电子设备、金属中框及其表面处理方法技术

本申请公开了一种电子设备、金属中框及其表面处理方法，金属中框的表面处理方法包括：对本体部的外表面进行喷砂处理；对喷砂处理后的本体部的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，以使本体部的外表面具有第一渐变色氧化层；采用镭雕设备对设有第一渐变色层的镭雕区域进行镭雕，以在镭雕区域形成外观纹理；对具有外观纹理的镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，以使镭雕区域具有第二渐变色氧化层。根据本申请的金属中框的表面处理方法，采用喷砂对本体部表面进行处理，降低了生产成本。采用镭雕工艺可以在镭雕区域形成预定的外观纹理。而且，金属中框具有第一渐变色氧化层和第二渐变氧化层，提高了金属中框的外观美观性。

Electronic equipment, metal middle frame and surface treatment method thereof

The application discloses an electronic device, a metal frame and a surface treatment method thereof. The surface treatment method of the metal frame includes: sandblasting treatment of the outer surface of the body part; first gradient color anodizing treatment of the outer surface of the body part after sandblasting treatment, so that the outer surface of the body part has a first gradient color. The color oxidation layer; the radium carving area with the first gradient layer is carved by the radium carving equipment to form the appearance texture in the radium carving area; the radium carving area with the appearance texture is treated by the second gradient anodic oxidation to make the radium carving area have the second gradient oxide layer. According to the surface treatment method of the metal frame, the body surface is treated by sandblasting, thereby reducing the production cost. Using the radium carving process, a predetermined texture can be formed in the radium carving area. Furthermore, the metal frame has a first gradient oxide layer and a second gradient oxide layer, which improves the appearance of the metal frame.

【技术实现步骤摘要】
电子设备、金属中框及其表面处理方法
本申请涉及通讯设备
，尤其涉及一种电子设备、金属中框及其表面处理方法。
技术介绍
相关技术中，电子设备的中框采用铝合金材料，通过CNC加工成金属框体，随后进行表面喷砂，一次阳极氧化上色，CNC精铣外观面，二次阳极氧化上色等工艺。上述技术方案中，存在如下技术缺陷：采用CNC精铣外观面时，由于夹具定位误差及打磨去除量不一致等因素，影响外观面的一致性；切削交接线会形成断差，影响电子设备的握持手感；CNC加工有刀纹问题，影响金属中框的外观美观性；CNC加工成本高，无法实现复杂的纹理。另外，相关技术中，电子设备的中框采用单色外观，形式单一，影响电子设备的外观美观性和用户体验。申请内容本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种金属中框的表面处理方法，所述处理方法具有成本低、效率高的优点。本申请还提出一种金属中框，所述金属中框具有结构简单、外观美观的优点。本申请还提出一种电子设备，所述电子设备包括上述所述的金属中框。根据本申请实施例的金属中框的表面处理方法，所述金属中框包括：本体部，所述本体部上设有镭雕区域，所述金属中框的表面处理方法包括：对所述本体部的外表面进行喷砂处理；对喷砂处理后的所述本体部的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，以使所述本体部的外表面具有第一渐变色氧化层；采用镭雕设备对设有所述第一渐变色氧化层的所述镭雕区域进行镭雕，以在所述镭雕区域形成外观纹理；对具有外观纹理的所述镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，以使所述镭雕区域具有第二渐变色氧化层。根据本申请实施例的金属中框的表面的处理方法，采用喷砂对金属中框的本体部的表面进行处理，可以采用较低的成本对本体部的表面进行清理，使本体部的外观面得到了良好的改善。而且，通过采用镭雕设备对镭雕区域进行镭雕，可以在镭雕区域形成预定的外观纹理。成本低廉、操作方便，并提高了金属中框的外观多样性和外观美观性。另外，通过对本体部进行第一次渐变色阳极氧化处理，对镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，可以使本体部和镭雕区域均具有渐变色视觉效果，提高了金属中框的外观美观性。根据本申请实施例的金属中框，所述金属中框具有本体部，所述本体部包括基板和侧板，所述侧板从所述基板的外周沿的至少一部分相对所述基板向上延伸，所述侧板的至少一部分形成镭雕区域，所述本体部和所述镭雕区域采用上述所述的处理方法进行处理。根据本申请实施例的金属中框，采用喷砂对金属中框的本体部的表面进行处理，可以采用较低的成本对本体部的表面进行清理，使本体部的外观面得到了良好的改善。而且，通过采用镭雕设备对镭雕区域进行镭雕，可以在镭雕区域形成预定的外观纹理。成本低廉、操作方便，并提高了金属中框的外观多样性和外观美观性。另外，通过对本体部进行第一次渐变色阳极氧化处理，对镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，可以使本体部和镭雕区域均具有渐变色视觉效果，从而提高了电子设备的外观美观性。根据本申请实施例的电子设备，包括上述所述的金属中框。根据本申请实施例的电子设备，金属中框采用喷砂、镭雕、渐变色阳极氧化等加工工艺，使金属中框的外观面呈现出具有渐变色的镭雕纹理外观，提高了电子设备的外观美观性。而且，金属中框的加工工艺操作简单、成本低，降低了电子设备的生产成本。另外，通过第一次阳极氧化处理和第二阳极氧化处理，使镭雕区域和除镭雕区域部分外的本体部具有不同的渐变色效果，提高了电子设备的视觉效果。本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。附图说明本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是根据本申请实施例的金属中框的表面处理方法流程图；图2是根据本申请实施例的金属中框的表面处理方法流程图；图3是根据本申请实施例的金属中框的结构示意图；图4是根据本申请实施例的金属中框的侧视图；图5是图4中圈示的A部分的局部放大图；图6是根据本申请另一实施例的金属中框的侧视图；图7是图6中圈示的B部分的局部放大图；图8是根据本申请再一实施例的金属中框的侧视图；图9是图8中圈示的C部分的局部放大图；图10是根据本申请实施例的电子设备的结构示意图。附图标记：中框100，本体部10，基板110，侧板120，镭雕区域121。电子设备500，壳体510，显示组件520。具体实施方式下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。下面参考图1-图10描述根据本申请实施例的电子设备500、金属中框100及其表面的处理方法。根据本申请实施例的金属中框的表面处理方法，根据本申请实施例的金属中框100的表面处理方法，如图3所示，金属中框100包括：本体部10，本体部10上设有镭雕区域121。需要说明的是，镭雕区域121可以是通过镭雕工艺在本体部10上形成具有不同纹理、不同形状的镭雕区域121。镭雕工艺可以是一种利用光学原理进行表面处理的工艺。例如，可以利用镭射光束在镭雕区域121的表面进行雕刻图案、纹理等。采用镭雕工艺加工金属中框100，可以提高金属中框100的设计多样性和外观美观性，而且，可以降低金属中框100的生产成本。如图1所示，金属中框100的表面处理方法包括；对本体部10的外表面进行喷砂处理。需要说明的是，喷砂处理可以理解为利用高速砂流的冲击作用清理和粗化基体表面的过程。采用压缩空气为动力，以形成高速喷射束将喷料(铜矿砂、石英砂、金刚砂、铁砂、海南砂)高速喷射到需要处理的工件表面，使工件表面的外表面的外表或形状发生变化，由于磨料对工件表面的冲击和切削作用，使工件的表面获得一定的清洁度和不同的粗糙度，使工件表面的机械性能得到改善，因此提高了工件的抗疲劳性。通过对本体部10的外表面进行喷砂处理，可以清理本体部10表面的污物(如氧化皮、油污等残留物)，并将本体部10的表面抛光提高金属中框100的光洁度，从而可以使金属中框100漏出均匀一致的金本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述金属中框包括：本体部，所述本体部上设有镭雕区域，所述金属中框的表面处理方法包括：对所述本体部的外表面进行喷砂处理；对喷砂处理后的所述本体部的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，以使所述本体部的外表面具有第一渐变色氧化层；采用镭雕设备对设有所述第一渐变色氧化层的所述镭雕区域进行镭雕，以在所述镭雕区域形成外观纹理；对具有外观纹理的所述镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，以使所述镭雕区域具有第二渐变色氧化层。

【技术特征摘要】
1.一种金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述金属中框包括：本体部，所述本体部上设有镭雕区域，所述金属中框的表面处理方法包括：对所述本体部的外表面进行喷砂处理；对喷砂处理后的所述本体部的外表面进行第一次渐变色阳极氧化处理，以使所述本体部的外表面具有第一渐变色氧化层；采用镭雕设备对设有所述第一渐变色氧化层的所述镭雕区域进行镭雕，以在所述镭雕区域形成外观纹理；对具有外观纹理的所述镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理，以使所述镭雕区域具有第二渐变色氧化层。2.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述本体部具有相互垂直的长度方向和宽度方向，在所述长度方向上对所述本体部的外表面和所述镭雕区域中的至少一个进行渐变色阳极氧化处理。3.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述本体部具有相互垂直的长度方向和宽度方向，在所述宽度方向上对所述本体部的外表面和所述镭雕区域中的至少一个进行渐变色阳极氧化处理。4.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述本体部具有相互垂直的长度方向和宽度方向，所述本体部沿所述长度方向进行第一次渐变色阳极氧化处理，沿与所述长度方向和所述宽度方向具有夹角的方向对所述镭雕区域进行第二次渐变色阳极氧化处理。5.根据权利要求1所述的金属中框的表面处理方法，其特征在于，所述本体部具有相互垂直的长度方向和...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文峰，张涛，
申请(专利权)人：OPPO重庆智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：重庆,50