一种全自动硅片清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及自动化技术领域，尤其是一种全自动硅片清洗装置，包括机体，机体的一侧设有进料口，进料口处设有进料机构，机体的另一侧设有出料口，出料口处设有出料机构，机体内设有清洗机构，第一超声清洗槽靠近进料口，清洗机构的两侧均设有两个滚动机构，滚动机构包括两个固定板，固定板之间活动连接有两个第二滚轴，滚动机构之间设有移动板，移动板的两端分别位于第二滚轴之间，第二伸缩杆的输出轴与移动板的一端固定连接，滚动机构之间移动板的上方设有多个第一伸缩杆，连接板位于安装板的上方。此装置减少了劳动力，降低了劳动强度，同时提高了工作效率和提高了硅片的清洗效果，降低了降低生产厂家的生产成本。

A fully automatic silicon wafer cleaning device

The invention relates to the field of automation technology, in particular to an automatic silicon wafer cleaning device, which comprises a body with an inlet on one side of the body, a feed mechanism at the inlet, an outlet on the other side of the body, a discharge mechanism at the outlet, a cleaning mechanism in the body, and a first ultrasonic cleaning trough close to the feed. There are two rolling mechanisms on both sides of the cleaning mechanism. The rolling mechanism includes two fixed plates. The two second rollers are movably connected between the fixed plates. A moving plate is arranged between the rolling mechanism. The two ends of the moving plate are respectively located between the second rollers. The output shaft of the second telescopic rod is fixedly connected with one end of the moving plate. A plurality of first telescopic rods are arranged above the moving plate of the moving mechanism, and the connecting plate is positioned above the mounting plate. The device reduces labor force, reduces labor intensity, improves work efficiency and wafer cleaning effect, and reduces production costs of manufacturers.

【技术实现步骤摘要】
一种全自动硅片清洗装置
本专利技术涉及自动化
，尤其涉及一种全自动硅片清洗装置。
技术介绍
中国光伏市场装机量需求增长迅猛。劳动力短缺、人工成本不断攀升，导致太阳能厂商对自动化设备需求提升，对降低生产成本、提高产品良率有者显著的效果。现清洗设备使用厂商在硅片脱胶后，需要人工插片将清洗篮装满硅片，即花篮装满。然后通过小车周转托入清洗机进料处。待清洗后再由人工周转放入烘箱进行硅片烘干，烘干后再次周转到分选仪设备人工放篮。因此，现有的生产模式过于依赖人海战术，且产能不稳定，为此我们提出了一种全自动硅片清洗装置。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种全自动硅片清洗装置。为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：设计一种全自动硅片清洗装置，包括机体，所述机体的一侧设有进料口，所述进料口处设有进料机构，所述机体的另一侧设有出料口，所述出料口处设有出料机构，所述机体内设有清洗机构，所述清洗机构包括依次设置在机体内底部的第一超声清洗槽、第二超声清洗槽、第一超声碱洗槽、第二超声碱洗槽、第一超声漂洗槽、第二超声漂洗槽、酸洗槽、第三超声漂洗槽和第四超声漂洗槽，所述第一超声清洗槽靠近进料口，所述清洗机构的两侧均设有两个滚动机构，所述滚动机构包括两个固定板，所述固定板之间活动连接有两个第二滚轴，所述滚动机构之间设有移动板，所述移动板的两端分别位于第二滚轴之间，所述机体的内壁上设有第二伸缩杆，所述第二伸缩杆的输出轴与移动板的一端固定连接，所述滚动机构之间移动板的上方设有多个第一伸缩杆，所述第一伸缩杆的上方连接有安装板，所述第一超声清洗槽、第二超声清洗槽、第一超声碱洗槽、第二超声碱洗槽、第一超声漂洗槽、第二超声漂洗槽、酸洗槽、第三超声漂洗槽和第四超声漂洗槽内均设有硅片放置架，所述硅片放置架的两侧均设有连接板，所述连接板位于安装板的上方。优选的，所述进料机构包括设置在机体内的第一支架，并且第一支架位于第一超声清洗槽的一侧，所述第一支架的另一侧通过进料口延伸出去，所述第一支架的上方活动连接多个第一滚轴，所述第一支架靠近第一超声清洗槽的一侧设有限位块。优选的，所述出料机构包括设置在机体内的第二支架，所述第二支架位于第四超声漂洗槽的一侧，所述第二支架的一端通过出料口延伸出去，所述第二支架的上方活动连接两个第三滚轴，所述第三滚轴之间设有传送带，所述机体的一侧设有电机，所述电机的输出轴与第三滚轴的一端均设有皮带轮，所述皮带轮通过皮带连接，所述传送带的上方设有烘干机构。优选的，所述烘干机构包括设置在机体上方的热风风机，所述机体内的顶部固定连接有管体，并且管体位于传送带的上方，所述管体的下方设有多个喷头，所述热风风机的出风口与管体连通。优选的，所述连接板的下方设有多个第一固定齿，所述安装板的上方设有多个第二固定齿，并且第一固定齿分别位于第二固定齿之间。优选的，所述进料口和出料口处机体上均活动连接有活动板。优选的，所述滚动机构之间移动板的底部设有多个滚轮，所述滚轮与机体内的底部接触。优选的，所述机体的底部等距设有多个支脚，并且支脚的底部设有防滑纹。本专利技术提出的一种全自动硅片清洗装置，有益效果在于：本专利技术中，通过将硅片放置架依次放入第一超声清洗槽、第二超声清洗槽、第一超声碱洗槽、第二超声碱洗槽、第一超声漂洗槽、第二超声漂洗槽、酸洗槽、第三超声漂洗槽和第四超声漂洗槽内，从而对硅片进行清洗，通过固定板设置第二滚轴，使得第二伸缩杆带动移动板在第二滚轴上来回移动，通过第一伸缩杆将安装板顶起，通过安装板从而将连接板抬起，使得硅片放置架向上移动，通过第二伸缩杆带动移动板移动，从而带动硅片放置架进行移动，使得硅片放置架移动至下一个清洗槽的上方，再通过第一伸缩杆将硅片放置架放下，从而对硅片进行依次清洗。此装置减少了劳动力，降低了劳动强度，同时提高了工作效率和提高了硅片的清洗效果，降低了降低生产厂家的生产成本。附图说明图1为本专利技术提出的一种全自动硅片清洗装置的结构示意图；图2为本专利技术提出的一种全自动硅片清洗装置的进料机构的结构示意图；图3为本专利技术提出的一种全自动硅片清洗装置的连接板和硅片放置架的结构示意图；图4为本专利技术提出的一种全自动硅片清洗装置的出料机构的结构示意图。图中：活动板1、进料口2、第一支架3、机体4、连接板5、第一固定齿6、第二固定齿7、安装板8、第一伸缩杆9、移动板10、滚轮11、热风风机12、管体13、出料口14、第二支架15、第一超声清洗槽16、第二超声清洗槽17、第一超声碱洗槽18、第二超声碱洗槽19、第一超声漂洗槽20、第二超声漂洗槽21、酸洗槽22、第三超声漂洗槽23、第四超声漂洗槽24、第二伸缩杆25、电机26、第一滚轴27、限位块28、支脚29、第二滚轴30、固定板31、硅片放置架32、传送带33、皮带34、皮带轮35、第三滚轴36、喷头37。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描，显然，描的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。参照图1-4，一种全自动硅片清洗装置，包括机体4，机体4的一侧设有进料口2，进料口2处设有进料机构，进料机构包括设置在机体4内的第一支架3，并且第一支架3位于第一超声清洗槽16的一侧，第一支架3的另一侧通过进料口2延伸出去，第一支架3的上方活动连接多个第一滚轴27，第一支架3靠近第一超声清洗槽16的一侧设有限位块28，机体4的底部等距设有多个支脚29，并且支脚29的底部设有防滑纹，通过进料口2从而硅片放置架32放入机体4内，通过第一支架3设置第一滚轴27，使得硅片放置架32在第一滚轴27上滑动，从而减轻员工的劳动强度，通过限位块28对硅片放置架32进行限位，防止员工用力过猛使得硅片放置架32掉落，通过支脚29将机体4撑起。机体4的另一侧设有出料口14，出料口14处设有出料机构，出料机构包括设置在机体4内的第二支架15，第二支架15位于第四超声漂洗槽24的一侧，第二支架15的一端通过出料口14延伸出去，第二支架15的上方活动连接两个第三滚轴36，第三滚轴36之间设有传送带33，机体4的一侧设有电机26，电机26的输出轴与第三滚轴36的一端均设有皮带轮35，皮带轮35通过皮带34连接，进料口2和出料口14处机体4上均活动连接有活动板1，通过出料口14将清洗后的硅片取出，通过机体4设置第二支架15，通过电机26经过皮带34使得第二支架15上的第三滚轴36进行转动，通过第三滚轴36的转动，使得传送带33进行移动，从而使得物料进行移动，通过活动板1防止灰尘进入到机体4内。传送带33的上方设有烘干机构，烘干机构包括设置在机体4上方的热风风机12，机体4内的顶部固定连接有管体13，并且管体13位于传送带33的上方，管体13的下方设有多个喷头37，热风风机12的出风口与管体13连通，通过热风风机12产生热风，热风进入到管体13内再经过喷头37喷出，作用到硅片上，从而将硅片上的水分烘干。机体4内设有清洗机构，清洗机构包括依次设置在机体4内底部的第一超声清洗槽16、第二超声清洗槽17、第一超声碱洗槽18、第二超声碱洗槽19、第一超声漂洗槽20、第二超声漂洗槽21、酸洗槽22、第三超声漂洗槽23和第四超声漂洗槽24，第一超声本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种全自动硅片清洗装置，包括机体（4），其特征在于，所述机体（4）的一侧设有进料口（2），所述进料口（2）处设有进料机构，所述机体（4）的另一侧设有出料口（14），所述出料口（14）处设有出料机构，所述机体（4）内设有清洗机构，所述清洗机构包括依次设置在机体（4）内底部的第一超声清洗槽（16）、第二超声清洗槽（17）、第一超声碱洗槽（18）、第二超声碱洗槽（19）、第一超声漂洗槽（20）、第二超声漂洗槽（21）、酸洗槽（22）、第三超声漂洗槽（23）和第四超声漂洗槽（24），所述第一超声清洗槽（16）靠近进料口（2），所述清洗机构的两侧均设有两个滚动机构，所述滚动机构包括两个固定板（31），所述固定板（31）之间活动连接有两个第二滚轴（30），所述滚动机构之间设有移动板（10），所述移动板（10）的两端分别位于第二滚轴（30）之间，所述机体（4）的内壁上设有第二伸缩杆（25），所述第二伸缩杆（25）的输出轴与移动板（10）的一端固定连接，所述滚动机构之间移动板（10）的上方设有多个第一伸缩杆（9），所述第一伸缩杆（9）的上方连接有安装板（8），所述第一超声清洗槽（16）、第二超声清洗槽（17）、第一超声碱洗槽（18）、第二超声碱洗槽（19）、第一超声漂洗槽（20）、第二超声漂洗槽（21）、酸洗槽（22）、第三超声漂洗槽（23）和第四超声漂洗槽（24）内均设有硅片放置架（32），所述硅片放置架（32）的两侧均设有连接板（5），所述连接板（5）位于安装板（8）的上方。...

【技术特征摘要】
1.一种全自动硅片清洗装置，包括机体（4），其特征在于，所述机体（4）的一侧设有进料口（2），所述进料口（2）处设有进料机构，所述机体（4）的另一侧设有出料口（14），所述出料口（14）处设有出料机构，所述机体（4）内设有清洗机构，所述清洗机构包括依次设置在机体（4）内底部的第一超声清洗槽（16）、第二超声清洗槽（17）、第一超声碱洗槽（18）、第二超声碱洗槽（19）、第一超声漂洗槽（20）、第二超声漂洗槽（21）、酸洗槽（22）、第三超声漂洗槽（23）和第四超声漂洗槽（24），所述第一超声清洗槽（16）靠近进料口（2），所述清洗机构的两侧均设有两个滚动机构，所述滚动机构包括两个固定板（31），所述固定板（31）之间活动连接有两个第二滚轴（30），所述滚动机构之间设有移动板（10），所述移动板（10）的两端分别位于第二滚轴（30）之间，所述机体（4）的内壁上设有第二伸缩杆（25），所述第二伸缩杆（25）的输出轴与移动板（10）的一端固定连接，所述滚动机构之间移动板（10）的上方设有多个第一伸缩杆（9），所述第一伸缩杆（9）的上方连接有安装板（8），所述第一超声清洗槽（16）、第二超声清洗槽（17）、第一超声碱洗槽（18）、第二超声碱洗槽（19）、第一超声漂洗槽（20）、第二超声漂洗槽（21）、酸洗槽（22）、第三超声漂洗槽（23）和第四超声漂洗槽（24）内均设有硅片放置架（32），所述硅片放置架（32）的两侧均设有连接板（5），所述连接板（5）位于安装板（8）的上方。2.根据权利要求1所述的一种全自动硅片清洗装置，其特征在于，所述进料机构包括设置在机体（4）内的第一支架（3），并且第一支架（3）位于第一超声清洗槽（16）的一侧，所述第一支架（3）的另一侧通过进料口（2）延伸出去，所述第一支架（3）的上方活动连...

【专利技术属性】
技术研发人员：季丽，王松华，聂海洲，余志兵，
申请(专利权)人：浙江海顺新能源有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33