一种低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片以及设置于所述玻璃基片上的镀膜层，所述镀膜层包括氮化硅层、氧化硅介孔膜层、隔音胶片层、金属银层、掺氟氧化锡膜层、石墨层和氮化硅层；所述氮化硅层、氧化硅介孔膜层、隔音胶片层、金属银层、掺氟氧化锡膜层、石墨层和所述氮化硅层依次设置所述玻璃基片外表面。本实用新型专利技术的低辐射镀膜玻璃，采用扩散系数较低的氮化钛作为保护基层，可以使膜层在高温下进行钢化热处理；设置的隔音胶片既提高了玻璃的隔音效果，又提高了粘接性能。

【技术实现步骤摘要】
一种低辐射镀膜玻璃
本技术涉及一种玻璃，尤其涉及一种低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃，是采用高科技的真空磁控溅射技术，在大型玻璃基板上镀纳米级(1纳米＝0.000001毫米)厚度的银膜及多层氧化物增透膜制造的。根据不同气候环境下使用要求，可以制作可见光透过率在40％～80％之间的一系列不同型号的产品。用一片低辐射镀膜玻璃和另一片玻璃间隔12毫米气体层制作的中空玻璃具有神奇的节能效果，夏季它反射和阻隔太阳光中的近红外辐射和室外环境中的远红外辐射(远红外辐射也叫做热辐射)，保持室内清凉舒适；冬季它反射和阻隔室内暖气发出的远红外辐射，维持温暖的室内温度。这一切归功于银膜的高红外反射性能和中空内部气体的低对流性能的完美组合。低辐射玻璃的神奇之处在于，不仅保持良好的采光功能，而且像热反射玻璃那样有效阻挡太阳直接热辐射，更难能可贵的是不论白天还是黑夜始终发挥着阻挡热辐射的作用。低辐射镀膜中空玻璃，可以大量用于大型建筑玻璃幕墙和民用住宅的玻璃门窗，也可以用在透视性和隔热性要求很高的展览馆、商场等公众活动场所，还可以用于保持低温的冰柜的玻璃窗。低辐射镀膜玻璃还可以做成夹层玻璃使用，这种玻璃除了具有一定的阻挡太阳辐射的功能外，还具有相当优秀的保安性能和隔音性能。当夹胶玻璃受到外力袭击时，韧性很好的PVB胶片能迅速地吸收能量，并保持玻璃碎片完整地粘在一起，因此它能够抵御枪弹、地震、台风、冰雹的伤害，阻止破门、破窗入室的犯罪行为。PVB胶片在阻隔声波方面也起着重要的作用，使夹胶玻璃产品降低外界噪音30分贝以上。低辐射(low-e)镀膜玻璃具有透过可见光和反射红外线的优点，从而可以明显地降低汽车的空调能耗以及提高驾驶员和乘客的舒适度，因此作为一种绿色环保产品在建筑和交通工具上面有巨大的市场需求。银基低辐射镀膜玻璃的核心材料是一层或者多层的银(Ag)层，由于银(Ag)层容易被腐蚀和氧化，所以必须在银(Ag)层的上、下方都沉积有能够透过可见光的透明介质层；这些介质层必须致密性好、热稳定性高，从而为银层提供足够的热、力和化学保护。在银基低辐射镀膜玻璃的介质层中，最靠近玻璃基板的介质层和最远离玻璃基板的银层上方的介质层对银层的保护特别重要，特别是最靠近玻璃基板的介质层必须能够在高温下阻隔来自玻璃中的碱金属离子和氧原子的渗透作用。另一方面，这些介质层也能够起到对可见光的减反射作用，与银层结合在一起实现可见光较好的透过和反射特性。现有技术中的镀膜玻璃通常隔音效果较差并且硬度较低，玻璃的使用寿命短，因此，有必要对现有的玻璃进行进一步地改进。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术的不足，提供一种低辐射镀膜玻璃。本技术是通过以下技术方案实现的：一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片以及设置于所述玻璃基片上的镀膜层，所述镀膜层包括第一氮化硅层、氧化硅介孔膜层、隔音胶片层、金属银层、掺氟氧化锡膜层、石墨层和第二氮化硅层；所述第一氮化硅层、氧化硅介孔膜层、隔音胶片层、金属银层、掺氟氧化锡膜层、石墨层和所述第二氮化硅层依次设置所述玻璃基片外表面。进一步地，所述掺氟氧化锡膜层与所述石墨层之间设置有胶片层。优选地，所述第一氮化硅层的厚度为30～80nm。优选地，所述氧化硅介孔膜层的厚度为40～100nm。优选地，所述隔音胶片层的厚度为5～30nm。优选地，所述金属银层的厚度为1～20nm。优选地，所述掺氟氧化锡膜层的厚度为3～10nm。优选地，所述胶片层的厚度为10～30nm。优选地，所述石墨层的厚度为5～35nm。优选地，所述第二氮化硅层的厚度为7～9nm。本技术的有益效果是：(1)本技术的低辐射镀膜玻璃，采用扩散系数较低的氮化钛作为保护基层，可以使膜层在高温下进行钢化热处理。(2)本技术的低辐射镀膜玻璃，设置的隔音胶片既提高了玻璃的隔音效果，又提高了粘接性能。(3)本技术的低辐射镀膜玻璃，设置的石墨镀膜层，增加了玻璃的硬度，同时具有润滑和缓冲作用，有利于延长玻璃的使用寿命。附图说明为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。图1是本技术的一种低辐射镀膜玻璃结构示意图；其中，图中附图标记对应为：1-玻璃基片，2-第一氮化硅层，3-氧化硅介孔膜层，4-隔音胶片层，5-金属银层，6-掺氟氧化锡膜层，7-胶片层，8-石墨层，9-第二氮化硅层。具体实施方式下面将结合本技术中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。实施例1请参阅图1。如图所示，本技术公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片1以及设置于所述玻璃基片上的镀膜层，所述镀膜层包括第一氮化硅层2、氧化硅介孔膜层3、隔音胶片层4、金属银层5、掺氟氧化锡膜层6、石墨层8和第二氮化硅层9；所述第一氮化硅层2、氧化硅介孔膜层3、隔音胶片层4、金属银层5、掺氟氧化锡膜层6、石墨层8和所述第二氮化硅层9依次设置所述玻璃基片1外表面。所述掺氟氧化锡膜层6与所述石墨层8之间设置有胶片层7，所述第一氮化硅层2的厚度为30nm，所述氧化硅介孔膜层3的厚度为40nm，所述隔音胶片层4的厚度为5nm，所述金属银层5的厚度为1nm；所述掺氟氧化锡膜层6的厚度为3nm，所述胶片层7的厚度为10nm，所述石墨层8的厚度为5nm，所述第二氮化硅层9的厚度为7nm。实施例2本技术公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片1以及设置于所述玻璃基片上的镀膜层，所述镀膜层包括第一氮化硅层2、氧化硅介孔膜层3、隔音胶片层4、金属银层5、掺氟氧化锡膜层6、石墨层8和第二氮化硅层9；所述第一氮化硅层2、氧化硅介孔膜层3、隔音胶片层4、金属银层5、掺氟氧化锡膜层6、石墨层8和所述第二氮化硅层9依次设置所述玻璃基片1外表面。所述第一氮化硅层2的厚度为80nm，所述氧化硅介孔膜层3的厚度为40nm，所述隔音胶片层4的厚度为30nm，所述金属银层5的厚度为20nm，所述掺氟氧化锡膜层6的厚度为10nm，所述石墨层8的厚度为35nm，所述第二氮化硅层9的厚度为9nm。实施例3本技术公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片1以及设置于所述玻璃基片上的镀膜层，所述镀膜层包括第一氮化硅层2、氧化硅介孔膜层3、隔音胶片层4、金属银层5、掺氟氧化锡膜层6、石墨层8和第二氮化硅层9；所述第一氮化硅层2、氧化硅介孔膜层3、隔音胶片层4、金属银层5、掺氟氧化锡膜层6、石墨层8和所述第二氮化硅层9依次设置所述玻璃基片1外表面。所述掺氟氧化锡膜层6与所述石墨层8之间设置有胶片层7，所述第一氮化硅层2的厚度为40nm，所述氧化硅介孔膜层3的厚度为50nm，所述隔音胶片层4的厚度为10nm，所述金属银层5的厚度为10nm，所述掺氟氧化锡膜层6的厚度为8nm，所述胶片层7的厚度为22nm，所述石墨层8的厚度为30nm，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片(1)以及设置于所述玻璃基片上的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层包括第一氮化硅层(2)、氧化硅介孔膜层(3)、隔音胶片层(4)、金属银层(5)、掺氟氧化锡膜层(6)、石墨层(8)和第二氮化硅层(9)；所述第一氮化硅层(2)、氧化硅介孔膜层(3)、隔音胶片层(4)、金属银层(5)、掺氟氧化锡膜层(6)、石墨层(8)和所述第二氮化硅层(9)依次设置于所述玻璃基片(1)外表面。

【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片(1)以及设置于所述玻璃基片上的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层包括第一氮化硅层(2)、氧化硅介孔膜层(3)、隔音胶片层(4)、金属银层(5)、掺氟氧化锡膜层(6)、石墨层(8)和第二氮化硅层(9)；所述第一氮化硅层(2)、氧化硅介孔膜层(3)、隔音胶片层(4)、金属银层(5)、掺氟氧化锡膜层(6)、石墨层(8)和所述第二氮化硅层(9)依次设置于所述玻璃基片(1)外表面。2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述掺氟氧化锡膜层(6)与所述石墨层(8)之间设置有胶片层(7)。3.根据权利要求2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层(2)的厚度为30～80nm。4.根据权利要求3所述的一种低...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄丽莎，顾海波，
申请(专利权)人：江苏奥蓝工程玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32