻液配方，每个厂家使用的蚀刻液就其配方组分、浓度、使用条件等参差不齐，产出的产品质量也参差不齐，对产品的质量没有保障，同时现有的蚀刻液配方在蚀刻时，容易造成资源的浪费，从而蚀刻出的产品经济效益不高。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题便是针对上述现有技术的不足，提供一种超薄玻璃蚀刻液配方，它能有效保证蚀刻后产品的质量，同时能减少资源的浪费。本专利技术所采用的技术方案是：一种超薄玻璃蚀刻液配方，包括按重量份计的以下组分：氢氟酸8-12份、硫酸4-6份和水70-74份。作为优选，所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸10份、硫酸5.3份和水71.7份。作为优选，所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸8份、硫酸4份和水70份。作为优选，所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸12份、硫酸6份和水74份。一种超薄玻璃蚀刻液配方的制备方法，包括以下步骤：(1)按比例选取氢氟酸、硫酸和水；(2)先将水注入蚀刻池中，再向蚀刻池中加入氢氟酸和硫酸；(3)将混合液加热至30-40℃并混合均匀，即得上述蚀刻液。作为优选，所述蚀刻池包括池体，所述池体底部等间距设有数个支撑块，支撑块上等间距嵌有数根沿池体长度方向设置的曝气管，数根曝气管通过输气管外接有鼓风机，所述池体内还设有电加热棒和温度传感器，池体外壁设有纵横交错的加强筋和PLC控制器。本专利技术产出的超薄玻璃厚薄均匀、水波纹清晰，同时通过加入硫酸，极大程度上改善了蚀刻玻璃的表光，硫酸的添加量决定了玻璃的韧性及表光光亮程度。附图说明图1为本专利技术蚀刻池的结构示意图。图中：1、池体；2、支撑块；3、曝气管；4、鼓风机；5、电加热棒。具体实施方式下面将结合附图及具体实施例对本专利技术作进一步详细说明。实施例1如图1所示，本实施例提供的超薄玻璃蚀刻液配方，选取按重量份计的氢氟酸10份、硫酸5.3份和水71.7份，将选取的水、硫酸和氢氟酸依次注入蚀刻池中，通过蚀刻池中的曝气管3进行曝气鼓泡，并通过电加热棒5加热升温至30-40℃，从而使得氢氟酸、硫酸和水充分混合，充分混匀后即制得蚀刻液，电加热棒5将蚀刻液的温度控制在30-40℃，便于蚀刻液在混匀后能立刻进行蚀刻工作。所述蚀刻池包括池体1，所述池体1底部等间距设有数个支撑块2，支撑块2上等间距嵌有数根沿池体1长度方向设置的曝气管3，数根曝气管3通过输气管外接有鼓风机4，所述池体1内还设有电加热棒5和温度传感器，池体1外壁设有纵横交错的加强筋和PLC控制器。上述蚀刻液用于超薄玻璃的蚀刻，其蚀刻过程中的蚀刻温度控制在30-40℃，蚀刻时间为30-60min，蚀刻过程中蚀刻池内的曝气管3持续对蚀刻液进行曝气鼓泡。上述蚀刻液用于超薄玻璃的蚀刻，其极大程度上改善了玻璃的表光，通过精确的控制硫酸的添加量，能有效提高玻璃的表面光亮度；若是添加硫酸过多，会降低玻璃的韧性，造成玻璃容易碎裂，添加硫酸过少，会降低玻璃的表光，使得玻璃表面出现发蒙、发雾现象；因此硫酸的添加量直接决定的蚀刻出的产品的质量。实施例2本实施例与实施例1基本相同，仅是对蚀刻液组分的配比作出了改变，所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸8份、硫酸4份和水70份。相较于实施例1，本实施例产出的超薄玻璃，其表面光亮度低于实施例1产出的产品，但不会出现发蒙、发雾现象，其韧性高于实施例1产出的产品。实施例3本实施例与实施例1基本相同，仅是对蚀刻液组分的配比作出了改变，所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸12份、硫酸6份和水74份。相较于实施例1，本实施例产出的超薄玻璃，其表面光亮度与实施例1产出的产品相同，其韧性低于实施例1产出的产品，更易碎裂。对比实施例1本实施例与实施例1基本相同，仅是对蚀刻液组分的配比作出了改变，所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸10份、硫酸2份和水71.7份。相较于实施例1，本实施例产出的超薄玻璃表面出现发蒙、发雾现象。对比实施例2本实施例与实施例1基本相同，仅是对蚀刻液组分的配比作出了改变，所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸10份、硫酸8份和水71.7份。相较于实施例1，本实施例产出的超薄玻璃脆性更高，单边拿持更易破碎。以上所述仅是本专利技术优选的实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此，任何基于本专利技术所提供的技术方案和专利技术构思进行的改造和替换都应涵盖在本专利技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超薄玻璃蚀刻液配方，其特征在于：包括按重量份计的以下组分：氢氟酸8‑12份、硫酸4‑6份和水70‑74份。

【技术特征摘要】
1.一种超薄玻璃蚀刻液配方，其特征在于：包括按重量份计的以下组分：氢氟酸8-12份、硫酸4-6份和水70-74份。2.根据权利要求1所述的超薄玻璃蚀刻液配方，其特征在于：所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸10份、硫酸5.3份和水71.7份。3.根据权利要求1所述的超薄玻璃蚀刻液配方，其特征在于：所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸8份、硫酸4份和水70份。4.根据权利要求1所述的超薄玻璃蚀刻液配方，其特征在于：所述超薄玻璃蚀刻液配方包括按重量份计的氢氟酸12份、硫酸6份和水74份。5.一种超薄玻璃蚀刻液配方的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：李和平，
申请(专利权)人：成都市欣和风特种玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51