一种气垫式输送带装置制造方法及图纸

技术编号:18996009 阅读:44 留言:0更新日期:2018-09-22 04:02
本实用新型专利技术公开了一种气垫式输送带装置,包括驱动辊与从动辊,所述驱动辊与从动辊上设有传送带膜,所述传送带膜的内侧设有过渡托辊,所述传送带膜的底部设有下托辊,所述传送带膜的内侧设有气箱,所述气箱连接鼓风机,所述气箱的顶部为盘槽,所述盘槽上设有气孔,所述盘槽与传送带膜之间设有均流板,所述均流板上均匀设有均流孔。本实用新型专利技术通过增大原有的气孔的基础上,在气箱增加均流板结构,利用均流板的均流孔均匀的将气流散布在传送带膜上,从而形成均衡的气垫支撑结构,同时,均流板侧面的均流孔增大,有效的保障了凹槽传送带的结构,防止物料倾洒。

【技术实现步骤摘要】
一种气垫式输送带装置
本技术涉及物料输送设备领域,尤其涉及一种气垫式输送带装置。
技术介绍
物料输送设备一直是工业生产中必不可少的设施,主要用于散料的输送,其能够实现短距离物料输送或者直接填料,方便快捷,承载量大。但是,现有的传送带装置,由于其机械结构传动紧密,皮带与机械部件的摩擦大,因此,使用过程中对设备的磨损大,过大的摩擦力直接影响到驱动设备的功耗,影响设备的使用寿命,同时,设备传动之间的摩擦容易产生噪音,噪音污染影响工作环境。现有的传送设备中提供了一种新型的传送带装置,气垫式传送带,其通过传送带底部的气箱,气箱内的气体向传送带流动,从而使原有的传送带轨道与传送带之间形成气垫支撑,如此,在传动过程中,减少摩擦,提高传动速度,减少噪音,应用效果好。但是,现有的气垫传送带装置,均为在气箱上直接开设通气孔,气流与传送带接触,在实际使用过程中,如果气箱上的通气孔开设过少,其单孔气流强度大,导致各方气流不均衡,对于平板型的传送带影响相对较小,但是,对于凹槽型传送带装置,槽底与侧面受力不均,容易发生物料倾洒的现象,且传送速度不能过快;如果气箱上的通气孔开设过多,气流强度大并且能够使传送带受力均衡,但是,气箱的容积有限,必须不断的通过鼓气设备提供起源,且气体流失过快,这样就需要大功率的补气设备,补气设备需要消耗较大的功率,而增加成本。
技术实现思路
为解决现有技术中存在的不足,本技术提供了一种气垫式输送带装置,其能够解决传统气垫传送带的受力不均或者必须要求有大功率动力源提供气体的问题,从而实现传送带装置在使用常规动力源的情况下还能够运行稳定的目的。本技术的目的是通过以下技术方案实现的:一种气垫式输送带装置,包括驱动辊与从动辊,所述驱动辊与从动辊上设有传送带膜,所述传送带膜的内侧设有过渡托辊,所述传送带膜的底部设有下托辊,所述传送带膜的内侧设有气箱,所述气箱连接鼓风机,所述气箱的顶部为盘槽,所述盘槽上设有气孔,所述盘槽与传送带膜之间设有均流板,所述均流板上均匀设有均流孔。进一步的,所述均流板的结构与盘槽的结构相同,其固定在气箱上。进一步的,所述均流板上的均流孔由其中间位置至边侧逐渐变大。本技术的有益效果是:本技术通过增大原有的气孔的基础上,在气箱增加均流板结构,利用均流板的均流孔均匀的将气流散布在传送带膜上,从而形成均衡的气垫支撑结构,同时,均流板侧面的均流孔增大,有效的保障了凹槽传送带的结构,防止物料倾洒。附图说明图1是本技术实施例提供气垫式输送带装置的结构示意图;图2是图1的中间截面去除部分结构的放大图;图3是图1中均流板的结构示意图。图中:1、驱动辊;2、从动辊;3、传送带膜;4、过渡托辊;5、下托辊;6、气箱;7、鼓风机;8、盘槽;9、气孔;10、均流板;11、均流孔。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围,仅仅表示本技术的选定实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。如图1、图2所示,其示出了本技术实施例提供气垫式输送带装置,包括驱动辊1与从动辊2,驱动辊1与从动辊2上设有传送带膜3,传送带膜3的内侧设有过渡托辊4,传送带膜3的底部设有下托辊5,传送带膜3的内侧设有气箱6,气箱6连接鼓风机7,气箱6的顶部为盘槽8,盘槽8上设有气孔9,盘槽8与传送带膜3之间设有均流板10,均流板10上均匀设有均流孔11,气孔9的孔径为均流孔11的2倍。其中,鼓风机7为气箱6内提供足够的气体动力源,由于均流孔11的孔径变小,气体通过气孔9后会短暂停留在盘槽8与均流板10之间的空间内,并逐渐扩充至整个空间内,在经过均流孔11向传送带膜3的一侧排出,由于均流孔11较小,其压力增大,保证均流板10与传送带膜3之间形成气垫。进一步优选的,均流板10的结构与盘槽8的结构相同,其固定在气箱6上,能够确保气体在操盘与均流板10之间完全扩散开,同时,结构相同保障受力均衡。跟进一步优选的,均流板10上的均流孔11由其中间位置至边侧逐渐变大,由于传送带膜3的边侧为开放式的,与空气直接接触,因此边侧的均流孔11的出气很容易与空气汇合而降低支撑强度,其变大的口径使气流相较于中间的气流缓和,中间气流快速扩散并与边侧的缓气流融合向外流动,能够确保传送带的边侧始终处于高气流支撑状态,有效的避免其倾洒物料的现象。本技术在实际应用过程中,其安装在主体支架上,必要时,可以在皮带上方加设防护罩,形成封闭式输送皮带,本技术的气垫式输送带装置,其运行稳定,产生的噪音少,并且对气源要求不高。最后应说明的是:以上所述的各实施例仅用于说明本技术的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或全部技术特征进行等同替换;而这些修改或替换,并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气垫式输送带装置,其特征在于:包括驱动辊与从动辊,所述驱动辊与从动辊上设有传送带膜,所述传送带膜的内侧设有过渡托辊,所述传送带膜的底部设有下托辊,所述传送带膜的内侧设有气箱,所述气箱连接鼓风机,所述气箱的顶部为盘槽,所述盘槽上设有气孔,所述盘槽与传送带膜之间设有均流板,所述均流板上均匀设有均流孔。

【技术特征摘要】
1.一种气垫式输送带装置,其特征在于:包括驱动辊与从动辊,所述驱动辊与从动辊上设有传送带膜,所述传送带膜的内侧设有过渡托辊,所述传送带膜的底部设有下托辊,所述传送带膜的内侧设有气箱,所述气箱连接鼓风机,所述气箱的顶部为盘槽,所述盘槽上设有气孔,所述盘槽与...

【专利技术属性】
技术研发人员:易善伟姚春林
申请(专利权)人:北京燕顺联合化工物流有限公司
类型:新型
国别省市:北京,11

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