一种沉积缸清洗装置及离心沉积机制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种沉积缸清洗装置及离心沉积机，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。该沉积缸清洗装置操作简单，节省了人工且清洗效率高。

A deposition cylinder cleaning device and centrifugal deposition machine

The invention discloses a cleaning device and a centrifugal sedimentation machine for a sedimentation cylinder, including a fixing bracket and a cleaning assembly, wherein the fixing bracket is fixedly provided with a linear driving mechanism for driving the cleaning assembly to move in a straight line, and the cleaning assembly comprises a housing which is arranged on the housing. There is a sprinkler head which can rotate 360 degrees and is hollow inside. The rotation direction of the sprinkler head is perpendicular to the linear motion direction of the cleaning assembly. The sedimentation tank cleaning device is simple in operation, saving labor and high cleaning efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种沉积缸清洗装置及离心沉积机
本专利技术涉及沉积
，尤其涉及一种沉积缸清洗装置及离心沉积机。
技术介绍
随着生产技术日益月新，生活水平不断提高，对电子产品功能不断革新换代，必将导致电子元件需求量不断增加，其中电子产品中使用了大量的片式电容、电阻、电感。由于电子产品的功能增多，迫使元器件的体积要求也越来越小，微型化的元器件也随之诞生，传统的0805、0603已不能满足电子产品的要求，0402、0201及更小尺寸的电子元件已经成为主流的元器件产品，以满足体积小、功能多的各种电子产品的需求。为提高耐磨性、抗氧化性等性能，一般需要对电子元件进行沉积处理，使得金属离子沉积于电子元件的表面。电子元件在每次进行沉积处理前，都需要对沉积缸进行清洗。目前都是人工对沉积缸进行清洗，浪费人力，且效率低。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种沉积缸清洗装置及离心沉积机，用以解决现有技术中的问题。为解决上述问题，本专利技术提供了：一种沉积缸清洗装置，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。作为上述技术方案的进一步改进，所述喷头的横截面呈圆形，所述喷头的侧面及底部均设置有出水孔。作为上述技术方案的进一步改进，所述直线驱动机构和所述清洗组件之间设置有提盖机构；所述提盖机构用于提起沉积缸的缸盖。作为上述技术方案的进一步改进，所述提盖机构包括安装板、卡爪组件和用于驱动所述卡爪组件的动力单元；所述直线驱动机构和所述清洗组件分别安装于所述安装板的两侧；所述动力单元固定于所述安装板上，并位于靠近所述清洗组件的一侧；所述卡爪组件位于所述动力单元和所述清洗组件之间。作为上述技术方案的进一步改进，所述卡爪组件包括套筒和位于所述套筒内部的活动爪，其中，所述套筒的侧壁上设置有与所述活动爪相对应的通孔；所述套筒内设置滑动设置有活动芯，所述活动芯用于在所述动力单元的驱动下驱使所述活动爪伸出所述通孔。作为上述技术方案的进一步改进，所述活动芯上设置横截面自上而下逐渐减小的推伸部，所述活动爪与所述推伸部的侧壁相接触；所述动力单元用于驱使所述活动芯进行直线运动，所述活动芯的运动方向与自身的横截面相垂直；所述活动爪的下表面与所述壳体的上表面相贴合且滑动连接，所述活动爪的活动方向与所述活动芯的直线运行方向垂直。作为上述技术方案的进一步改进，所述套筒内设置复位件，所述复位件用于提供复位作用力使所述活动爪缩回所述套筒内。作为上述技术方案的进一步改进，所述固定支架上设置有直线轴承；所述安装板上固定设置有与所述直线轴承一一对应的导向轴，所述导向轴与所述直线轴承滑动连接；所述导向轴与所述清洗组件的直线运动方向平行。作为上述技术方案的进一步改进，所述直线驱动机构为气缸。本专利技术还提供了：一种离心沉积机，包括如上任一项所述的沉积缸清洗装置。本专利技术的有益效果是：本专利技术提出一种沉积缸清洗装置，通过直线驱动机构驱使清洗组件进入到沉积缸内，再启动喷头，喷头进行360°转动，完成对沉积缸的清洗。该沉积缸清洗装置操作简单，节省了人工且清洗效率高。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本专利技术实施例中一种沉积缸清洗装置的示意图；图2为本专利技术实施例中一种清洗组件的示意图；图3为本专利技术实施例中一种提盖机构的示意图；图4为本专利技术实施例中一种卡爪组件的示意图；图5为本专利技术实施例中一种活动芯的示意图；图6为本专利技术实施例中一种活动爪的示意图；图7为本专利技术实施例中一种离心沉积机的示意图。主要元件符号说明：1000-沉积缸清洗装置；1100-固定支架；1110-直线驱动机构；1120-直线轴承；1200-清洗组件；1210-壳体；1220-喷头；1300-提盖机构；1310-安装板；1311-导向轴；1320-卡爪组件；1321-套筒；13211-通孔；1322-活动爪；13221-凹槽；1323-活动芯；13231-圆柱体部；13232-推伸部；13233-凸筋；1330-动力单元；2000-离心沉积机；2100-沉积缸；2200-工作台；2210-横梁；2300-阳极。具体实施方式在下文中，将更全面地描述本专利技术的各种实施例。本专利技术可具有各种实施例，并且可在其中做出调整和改变。然而，应理解：不存在将本专利技术的各种实施例限于在此公开的特定实施例的意图，而是应将本专利技术理解为涵盖落入本专利技术的各种实施例的精神和范围内的所有调整、等同物和/或可选方案。在下文中，可在本专利技术的各种实施例中使用的术语“包括”或“可包括”指示所公开的功能、操作或元件的存在，并且不限制一个或更多个功能、操作或元件的增加。此外，如在本专利技术的各种实施例中所使用，术语“包括”、“具有”及其同源词仅意在表示特定特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合，并且不应被理解为首先排除一个或更多个其它特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合的存在或增加一个或更多个特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合的可能性。在本专利技术的各种实施例中，表述“A或/和B”包括同时列出的文字的任何组合或所有组合，例如，可包括A、可包括B或可包括A和B二者。在本专利技术的各种实施例中使用的表述(诸如“第一”、“第二”等)可修饰在各种实施例中的各种组成元件，不过可不限制相应组成元件。例如，以上表述并不限制所述元件的顺序和/或重要性。以上表述仅用于将一个元件与其它元件区别开的目的。例如，第一用户装置和第二用户装置指示不同用户装置，尽管二者都是用户装置。例如，在不脱离本专利技术的各种实施例的范围的情况下，第一元件可被称为第二元件，同样地，第二元件也可被称为第一元件。应注意到：在本专利技术中，除非另有明确的规定和定义，“安装”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，可以是直接连接，也是可以通过中间媒介间接相连；可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。在本专利技术中，本领域的普通技术人员需要理解的是，文中指示方位或者位置关系的术语为基于附图所示的方位或者位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的各种实施例中使用的术语仅用于描述特定实施例的目的并且并非意在限制本专利技术的各种实施例。除非另有限定，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本专利技术的各种实施例所属领域普通技术人员通常理解的含义相同的含义。所述术语(诸如在一般使用的词典中限定的术语)将被解释为具有与在相关
中的语境含义相同的含义并且将不被解释为具有理想化的含义或过于正式的含义，除非在本专利技术的各种实施例中被清楚地限定。实施例1参阅图1，在本实施例中，提出一种沉积缸清洗装置1000本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种沉积缸清洗装置，其特征在于，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。

【技术特征摘要】
1.一种沉积缸清洗装置，其特征在于，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。2.根据权利要求1所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述喷头的横截面呈圆形，所述喷头的侧面及底部均设置有出水孔。3.根据权利要求1所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述直线驱动机构和所述清洗组件之间设置有提盖机构；所述提盖机构用于提起沉积缸的缸盖。4.根据权利要求3所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述提盖机构包括安装板、卡爪组件和用于驱动所述卡爪组件的动力单元；所述直线驱动机构和所述清洗组件分别安装于所述安装板的两侧；所述动力单元固定于所述安装板上，并位于靠近所述清洗组件的一侧；所述卡爪组件位于所述动力单元和所述清洗组件之间。5.根据权利要求4所述的沉积缸清洗装置，其特征在于，所述卡爪组件包括套筒和位于所述套筒内部的活动爪，其中，所述套筒的侧壁上设置有与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢艺森，廖宝根，
申请(专利权)人：肇庆市格朗自动化科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44